JPH0481996B2 - - Google Patents
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- JPH0481996B2 JPH0481996B2 JP60012191A JP1219185A JPH0481996B2 JP H0481996 B2 JPH0481996 B2 JP H0481996B2 JP 60012191 A JP60012191 A JP 60012191A JP 1219185 A JP1219185 A JP 1219185A JP H0481996 B2 JPH0481996 B2 JP H0481996B2
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- Japan
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- compound
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- alkyl group
- solvent
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D513/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for in groups C07D463/00, C07D477/00 or C07D499/00 - C07D507/00
- C07D513/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for in groups C07D463/00, C07D477/00 or C07D499/00 - C07D507/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D513/10—Spiro-condensed systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/685—Compositions containing spiro-condensed pyran compounds or derivatives thereof, as photosensitive substances
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、新規な3,3−ジメチル−スピロ
〔インドリノ−2,3′−ナフト〔2,1−b〕
(1,4)オキサジン〕系化合物に関するもので
ある。 詳しくは、各種の記録・記憶材料、複写材料、
印刷感光体、レーザー用感光材料、写真植写用感
光材料あるいは光学フイルター、マスキング用材
料、光量計、デイスプレイ用材料として使用し得
るフオトクロミツク性を有する新規な化合物に関
するものである。 〔従来の技術〕 スピロナフトオキサジン化合物が光の照射によ
り発色又は消色するフオトクロミツク性を有する
ことは知られており、これを使用したフオトクロ
ミツク感光材料が種々提案されている。 例えば、特公昭45−28892号には、次式の様な
スピロナフトオキサジン系化合物を含有するフオ
トクロミツク材料が提案されている。 (式中、Raは水素原子、ハロゲン原子、シアノ
基、炭素数1〜8のアルキル基またはアルコキシ
基を示す。) また、特公昭49−48631号には、次式の様なス
ピロナフトオキサジン系化合物を高分子物質中に
分散させたフオトクロミツク感光材料が提案され
ている。 (式中、Rbは(―CH2)―oCOOH、(―CH2)―oCNま
たは(―CH2)―oCOOR(Rは炭素数1〜5のアルキ
ル基);RcおよびRdは炭素数1〜5のアルキル
基;Reは水素原子、炭素数1〜5個のアルキル
基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数
2〜6個のアルコキシカルボニル基または炭素数
1〜5個のアルコキシ基を示す。) また、特開昭55−36284号には、次式の様なフ
オトクロミツク化合物が提案されている。 (式中、RfとRgの一つはハロゲン又は低級アル
コキシで他の一つは水素、又RhとRiは水素、低
級アルキル、低級アルコキシ、又はハロゲンを示
す。) また、USP4342668には、次式の様なフオトク
ロミツク化合物が提案されている。 (式中、RjとRkの一つはハロゲン又は低級アル
コキシで、他の一つは水素、また、RlとRmは水
素、低級アルキル、低級アルコキシ、又はハロゲ
ンを示し、Rnは炭素数2から10までのアルキル
基を示す。) 通常、フオトクロミツク感光材料は、上述の様
に高分子化合物にスピロナフトオキサジン化合物
を分散させたものをフイルム状に製膜して使用さ
れる。 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし、従来のスピロナフトオキサジン化合物
の場合、高分子化合物に対する相溶性・溶解性が
必ずしも十分ではないので、スピロナフトオキサ
ジン化合物の濃度をあまり高くできず、従つて、
コントラストが良好で大きな発色濃度を示すフオ
