JPH0489476A - 25―ヒドロキシプレビタミンd誘導体の製造方法 - Google Patents
25―ヒドロキシプレビタミンd誘導体の製造方法Info
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- JPH0489476A JPH0489476A JP2199476A JP19947690A JPH0489476A JP H0489476 A JPH0489476 A JP H0489476A JP 2199476 A JP2199476 A JP 2199476A JP 19947690 A JP19947690 A JP 19947690A JP H0489476 A JPH0489476 A JP H0489476A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Steroid Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は25−ヒドロキシプレビタミンD誘導体の製造
方法に関する。
方法に関する。
本発明によって提供される25−ヒドロキシプレビタミ
ンD誘導体は、骨量を増やすことが報告されており、骨
粗髭症などの治療薬として期待されている24.25−
ジヒドロキシビタミンD3などの25−ヒドロキシビタ
ミンD誘導体の合成中間体として有用である。
ンD誘導体は、骨量を増やすことが報告されており、骨
粗髭症などの治療薬として期待されている24.25−
ジヒドロキシビタミンD3などの25−ヒドロキシビタ
ミンD誘導体の合成中間体として有用である。
[従来の技術]
従来、ビタミンDH導体の製造は、多くの場合において
対応するステロイド−5,7〜ジ工ン誘導体に紫外線を
照射することによりそのB環を開裂し、得られる(6Z
)−9,10−セコステロイド−5(10)、6.8−
1リ工ン誘導体を熱エネルギーにより異性化させ、9.
10−セコステロイド−io (19)、5.7−1−
ジエン誘導体に変換させることにより行われている。こ
の紫外線照射によるステロイド−5,7−ジエン誘導体
のB環の開裂反応は平衡反応であり、目的とする(6Z
)−9,10−セコステロイド−5(10)、6.8−
トリエン誘導体の選択率を高めるためには対応するステ
ロイド−5,7−ジエン誘導体の変換率を抑えて行う必
要があることが知られている。そこで、25−ヒドロキ
シビタミンD誘導体を工業的に製造する際には、生成物
である25−ヒドロキシビタミンD誘導体又は25ヒド
ロキシプレビタミンD誘導体と原料の対応するステロイ
ド−5,7−ジエン誘導体との分離が問題となる。
対応するステロイド−5,7〜ジ工ン誘導体に紫外線を
照射することによりそのB環を開裂し、得られる(6Z
)−9,10−セコステロイド−5(10)、6.8−
1リ工ン誘導体を熱エネルギーにより異性化させ、9.
10−セコステロイド−io (19)、5.7−1−
ジエン誘導体に変換させることにより行われている。こ
の紫外線照射によるステロイド−5,7−ジエン誘導体
のB環の開裂反応は平衡反応であり、目的とする(6Z
)−9,10−セコステロイド−5(10)、6.8−
トリエン誘導体の選択率を高めるためには対応するステ
ロイド−5,7−ジエン誘導体の変換率を抑えて行う必
要があることが知られている。そこで、25−ヒドロキ
シビタミンD誘導体を工業的に製造する際には、生成物
である25−ヒドロキシビタミンD誘導体又は25ヒド
ロキシプレビタミンD誘導体と原料の対応するステロイ
ド−5,7−ジエン誘導体との分離が問題となる。
また、特定波長の紫外線(紫外レーザー光を含む)を用
いた7−ジヒドロコレステロールの光開裂反応は知られ
ているが[ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・
ソサイエティ(J、Am。
いた7−ジヒドロコレステロールの光開裂反応は知られ
ているが[ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・
ソサイエティ(J、Am。
Chem、Soc、)、第103巻、6781頁(19
81年)及び第104巻、5780頁(1982年)参
照]、25位に水酸基を有するビタミンD誘導体の製造
に紫外レーザー光を使用した例は知られていない。
81年)及び第104巻、5780頁(1982年)参
照]、25位に水酸基を有するビタミンD誘導体の製造
に紫外レーザー光を使用した例は知られていない。
[発明が解決しようとする課題]
生成物である25−ヒドロキシビタミンD誘導体又は2
5−ヒドロキシプレビタミン誘導体と原料の対応するス
テロイド−5,7−ジエン誘導体との分離方法としては
、薄層クロマトグラフィ、カラムクロマトグラフィ、高
速液体クロマトグラフィなどのクロマトグラフィによる
方法、再結晶による方法などが考えられるが、生成物及
び原料が性質の似た異性体であることから、上記の分離
