JPH04889Y2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH04889Y2
JPH04889Y2 JP12310486U JP12310486U JPH04889Y2 JP H04889 Y2 JPH04889 Y2 JP H04889Y2 JP 12310486 U JP12310486 U JP 12310486U JP 12310486 U JP12310486 U JP 12310486U JP H04889 Y2 JPH04889 Y2 JP H04889Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
temperature
chemical solution
storage tank
chemical
parts
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP12310486U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6332612U (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP12310486U priority Critical patent/JPH04889Y2/ja
Publication of JPS6332612U publication Critical patent/JPS6332612U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH04889Y2 publication Critical patent/JPH04889Y2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、主として高温薬液を循環濾過する装
置に関するものである。
〔従来の技術〕
半導体製造工程でウエハ処理のために高温の薬
液を用いる場合、通常、フイルタ、ドレインバル
ブ、空気抜きバルブ等の各部品を流通管で連結
し、これら各部品間の薬液流路に絶えず清浄な高
温薬液を供給するために、薬液供給ポンプを用い
て高薬液を循環させている。なお、薬液供給ポン
プを含めた上記各部品は、薬液として硫酸などを
用いるため、薬液に接する部分には例えばテフロ
ンなどの合成樹脂を使用している。
〔考案が解決しようとする問題点〕
高温薬液の温度は、場合によつては150℃を必
要とし、このため上記各部品に接する室温との間
に大きな温度差を生じ、上記合成樹脂製の各部品
が熱変形を生じて薬液漏れを発生することがあ
る。ことに薬液循環のための圧力を増した場合に
薬液漏れが発生しやすい。
〔問題点を解決するための手段〕
本考案は、上記の各部品と該部品間を連結する
流路の一部を例えば80℃の純水または乾燥空気中
に保持し、上記部品の内部を循環する高温薬液と
これら部品の周波温度との温度差を低減するとと
もに、薬液漏れの検知器を備えたものである。
〔作用〕
高温薬液循環装置に必要な各部品、すなわち、
薬液供給ポンプ、フイルタ、ドレインバルブ、空
気抜きバルブ等を、第1図に示すように金属、合
成樹脂等で作られた収納槽8内に収納し、上記収
納槽8内に純水または乾燥空気を満たすことによ
つて例えば80℃に保持し、循環する高温薬液の温
度が150℃であつても、上記各部品の薬液に接触
する部分における外壁との温度差は70deg.に保た
れ、熱変形によつて生じる薬液漏れを防止するこ
とができる。なお、上記収納槽8内には薬液漏れ
の検知装置を設けて、薬液漏れが発生した場合に
は警報を発するなどして災害を防止する。
〔実施例〕
つぎに本考案の実施例を図面とともに説明す
る。第1図は本考案による高温薬液循環濾過装置
の一実施例を示す構成図である。第1図におい
て、加熱用ヒータ1を設けた薬液槽2からオーバ
フローした高温薬液は、流通管3を経由して薬液
供給ポンプ4およびフイルタ5,5′を通り、バ
ルブを経てウエハ処理等のために供給されるが、
上記薬液供給ポンプ4やフイルタ5,5′をはじ
め、高温薬液の流路となるドレインバルブ6や空
気抜きバルブ7等を、金属または合成樹脂で製作
された収納槽8内に収納し、上記収納槽8内には
純水または乾燥空気をほぼ満たすことにより、薬
液供給ポンプ4等の部品を構成する合成樹脂の軟
化変形温度以下に保持する。上記のように構成し
たことにより、高温薬液の温度が150℃であつた
としても、上記高温薬液が流通する流路の外側温
度は例えば80℃に保たれているため、流通管3を
含めて上記収納槽8内にある各部品の内外温度差
は70degをこえることがなく、したがつて上記各
部品およびその接合部が熱変形によつて薬液漏れ
を弱じることはない。また薬液漏れの検知器(図
示せず)を上記収納槽8内に備えたため、万一、
高温薬液が各部品の接合部などから漏れた場合に
は、警報等により直ちに装置の運転を停止し、危
険状態を回避することが可能である。薬液漏れの
検知装置としては、例えば純水を用いる場合には
PHの変化を検知し、また乾燥空気を使用する場合
には吸液性の絶縁被覆を施した導体を近接相対さ
せながら各部品表面に設置する方法などを採用す
ることができる。
なお、上記収納槽8は金属または合成樹脂の他
にガラスで製作することも可能であるが、機械的
あるいは熱的衝撃に弱く、また弗酸を取扱うこと
もあるため、実用的とはいえない。
〔考案の効果〕
上記のように本考案による高温薬液循環濾過装
置は、高温薬液を濾過して循環供給する高温薬液
循環濾過装置において、薬液供給ポンプ、フイル
タ、ドレインバルブ、空気抜きバルブ等の各部品
を収納する金属または合成樹脂よりなる収納槽を
設け、上記収納槽内を純水または乾燥空気によつ
て例えば80℃に保持するとともに、上記各部品の
薬液漏れを検知する検知装置を、上記収納槽内に
設置したことにより、高温薬液が流れる流路の各
部品における内外の温度差を低減することができ
るため、上記各部品およびその接合部の熱変形に
起因する薬液漏れを防ぎ、また、万一薬液漏れを
生じた場合には、直ちにこれを検知し災害を未然
に防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
図は本考案による高温薬液循環濾過装置の一実
施例を示す構成図である。 4……薬液供給ポンプ、5,5′……フイルタ、
6……ドレインバルブ、7……空気抜きバルブ、
8……収納槽。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 高温薬液を濾過して循環供給する高温薬液循環
    濾過装置において、薬液供給ポンプ、フイルタ、
    ドレインバルブ、空気抜きバルブ等の各部品を収
    納する金属または合成樹脂よりなる収納槽を設
    け、上記収納槽内を純水または乾燥空気によつて
    80℃に保持するとともに、上記各部品の薬液漏れ
    を検知する検知装置を、上記収納槽内に設置した
    ことを特徴とする高温薬液循環濾過装置。
JP12310486U 1986-08-11 1986-08-11 Expired JPH04889Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12310486U JPH04889Y2 (ja) 1986-08-11 1986-08-11