トクロミツク感光材料が得られない。 〔問題点を解決するための手段〕 すなわち、本発明は、一般式〔I〕 (式中、nは1〜4の整数を表わし、R1はアル
キル基を示し、R2、R3、R4、R5は水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはア
ルコキシカルボニル基を示す。) で表わされる3,3−ジメチル−スピロ〔インド
リノ−2,3′−ナフト〔2,1−b〕(1,4)
オキサジン〕系化合物に存する。 本発明のスピロナフトオキサジン系化合物は前
記一般式〔〕で表わされるものである。 式中、R1はC1〜28のアルキル基等のアルキル基
を示し、R2、R3、R4、R5は水素原子;塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;
C1〜6のアルキル基等のアルキル基;C1〜6のアルコ
キシ基等のアルコキシ基、または、C1〜6のアルコ
キシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基を
示す。 本発明の化合物は、例えば、次のようにして製
造することができる。すなわち、下記一般式
〔〕 (式中、R2及びR3は前記定義に同じ。)で表わさ
れる2,3,3−トリメチルインドレニン誘導体
に下記一般式〔〕 (式中、R1及びnは前記定義に同じ。)で表わさ
れるp−トルエンスルホン酸エステル類を反応さ
せ、次いで下記一般式〔〕 (式中、R4及びR5は前記定義に同じ。) で表わされる1−ニトロソ−2−ナフトール誘導
体を反応させることによつて製造することができ
る。 p−トルエンスルホン酸エステルによるアルキ
ル化反応は無溶媒あるいはクロロベンゼン、ジク
ロロベンゼンなどの芳香族系溶媒などの非極性溶
媒中、80〜200℃の反応温度で実施される。好ま
しくは無溶媒で130〜150℃で円滑に実施できる。 次いで、1−ニトロソ−2−ナフトール誘導体
との反応は、ピペリジン、ピペラジン、モルホリ
ン等の塩基性触媒の存在下、メタノール、エタノ
ール、プロパノール、ブタノールなどのアルコー
ル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどの
ケトン系溶媒、ジクロロメタン、トリクロロエタ
ンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒などの極性又
は非極性の溶媒の存在下に実施される。反応温度
は0〜200℃の範囲で実施される。好ましくは、
エタノール、メチルエチルケトン、アセトン中、
ピペリジン触媒の存在下40℃〜120℃で円滑に実
施できる。 本発明の化合物は、例えば、次のようにしても
製造することができる。すなわち、下記一般式
〔V〕 (式中、R1、R2、R3及び、nは前記定義に同
じ。)で表わされる化合物と下記一般式〔〕 (式中、R4及びR5は前記定義に同じ。) で表わされる1−ニトロソ−2−ナフトール誘導
体と反応させることによつて製造することができ
る。 反応は通常、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノールなどのアルコール系溶媒、ア
セトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶
媒、ジクロロメタン、トリクロロエタンなどのハ
ロゲン化炭化水素系溶媒などの極性又は非極性溶
媒の存在下に実施される。反応温度は、0℃〜
200℃の範囲で実施され、好ましくは、40℃〜120
℃で円滑に実施できる。 本発明の化合物は新規な色素であり、ホトクロ
ミズムを示す化合物である。すなわち、本化合物
は紫外線照射により発色し、次に可視光を照射す
るか、あるいは50℃以上に加熱すると元の無色の
状態になり、この変化をくり返すことができる。 〔発明の効果〕 本発明の化合物は、特に、高分子化合物に対す
る相溶性・溶解性にすぐれるため、濃色でしかも
保存安定性が良好で発色・消色のくり返し安定性
の良好な組成物を得ることができる。 このような本化合物は各種の記録・記憶材料、
複写材料、印刷感光対、レーザー用感光材料、写
真植字用感光材料あるいは光学フイルター、マス
キング用材料、光量計、デイスプレイ用材料とし
て使用される。 〔実施例〕 次に、本発明を実施例により、更に具体的に説
明する。 実施例 1 下記構造式 で表わされる2,3,3−トリメチルインドレニ
ン15.9gおよび下記構造式 で表わされるp−トルエンスルホン酸メトキシエ
チルエステル23.0gの混合物を140℃で3時間反
応させ、室温まで冷却後、メチルエチルケトン
300mlを加え、還流し、還流下、下記構造式 で表わされる1−ニトロソ−2−ナフトール18g
のメチルエチルケトン100mlの懸濁液およびピペ
リジン9mlを加え、1時間還流下反応させた。冷
却後、過し、溶媒を留去、残渣をアセトン200
mlに溶解、メタノール400mlを加えて冷凍庫に一
夜放置、析出結晶を取し、粗生成物10gを得
た。薄層クロマトグラフイー(展開溶媒ベンゼ
ン:n−ヘキサン=1:1)上で分離・精製し、
融点136〜138℃の無色結晶を得た。 本化合物4gを用い、熱可塑性ポリエステル樹
脂10g(東洋紡社製バイロン−200)、溶媒メチル
エチルケトン100gからなる溶液をポリエステル
フイルム(ダイヤホイル社製、厚さ100μ)バー