方法は必ずしも工業的に満足できるものではない、特に
、目的とする生成物が反応混合物中の主成分ではない場
合には、該生成物を反応混合物から単離精製するには煩
雑な工程が必要となる。
5−ヒドロキシプレビタミン誘導体と原料の対応するス
テロイド−5,7−ジエン誘導体との分離方法としては
、薄層クロマトグラフィ、カラムクロマトグラフィ、高
速液体クロマトグラフィなどのクロマトグラフィによる
方法、再結晶による方法などが考えられるが、生成物及
び原料が性質の似た異性体であることから、上記の分離
方法は必ずしも工業的に満足できるものではない、特に
、目的とする生成物が反応混合物中の主成分ではない場
合には、該生成物を反応混合物から単離精製するには煩
雑な工程が必要となる。
しかして、本発明の目的は、25−ヒドロキシビタミン
D誘導体に誘導可能な25−ヒドロキシプレビタミンD
誘導体を選択的かつ収率よく製造する方法を提供するこ
とにある。
D誘導体に誘導可能な25−ヒドロキシプレビタミンD
誘導体を選択的かつ収率よく製造する方法を提供するこ
とにある。
[課題を解決するための手段]
本発明によれば、上記の目的は、
■−一般式I)
(式中、R1及びR2はそれぞれ水素原子又は水酸基の
保護基を表し、Xlは水素原子若しくは式−OR”で示
される基を表し、かっX2は水素原子を表すか、又はX
lとX2は一緒になってオクソ基を表し、Yは水素原子
又は式−OR’で示される基を表し、R3及びR4はそ
れぞれ水素原子又は水酸基の保護基を表す) で示される25−ヒドロキシタキステロール誘導体[以
下、これを化合物(I)と称するコに波長280〜40
0nmの範囲から選ばれる波長を有する紫外レーザー光
を照射することを特徴とする一般式(II) (式中、RI RZ X I X 2及びYはそ
れぞれ前記定義のとおりである) で示される25−ヒドロキシプレビタミンDI!導体口
以下、これを化合物(II)と称するコの製造方法、 ■−一般式I[+) (式中、RI RI X I X 2及びYはそ
れぞれ前記定義のとおりである) で示される25−ヒドロキシプロビタミンD誘導体[以
下、これを化合物(I[l)と称するコに波長190〜
340nmの範囲から選ばれる波長を有する紫外レーザ
ー光と波長280〜400nmの範囲から選ばれ、かつ
前記の紫外レーザー光よりも長い波長を有する紫外レー
ザー光を逐次的に又は同時に照射することを特徴とする
化合物(I[)の製造方法、及び ■化合物(I[1)に波長190〜31’Onmの範囲
から選ばれる波長を有する紫外レーザー光を照射するこ
とにより化合物(1)を得、該化合物(lに波長280
〜400 nmの範囲から選ばれ、かつ前記の紫外レー
ザー光よりも長い波長を有する紫外レーザー光を照射す
ることを特徴とする化合物(I[)の製造方法を提供す
ることにより達成される。
保護基を表し、Xlは水素原子若しくは式−OR”で示
される基を表し、かっX2は水素原子を表すか、又はX
lとX2は一緒になってオクソ基を表し、Yは水素原子
又は式−OR’で示される基を表し、R3及びR4はそ
れぞれ水素原子又は水酸基の保護基を表す) で示される25−ヒドロキシタキステロール誘導体[以
下、これを化合物(I)と称するコに波長280〜40
0nmの範囲から選ばれる波長を有する紫外レーザー光
を照射することを特徴とする一般式(II) (式中、RI RZ X I X 2及びYはそ
れぞれ前記定義のとおりである) で示される25−ヒドロキシプレビタミンDI!導体口
以下、これを化合物(II)と称するコの製造方法、 ■−一般式I[+) (式中、RI RI X I X 2及びYはそ
れぞれ前記定義のとおりである) で示される25−ヒドロキシプロビタミンD誘導体[以
下、これを化合物(I[l)と称するコに波長190〜
340nmの範囲から選ばれる波長を有する紫外レーザ
ー光と波長280〜400nmの範囲から選ばれ、かつ
前記の紫外レーザー光よりも長い波長を有する紫外レー
ザー光を逐次的に又は同時に照射することを特徴とする
化合物(I[)の製造方法、及び ■化合物(I[1)に波長190〜31’Onmの範囲
から選ばれる波長を有する紫外レーザー光を照射するこ
とにより化合物(1)を得、該化合物(lに波長280
〜400 nmの範囲から選ばれ、かつ前記の紫外レー
ザー光よりも長い波長を有する紫外レーザー光を照射す
ることを特徴とする化合物(I[)の製造方法を提供す
ることにより達成される。
上記の一般式におけるRI R2,R3及びR4が表
す水酸基の保護基としては、アシル基、アルコキシカル
ボニル基、三置換シリル基、置換基を有していてもよい
アルコキシメチル基などが挙げられるが、水酸基の保護
基として機能する限りどのような保護基でもよい、アシ
ル基としては、例えばアセチル基、プロピオニル基、ブ
チリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル
