JPH0481701A - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
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- JPH0481701A JPH0481701A JP2195995A JP19599590A JPH0481701A JP H0481701 A JPH0481701 A JP H0481701A JP 2195995 A JP2195995 A JP 2195995A JP 19599590 A JP19599590 A JP 19599590A JP H0481701 A JPH0481701 A JP H0481701A
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Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野］
本発明は反射防止膜に関する。
［従来の技術］
反射防止膜はレンズやプリズム等の透明な光学部品の表
面による反射を防止するために用いられ、従来から種々
のものが提案されている。
面による反射を防止するために用いられ、従来から種々
のものが提案されている。
可視光領域で比較的に低く且つ平坦な反射率を持つ反射
防止膜としては従来から、中心波長λ。
防止膜としては従来から、中心波長λ。
に対しλ。／２の光学的厚さを持った層を、λ。／４の
光学的厚さをもった層で挟むようにした３層構造のもの
が知られている（特開昭５８−６０７０１号公報）。
光学的厚さをもった層で挟むようにした３層構造のもの
が知られている（特開昭５８−６０７０１号公報）。
一方、近来、プラスチックレンズを初めとしてプラスチ
ックの光学部品が広く実用化されつつあるが、プラスチ
ックの光学部品は帯電し易く、微塵等が静電的に吸着さ
れて汚れやすし１という問題がある。
ックの光学部品が広く実用化されつつあるが、プラスチ
ックの光学部品は帯電し易く、微塵等が静電的に吸着さ
れて汚れやすし１という問題がある。
このような帯電の問題を解消するために上記３層構造の
反射防止膜の真中の層を、Ｉｎ２Ｏ３，ＩＴＯ，ＳｎＯ
□、ＺｎＯ等の導電性材料で形成することが提案されて
いる（特開平１−１８０５０１号公報）。
反射防止膜の真中の層を、Ｉｎ２Ｏ３，ＩＴＯ，ＳｎＯ
□、ＺｎＯ等の導電性材料で形成することが提案されて
いる（特開平１−１８０５０１号公報）。
［発明が解決しようとする課題］
上記３層構造の反射防止膜は、真中の層の光学的厚さが
中心波長λ。の１層２倍と大きく、この層を形成するの
に長時間を要し、層形成中に形成装置内の温度が上昇す
ると層の屈折率が設計値から外れ易い。このため上記反
射防止膜は製造上の歩留まりが低く、結果的に反射防止
膜形成のコストが高くなる。
中心波長λ。の１層２倍と大きく、この層を形成するの
に長時間を要し、層形成中に形成装置内の温度が上昇す
ると層の屈折率が設計値から外れ易い。このため上記反
射防止膜は製造上の歩留まりが低く、結果的に反射防止
膜形成のコストが高くなる。
また帯電防止のために上記真中の層に導電性の金属材料
を用いると、真中の層の光吸収率が大きくなるため光学
部品の光透過率は６０〜７０％程度と低くなり反射防止
膜の効果を十分に生かすことができない。
を用いると、真中の層の光吸収率が大きくなるため光学
部品の光透過率は６０〜７０％程度と低くなり反射防止
膜の効果を十分に生かすことができない。
本発明は上述した事情に鑑みてなされたものであって、
比較的低コストで品質を安定して作製でき、しかも光学
部品の帯電の問題を有効に解決でき、尚且つ可視光全領
域で良好な反射防止機能を持つ新規な反射防止膜の提供
を目的とする。
比較的低コストで品質を安定して作製でき、しかも光学
部品の帯電の問題を有効に解決でき、尚且つ可視光全領
域で良好な反射防止機能を持つ新規な反射防止膜の提供
を目的とする。