コーターNo.3を用いて塗布し、75℃、10分乾燥し
た。得られた試料は通常の状態では無色である
が、紫外線照射すると濃度の高い青色(λmax−
606nm)に発色した。 次に、可視光を照射するか、あるいは50℃以上
に加熱すると元の無色の状態になつた。この変化
はくり返し行なうことができた。 実施例 2 実施例1に於けるp−トルエンスルホン酸メト
キシエチルエステル23.0gの代りにp−トルエン
スルホン酸メトキシエトキシエチルエステル26.2
gを用い、他は実施例1と同様にして、下記化合
物を得た。 本化合物を用い、実施例1と同様にポリエステ
ルフイルムに塗布したところ、紫外線照射により
濃色の青色(λmax=606nm)に発色した。次に
可視光を照射するか、あるいは50℃以上に加熱す
ると元の無色の状態になつた。この変化はくり返
し行なうことができた。 実施例 3 下記構造式 で表わされる化合物28.7gをエタノール500mlに
溶解し、下記構造式 で表わされる化合物17.3gを加え、還流下2時間
反応させた。室温まで冷却し、溶媒を留去し、カ
ラムクロマトグラフイー(使用溶媒ベンゼン)で
分離・精製し、下記化合物を得た。 本化合物を用い、実施例1と同様にポリエステ
ルフイルムに塗布したところ、紫外線照射によ
り、濃色の青色(λmax=606nm)に発色した。
次に可視光を照射するか、あるいは50℃以上に加
熱すると元の無色の状態になつた。この変化はく
り返し行なうことができた。 実施例 4 実施例1〜3に準じた方法により、下記一般式
〔〕で示される化合物を合成した。ポリエステ
ルフイルム上に塗布し、紫外線照射したところ
各々第1表に示す色調、λmaxに発色した。次に
可視光を照射するか、あるいは50℃以上に加熱す
ると元の無色の状態になつた。この変化はくり返
して行なうことができた。
〔インドリノ−2,3′−ナフト〔2,1−b〕
(1,4)オキサジン〕系化合物に関するもので
ある。 詳しくは、各種の記録・記憶材料、複写材料、
印刷感光体、レーザー用感光材料、写真植写用感
光材料あるいは光学フイルター、マスキング用材
料、光量計、デイスプレイ用材料として使用し得
るフオトクロミツク性を有する新規な化合物に関
するものである。 〔従来の技術〕 スピロナフトオキサジン化合物が光の照射によ
り発色又は消色するフオトクロミツク性を有する
ことは知られており、これを使用したフオトクロ
ミツク感光材料が種々提案されている。 例えば、特公昭45−28892号には、次式の様な
スピロナフトオキサジン系化合物を含有するフオ
トクロミツク材料が提案されている。 (式中、Raは水素原子、ハロゲン原子、シアノ
基、炭素数1〜8のアルキル基またはアルコキシ
基を示す。) また、特公昭49−48631号には、次式の様なス
ピロナフトオキサジン系化合物を高分子物質中に
分散させたフオトクロミツク感光材料が提案され
ている。 (式中、Rbは(―CH2)―oCOOH、(―CH2)―oCNま
たは(―CH2)―oCOOR(Rは炭素数1〜5のアルキ
ル基);RcおよびRdは炭素数1〜5のアルキル
基;Reは水素原子、炭素数1〜5個のアルキル
基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数
2〜6個のアルコキシカルボニル基または炭素数
1〜5個のアルコキシ基を示す。) また、特開昭55−36284号には、次式の様なフ
オトクロミツク化合物が提案されている。 (式中、RfとRgの一つはハロゲン又は低級アル
コキシで他の一つは水素、又RhとRiは水素、低
級アルキル、低級アルコキシ、又はハロゲンを示
す。) また、USP4342668には、次式の様なフオトク
ロミツク化合物が提案されている。 (式中、RjとRkの一つはハロゲン又は低級アル
コキシで、他の一つは水素、また、RlとRmは水
素、低級アルキル、低級アルコキシ、又はハロゲ
ンを示し、Rnは炭素数2から10までのアルキル
基を示す。) 通常、フオトクロミツク感光材料は、上述の様
に高分子化合物にスピロナフトオキサジン化合物
を分散させたものをフイルム状に製膜して使用さ
れる。 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし、従来のスピロナフトオキサジン化合物
の場合、高分子化合物に対する相溶性・溶解性が
必ずしも十分ではないので、スピロナフトオキサ
ジン化合物の濃度をあまり高くできず、従つて、
コントラストが良好で大きな発色濃度を示すフオ
トクロミツク感光材料が得られない。 〔問題点を解決するための手段〕 すなわち、本発明は、一般式〔I〕 (式中、nは1〜4の整数を表わし、R1はアル
キル基を示し、R2、R3、R4、R5は水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはア
ルコキシカルボニル基を示す。) で表わされる3,3−ジメチル−スピロ〔インド
リノ−2,3′−ナフト〔2,1−b〕(1,4)
オキサジン〕系化合物に存する。 本発明のスピロナフトオキサジン系化合物は前
記一般式〔〕で表わされるものである。 式中、R1はC1〜28のアルキル基等のアルキル基
を示し、R2、R3、R4、R5は水素原子;塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;