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12310486U JPH04889Y2 (ja) 1986-08-11 1986-08-11

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6332612U JPS6332612U (ja) 1988-03-02
JPH04889Y2 true JPH04889Y2 (ja) 1992-01-13

Family

ID=31013900

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12310486U Expired JPH04889Y2 (ja) 1986-08-11 1986-08-11

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04889Y2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005088685A1 (ja) * 2004-03-16 2005-09-22 Hirata Corporation 処理液供給システム及びフィルタ装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6332612U (ja) 1988-03-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4787921A (en) Degassing tube
JPH0737800A (ja) 薬液供給装置
JPH04889Y2 (ja)
KR102242584B1 (ko) 케미칼의 드레인 및 저장 용기 구조의 제조 방법
JPH1183172A (ja) 流体加熱装置
JPS6292326A (ja) 半導体基板処理装置
JPH058676Y2 (ja)
CN220696270U (zh) 一种新型气液分离装置
CN221930162U (zh) 一种在线式石英加热器
KR102238986B1 (ko) 케미칼의 드레인 및 저장 용기 구조 및 그의 제조 방법
KR0137937Y1 (ko) 반도체 웨이퍼 식각장치
JP7171371B2 (ja) エッチング装置
JPS62279632A (ja) 半導体製造装置
JPS61182231A (ja) 処理装置
JPH02152233A (ja) 洗浄装置
KR0122299Y1 (ko) 오토 웨트 스테이션 장치
JPH10137737A (ja) 基板処理装置の処理液加熱装置
KR100735601B1 (ko) 반도체 웨이퍼 세정시스템 및 웨이퍼 건조방법
JPS6212472Y2 (ja)
JPS61139030A (ja) 半導体用ウエハ−及びカセツトの乾燥方法
TW202205422A (zh) 用於濕蝕刻洗淨設備的液體承接裝置
JP2551760Y2 (ja) 浸漬ヒータ
JPH02227129A (ja) 膜モジュールの殺菌方法
JPH04151830A (ja) シリコンウエハ洗浄装置
CN119524523A (zh) 一种用于半导体的聚四氟乙烯过滤芯的清洗设备与清洗方法