［課題を解決するための手段］
以下、本発明を説明する。
本発明の反射防止膜は「１．４〜１．９の範囲内の屈折
率を有する透明な光学部品の入射面および／または射出
面に設けられる反射防止膜」であって、光学部品の表面
側から順次、第１乃至第５層を積層してなる。従って第
１層は光学部品表面に接し、第５層は空気に接する。
率を有する透明な光学部品の入射面および／または射出
面に設けられる反射防止膜」であって、光学部品の表面
側から順次、第１乃至第５層を積層してなる。従って第
１層は光学部品表面に接し、第５層は空気に接する。
上記光学部品は「１．４〜１．９の範囲内の屈折率の透
明材料で形成された光学部品、もしくはかかる光学部品
の表面部分を上記屈折率範囲内の材料により表面層を形
成した光学部品」を意味する。
明材料で形成された光学部品、もしくはかかる光学部品
の表面部分を上記屈折率範囲内の材料により表面層を形
成した光学部品」を意味する。
「第１層」は屈折率１．５〜２．５の高屈折率材料によ
り光学的厚さが、中心波長をλ。として（λ。／４）の
０．３〜１．２倍であるように形成される。
り光学的厚さが、中心波長をλ。として（λ。／４）の
０．３〜１．２倍であるように形成される。
「第２層」は屈折率１．３〜２．０の低屈折率材料によ
り光学的厚さが（λ。／４）の０．１〜０．７倍である
ように形成される。
り光学的厚さが（λ。／４）の０．１〜０．７倍である
ように形成される。
「第３層」は屈折率１．５〜２．５の高屈折率材料によ
り光学的厚さが（λｏ／４）の０．３〜１．２倍である
ように形成される。
り光学的厚さが（λｏ／４）の０．３〜１．２倍である
ように形成される。
「第４層」は金属を含み屈折率１．５〜２．５の高屈折
率材料により光学的厚さが（λ。／４）の０．１〜０．
５倍であるように形成される。
率材料により光学的厚さが（λ。／４）の０．１〜０．
５倍であるように形成される。
「第５層」は屈折率１．３〜２．０の低屈折率材料によ
り光学的厚さが（λｏ／４）の０．７〜１．６倍である
ように形成される。
り光学的厚さが（λｏ／４）の０．７〜１．６倍である
ように形成される。
本発明の反射防止膜は、一般には「光学部品」の入射面
と射出面とに設けられる。このようにすることにより光
学部品の光透過率を高めることができる。光学部品の用
途によっては入射面・射出面のうちの一方にのみ設ける
場合もあり得る。また光学部品がコーナーキューブのよ
うな場合には入射面が同時に射出面であるのでこの場合
は射出面を兼ねた入射面に設けることになる。
と射出面とに設けられる。このようにすることにより光
学部品の光透過率を高めることができる。光学部品の用
途によっては入射面・射出面のうちの一方にのみ設ける
場合もあり得る。また光学部品がコーナーキューブのよ
うな場合には入射面が同時に射出面であるのでこの場合
は射出面を兼ねた入射面に設けることになる。
［作 用］
本発明の反射防止膜は上述のように５層構造であるが、
各層の光学的厚さは中心波長λ。の１層４倍を単位とし
て平均して上記単位の０．１〜１．６倍程度であるから
各層の形成に然程の長時間を要しない。
各層の光学的厚さは中心波長λ。の１層４倍を単位とし
て平均して上記単位の０．１〜１．６倍程度であるから
各層の形成に然程の長時間を要しない。
また第４層は金属を含む材料で構成されるから反射防止
膜を低電気抵抗に形成できる。
膜を低電気抵抗に形成できる。
本発明の反射防止膜の基本的構成を第１．第３図と第５
図を参照して具体的に説明する。
図を参照して具体的に説明する。
第１図で符号１は透明な平行平板を示す。この平行平板
１は具体的には屈折率１．５０４のＣＲ−３９の透明基
板の表面に屈折率１．５９６の透明膜をデイピング法で
形成したものである。
１は具体的には屈折率１．５０４のＣＲ−３９の透明基
板の表面に屈折率１．５９６の透明膜をデイピング法で
形成したものである。
平行平板１の両面には本発明の反射防止膜１２．１３が
形成されている。これら反射防止膜１２．１３は５層構