C1〜6のアルキル基等のアルキル基;C1〜6のアルコ
キシ基等のアルコキシ基、または、C1〜6のアルコ
キシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基を
示す。 本発明の化合物は、例えば、次のようにして製
造することができる。すなわち、下記一般式
〔〕 (式中、R2及びR3は前記定義に同じ。)で表わさ
れる2,3,3−トリメチルインドレニン誘導体
に下記一般式〔〕 (式中、R1及びnは前記定義に同じ。)で表わさ
れるp−トルエンスルホン酸エステル類を反応さ
せ、次いで下記一般式〔〕 (式中、R4及びR5は前記定義に同じ。) で表わされる1−ニトロソ−2−ナフトール誘導
体を反応させることによつて製造することができ
る。 p−トルエンスルホン酸エステルによるアルキ
ル化反応は無溶媒あるいはクロロベンゼン、ジク
ロロベンゼンなどの芳香族系溶媒などの非極性溶
媒中、80〜200℃の反応温度で実施される。好ま
しくは無溶媒で130〜150℃で円滑に実施できる。 次いで、1−ニトロソ−2−ナフトール誘導体
との反応は、ピペリジン、ピペラジン、モルホリ
ン等の塩基性触媒の存在下、メタノール、エタノ
ール、プロパノール、ブタノールなどのアルコー
ル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどの
ケトン系溶媒、ジクロロメタン、トリクロロエタ
ンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒などの極性又
は非極性の溶媒の存在下に実施される。反応温度
は0〜200℃の範囲で実施される。好ましくは、
エタノール、メチルエチルケトン、アセトン中、
ピペリジン触媒の存在下40℃〜120℃で円滑に実
施できる。 本発明の化合物は、例えば、次のようにしても
製造することができる。すなわち、下記一般式
〔V〕 (式中、R1、R2、R3及び、nは前記定義に同
じ。)で表わされる化合物と下記一般式〔〕 (式中、R4及びR5は前記定義に同じ。) で表わされる1−ニトロソ−2−ナフトール誘導
体と反応させることによつて製造することができ
る。 反応は通常、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノールなどのアルコール系溶媒、ア
セトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶
媒、ジクロロメタン、トリクロロエタンなどのハ
ロゲン化炭化水素系溶媒などの極性又は非極性溶
媒の存在下に実施される。反応温度は、0℃〜
200℃の範囲で実施され、好ましくは、40℃〜120
℃で円滑に実施できる。 本発明の化合物は新規な色素であり、ホトクロ
ミズムを示す化合物である。すなわち、本化合物
は紫外線照射により発色し、次に可視光を照射す
るか、あるいは50℃以上に加熱すると元の無色の
状態になり、この変化をくり返すことができる。 〔発明の効果〕 本発明の化合物は、特に、高分子化合物に対す
る相溶性・溶解性にすぐれるため、濃色でしかも
保存安定性が良好で発色・消色のくり返し安定性
の良好な組成物を得ることができる。 このような本化合物は各種の記録・記憶材料、
複写材料、印刷感光対、レーザー用感光材料、写
真植字用感光材料あるいは光学フイルター、マス
キング用材料、光量計、デイスプレイ用材料とし
て使用される。 〔実施例〕 次に、本発明を実施例により、更に具体的に説
明する。 実施例 1 下記構造式 で表わされる2,3,3−トリメチルインドレニ
ン15.9gおよび下記構造式 で表わされるp−トルエンスルホン酸メトキシエ
チルエステル23.0gの混合物を140℃で3時間反
応させ、室温まで冷却後、メチルエチルケトン
300mlを加え、還流し、還流下、下記構造式 で表わされる1−ニトロソ−2−ナフトール18g
のメチルエチルケトン100mlの懸濁液およびピペ
リジン9mlを加え、1時間還流下反応させた。冷
却後、過し、溶媒を留去、残渣をアセトン200
mlに溶解、メタノール400mlを加えて冷凍庫に一
夜放置、析出結晶を取し、粗生成物10gを得
た。薄層クロマトグラフイー(展開溶媒ベンゼ
ン:n−ヘキサン=1:1)上で分離・精製し、
融点136〜138℃の無色結晶を得た。 本化合物4gを用い、熱可塑性ポリエステル樹
脂10g(東洋紡社製バイロン−200)、溶媒メチル
エチルケトン100gからなる溶液をポリエステル
フイルム(ダイヤホイル社製、厚さ100μ)バー
コーターNo.3を用いて塗布し、75℃、10分乾燥し
た。得られた試料は通常の状態では無色である
が、紫外線照射すると濃度の高い青色(λmax−
606nm)に発色した。 次に、可視光を照射するか、あるいは50℃以上
に加熱すると元の無色の状態になつた。この変化
はくり返し行なうことができた。 実施例 2 実施例1に於けるp−トルエンスルホン酸メト
キシエチルエステル23.0gの代りにp−トルエン
スルホン酸メトキシエトキシエチルエステル26.2
gを用い、他は実施例1と同様にして、下記化合
物を得た。 本化合物を用い、実施例1と同様にポリエステ
ルフイルムに塗布したところ、紫外線照射により