造であり、反射防止膜１２は第１層２．第２層３．第３
層４．第４層５．第５層６により構成され、反射防止膜
１３は第１層７．第２層８，３層９．第４層１０．第５
層１１により構成されている。
形成されている。これら反射防止膜１２．１３は５層構
造であり、反射防止膜１２は第１層２．第２層３．第３
層４．第４層５．第５層６により構成され、反射防止膜
１３は第１層７．第２層８，３層９．第４層１０．第５
層１１により構成されている。
第１層２．７は、屈折率１．７〜２．５を持つＴｉＯ３
またはＣｅＯ２を材料として形成され、光学的厚さは中
心波長λ。＝５００〜５５０ｎｍに対して（λ。／４）
の０．３〜１．２倍に設定される。
またはＣｅＯ２を材料として形成され、光学的厚さは中
心波長λ。＝５００〜５５０ｎｍに対して（λ。／４）
の０．３〜１．２倍に設定される。
第２層３，８は、屈折率１．５〜１．９を持つＳｉＯの
薄膜であり、光学的厚さは中心波長λ。＝５００〜５５
０ｎｍに対して（λ。／４）の０．１〜０．７倍に設定
される。なお第２層３，８にはＳｉＯの他にＳｉが混入
しており、この８１の混入量の多寡により屈折率が１．
５〜１．９の範囲で変動する。
薄膜であり、光学的厚さは中心波長λ。＝５００〜５５
０ｎｍに対して（λ。／４）の０．１〜０．７倍に設定
される。なお第２層３，８にはＳｉＯの他にＳｉが混入
しており、この８１の混入量の多寡により屈折率が１．
５〜１．９の範囲で変動する。
第３層４，９は、屈折率１．７〜２．５を持つＴｉＯ□
またはＣｅ０ｚを材料として形成され、光学的厚さは中
心波長λ。＝５００〜５５００ｍに対して（λ。／４）
の０．３〜１．２倍に設定される。
またはＣｅ０ｚを材料として形成され、光学的厚さは中
心波長λ。＝５００〜５５００ｍに対して（λ。／４）
の０．３〜１．２倍に設定される。
第４層５．１０は、屈折率１．９５〜２．０５を持つＩ
ｎ２Ｏ３またはＩＴ○を材料として形成され、光学的厚
さは中心波長λ。＝４００〜６００ｎｍに対して（λ。
ｎ２Ｏ３またはＩＴ○を材料として形成され、光学的厚
さは中心波長λ。＝４００〜６００ｎｍに対して（λ。
／４）の０゜１〜０．５倍に設定される。
第５層６，１１は屈折率１．３〜１．５を持つ５ｉｎ２
を材料として形成され、光学的厚さは中心波長λ。＝
５００〜５５０ｎｍに対して（λｏ／４）の０．７〜１
．６倍に設定される。
を材料として形成され、光学的厚さは中心波長λ。＝
５００〜５５０ｎｍに対して（λｏ／４）の０．７〜１
．６倍に設定される。
従って屈折率の大小関係は、第１層が高屈折率、第２層
が低屈折率、第３層が高屈折率、第４層が高屈折率、第
５層が低屈折率である。
が低屈折率、第３層が高屈折率、第４層が高屈折率、第
５層が低屈折率である。
第１図のように反射防止膜１２．１３を形成されたＣＲ
−３９の平行平板に光を照射した場合の分光反射率は第
３図に示す如くであり、分光透過率は第５図に示す如く
である。
−３９の平行平板に光を照射した場合の分光反射率は第
３図に示す如くであり、分光透過率は第５図に示す如く
である。
これらの図から明かなように、可視光の全域にわたって
反射率は１％以下で可視光域内に反射光特有のピークを
有し、透過率は９８％以上である。
反射率は１％以下で可視光域内に反射光特有のピークを
有し、透過率は９８％以上である。
また表面電気抵抗率は１０８Ω／−以下である。
「実施例コ
以下、具体的な実施例を説明する。
第２図に於いて符号２１はＣＲ−３９で形成されたレン
ズを示している。
ズを示している。
レンズ２１の両面に反射防止膜３２．３３が形成されて
いる。
いる。
反射防止膜３２は、第１層２２．第２層２３．第３層２
４、第４層２５．第５層２６により構成され、反射防止
膜３３は、第１層２７．第２層２８．第３層２９．第４
層３０．第５層３１により構成されている。
４、第４層２５．第５層２６により構成され、反射防止
膜３３は、第１層２７．第２層２８．第３層２９．第４
層３０．第５層３１により構成されている。