濃色の青色(λmax=606nm)に発色した。次に
可視光を照射するか、あるいは50℃以上に加熱す
ると元の無色の状態になつた。この変化はくり返
し行なうことができた。 実施例 3 下記構造式 で表わされる化合物28.7gをエタノール500mlに
溶解し、下記構造式 で表わされる化合物17.3gを加え、還流下2時間
反応させた。室温まで冷却し、溶媒を留去し、カ
ラムクロマトグラフイー(使用溶媒ベンゼン)で
分離・精製し、下記化合物を得た。 本化合物を用い、実施例1と同様にポリエステ
ルフイルムに塗布したところ、紫外線照射によ
り、濃色の青色(λmax=606nm)に発色した。
次に可視光を照射するか、あるいは50℃以上に加
熱すると元の無色の状態になつた。この変化はく
り返し行なうことができた。 実施例 4 実施例1〜3に準じた方法により、下記一般式
〔〕で示される化合物を合成した。ポリエステ
ルフイルム上に塗布し、紫外線照射したところ
各々第1表に示す色調、λmaxに発色した。次に
可視光を照射するか、あるいは50℃以上に加熱す
ると元の無色の状態になつた。この変化はくり返
して行なうことができた。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
比較例 1
第2表に示したスピロナフトオキサジン化合物
を所定量使用するほかは、実施例1と同様にして
ポリエステルフイルム上に塗布して試料を得た。
この試料に紫外線を照射し、発色した試料の色濃
度を第2表に示した。 同様に、実施例1および実施例2のスピロナフ
トオキサジン化合物を使用した場合の色濃度につ
いても第2表に示した。
を所定量使用するほかは、実施例1と同様にして
ポリエステルフイルム上に塗布して試料を得た。
この試料に紫外線を照射し、発色した試料の色濃
度を第2表に示した。 同様に、実施例1および実施例2のスピロナフ
トオキサジン化合物を使用した場合の色濃度につ
いても第2表に示した。
【表】
【表】
比較例1の色濃度を100とした本発明化合物の
色濃度は上記表の通りであり、紫外線照射時濃色
に発色するフイルムが得られた。
色濃度は上記表の通りであり、紫外線照射時濃色
に発色するフイルムが得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式〔〕 (式中、nは1〜4の整数を表わし、R1はアル
キル基を示し、R2、R3、R4、R5は水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはア
ルコキシカルボニル基を示す。) で表わされる3,3−ジメチル−スピロ〔インド
リノ−2,3′−ナフト〔2,1−b〕(1,4)
オキサジン〕系化合物。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60012191A JPS61263982A (ja) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | 3,3−ジメチル−スピロ〔インドリノ−2,3′−ナフト〔2,1−b〕(1,4)オキサジン〕系化合物 |
| GB08601533A GB2171404B (en) | 1985-01-25 | 1986-01-22 | Spiroxazine compounds and photochromic composition containing the same |
| CH281/86A CH667928A5 (de) | 1985-01-25 | 1986-01-24 | Spiroxazin-verbindungen und photochromatische zusammensetzung, welche diese enthaelt. |
| DE3602087A DE3602087C2 (de) | 1985-01-25 | 1986-01-24 | Spiroxazin-Verbindungen und fotochrome Zusammensetzung, die diese enthält |
| US06/822,449 US4719296A (en) | 1985-01-25 | 1986-01-27 | Spiroxazine compounds |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60012191A JPS61263982A (ja) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | 3,3−ジメチル−スピロ〔インドリノ−2,3′−ナフト〔2,1−b〕(1,4)オキサジン〕系化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61263982A JPS61263982A (ja) | 1986-11-21 |
| JPH0481996B2 true JPH0481996B2 (ja) | 1992-12-25 |
Family
ID=11798509
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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