第１層２２．２７は、屈折率１．８０〜２．２０を持つ
ＴｉＯ２を材料として形成され光学的厚さは中心波長λ
。
ＴｉＯ２を材料として形成され光学的厚さは中心波長λ
。
＝５００〜５５０ｎｍに対して（λｏ／４）の０．３〜
０．７倍に設定される。
０．７倍に設定される。
第２層２３．２８は、屈折率１．５０〜１．８０を持つ
ＳｉＯの薄膜であり、光学的厚さは中心波長λ。＝ ５
００〜５５０ｎｍに対しくλ。／４）の０．１〜０．５
倍に設定される。
ＳｉＯの薄膜であり、光学的厚さは中心波長λ。＝ ５
００〜５５０ｎｍに対しくλ。／４）の０．１〜０．５
倍に設定される。
第３層２４．２９は、屈折率１．８０〜２．２０の屈折
率を持つＴｉＯ２を材料として形成され、光学的厚さは
中心波長λ。＝５００〜５５０ｎｍに対して（λ。／４
）の０．３〜０゜７倍に設定される。
率を持つＴｉＯ２を材料として形成され、光学的厚さは
中心波長λ。＝５００〜５５０ｎｍに対して（λ。／４
）の０．３〜０゜７倍に設定される。
第４層２５．３０は、屈折率１．９５〜２．０５を持つ
Ｉｎ２Ｏ３を材料として形成され光学的厚さは中心波長
λ。
Ｉｎ２Ｏ３を材料として形成され光学的厚さは中心波長
λ。
＝５００〜５５０ｎｍに対して（λ。／４）の０．１〜
０．５倍に設定される。
０．５倍に設定される。
第５層２６．３１は、屈折率１．３５〜１．５０を持つ
ＳｉＯ２の薄膜であり、光学的厚さは中心波長λ。＝
５００〜５５０ｎｍに対しくλ。／４）の０．８〜１．
５倍に設定される。
ＳｉＯ２の薄膜であり、光学的厚さは中心波長λ。＝
５００〜５５０ｎｍに対しくλ。／４）の０．８〜１．
５倍に設定される。
この実施例光学部品に於ける分光反射率を第４図に示す
。可視光の広範な領域に於いて反射率は１％以下であり
、可視光域内に特有の反射光特性のピークを持ち、ピー
クに於ける反射率は０．８ｚ程度であり、波長４３０ｎ
ｍ、 ６３０ｎｍ付近の反射率は０％である。透過率は
可視光の広範な領域で９８％以上で表面電気抵抗率は１
０８Ω／四以下であった。
。可視光の広範な領域に於いて反射率は１％以下であり
、可視光域内に特有の反射光特性のピークを持ち、ピー
クに於ける反射率は０．８ｚ程度であり、波長４３０ｎ
ｍ、 ６３０ｎｍ付近の反射率は０％である。透過率は
可視光の広範な領域で９８％以上で表面電気抵抗率は１
０８Ω／四以下であった。
Ｕ発明の効果コ
以上、本発明によれば新規な反射防止膜を提供できる。
この反射防止膜は、これを構成する５層の膜が何れも薄
く比較的短時開で膜形成できるから反射防止膜形成中の
膜形成装置中の温度上昇に伴う膜の屈折率変化を小さく
でき、品質の安定したものを容易に量産することができ
る。
く比較的短時開で膜形成できるから反射防止膜形成中の
膜形成装置中の温度上昇に伴う膜の屈折率変化を小さく
でき、品質の安定したものを容易に量産することができ
る。
また５層構造としたことに伴い、第１〜第４層の屈折率
範囲と膜厚の範囲が広くなり、膜材料の選択の自由度が
大きい。
範囲と膜厚の範囲が広くなり、膜材料の選択の自由度が
大きい。
また光学部品の帯電を良好に防止でき、尚且つ可視光の
広範な領域で極めて高い透過率と良好な反射防止機能と
を実現できる。
広範な領域で極めて高い透過率と良好な反射防止機能と
を実現できる。
第１図は本発明の反射防止膜の基本構成を説明するため
の図、第２図は本発明の１実施例を説明するための図、
第３図及び第４図は第１図及び第２図に対応した分光反
射率特性を示す図、第５図は第１図に対応した分光透過
率特性を示す図である。 ２１、、、光学部品としてのＣＲ−３９のレンズ、３２
．３３． 、 。 反射防止膜、２２．２７． 、 、第１層、２３．２８
． 、 、第２層、２４．２９．、、第３層、２５．３
０． 、 、第４層、２６．３１． 、 、第５形 齋Ｚ幻
の図、第２図は本発明の１実施例を説明するための図、
第３図及び第４図は第１図及び第２図に対応した分光反
射率特性を示す図、第５図は第１図に対応した分光透過
率特性を示す図である。 ２１、、、光学部品としてのＣＲ−３９のレンズ、３２
．３３． 、 。 反射防止膜、２２．２７． 、 、第１層、２３．２８
． 、 、第２層、２４．２９．、、第３層、２５．３
０． 、 、第４層、２６．３１． 、 、第５形 齋Ｚ幻
Claims (1)
- １．４〜１．９の範囲内の屈折率を有する透明な光学部
品の入射面および／または射出面に設けられる反射防止
膜であって、 光学部品の表面側から順次、第１乃至第５層を積層して
なり、 第１層は屈折率１．５〜２．５の高屈折率材料により光
学的厚さが、中心波長をλ＿０として（λ＿０／４）の
０．３〜１．２倍であるように形成され、 第２層は屈折率１．３〜２．０の低屈折率材料により光
学的厚さが（λ＿０／４）の０．１〜０．７倍であるよ
うに形成され、 第３層は屈折率１．５〜２．５の高屈折率材料により光
学的厚さが（λ＿０／４）の０．３〜１．２倍であるよ
うに形成され、 第４層は金属を含み屈折率１．５〜２．５の高屈折率材
料により光学的厚さが（λ＿０／４）の０．１〜０．５
倍であるように形成され、 第５層は屈折率１．３〜２．０の低屈折率材料により光
学的厚さが（λ＿０／４）の０．７〜１．６倍であるよ
うに形成されたことを特徴とする、反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2195995A JP2915513B2 (ja) | 1990-07-24 | 1990-07-24 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2195995A JP2915513B2 (ja) | 1990-07-24 | 1990-07-24 | 反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0481701A true JPH0481701A (ja) | 1992-03-16 |
| JP2915513B2 JP2915513B2 (ja) | 1999-07-05 |
Family
ID=16350474
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2195995A Expired - Fee Related JP2915513B2 (ja) | 1990-07-24 | 1990-07-24 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2915513B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10227261B2 (en) | 2015-02-27 | 2019-03-12 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Oxide sintered compact, oxide sputtering target, and oxide thin film |
-
1990
- 1990-07-24 JP JP2195995A patent/JP2915513B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10227261B2 (en) | 2015-02-27 | 2019-03-12 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Oxide sintered compact, oxide sputtering target, and oxide thin film |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2915513B2 (ja) | 1999-07-05 |
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