基、ピバロイル基などの低級アルカノイル基;ベンゾイ
ル基、ニトロベンゾイル基、ジニトロベンゾイル基、ト
リメチルベンゾイル基などのアレノイル基;メトキシア
セチル基、フェノキシアセチル基、グロルアセチル基、
ジクロルアセチル基、トリクロルアセチル基、トリフル
オロアセチル基などの置換アセチル基などが挙げられる
。アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボ
ニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボ
ニル基、イソブトキシカルボニル基、tert−ブトキ
シカルボニル基などの低級アルコキシカルボニル基、フ
ェノキシカルボニル基、p−メチルフェノキシカルボニ
ル基、p−ニトロフェノキシカルボニル基、p−グロル
フエノキシカルポニル基、p−ブロムフェノキシカルボ
ニル基などのアレツキジカルボニル基、ベンジルオキシ
カルボニル基、p−ブロモベンジルオキシカルボニル基
、p−ニトロベンジルオキシカルボニル基などのアラル
コキシカルボニル基;アリルオキシカルボニル基、メタ
リルオキシカルボニル基、ジメチルアリルオキシカルボ
ニル基などのアルケニルオキシカルボニル基などが挙げ
られる。
す水酸基の保護基としては、アシル基、アルコキシカル
ボニル基、三置換シリル基、置換基を有していてもよい
アルコキシメチル基などが挙げられるが、水酸基の保護
基として機能する限りどのような保護基でもよい、アシ
ル基としては、例えばアセチル基、プロピオニル基、ブ
チリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル
基、ピバロイル基などの低級アルカノイル基;ベンゾイ
ル基、ニトロベンゾイル基、ジニトロベンゾイル基、ト
リメチルベンゾイル基などのアレノイル基;メトキシア
セチル基、フェノキシアセチル基、グロルアセチル基、
ジクロルアセチル基、トリクロルアセチル基、トリフル
オロアセチル基などの置換アセチル基などが挙げられる
。アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボ
ニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボ
ニル基、イソブトキシカルボニル基、tert−ブトキ
シカルボニル基などの低級アルコキシカルボニル基、フ
ェノキシカルボニル基、p−メチルフェノキシカルボニ
ル基、p−ニトロフェノキシカルボニル基、p−グロル
フエノキシカルポニル基、p−ブロムフェノキシカルボ
ニル基などのアレツキジカルボニル基、ベンジルオキシ
カルボニル基、p−ブロモベンジルオキシカルボニル基
、p−ニトロベンジルオキシカルボニル基などのアラル
コキシカルボニル基;アリルオキシカルボニル基、メタ
リルオキシカルボニル基、ジメチルアリルオキシカルボ
ニル基などのアルケニルオキシカルボニル基などが挙げ
られる。
三置換シリル基としては、例えばトリメチルシリル基、
トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、te
rt−ブチルジメチルシリル基などのトリアルキルシリ
ル基; tert−ブチルジフェニルシリル基などのア
ルキルジアリールシリル基などが挙げられる。置換基を
有していてもよいアルコキシメチル基としては、例えば
メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、ベンジ
ルオキシメチル基などのアルコキシメチル基、エトキシ
エチル基、メトキシイソプロピル基、メトキシ−4−テ
トラヒドロピラニル基などの置換アルコキシメチル基;
2−テトラヒドロピラニル基、2−テトラヒドロフラニ
ル基などのオフサシクロアルカン−2−イル基などが挙
げられる。また、R2R3及びR4のうち2つが一緒に
なってメチレン基、エチリデン基、イソプロピリデン基
、ベンジリデン基、シクロへキシリデン基などのアルキ
リデン基を表す場合もある。
トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、te
rt−ブチルジメチルシリル基などのトリアルキルシリ
ル基; tert−ブチルジフェニルシリル基などのア
ルキルジアリールシリル基などが挙げられる。置換基を
有していてもよいアルコキシメチル基としては、例えば
メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、ベンジ
ルオキシメチル基などのアルコキシメチル基、エトキシ
エチル基、メトキシイソプロピル基、メトキシ−4−テ
トラヒドロピラニル基などの置換アルコキシメチル基;
2−テトラヒドロピラニル基、2−テトラヒドロフラニ
ル基などのオフサシクロアルカン−2−イル基などが挙
げられる。また、R2R3及びR4のうち2つが一緒に
なってメチレン基、エチリデン基、イソプロピリデン基
、ベンジリデン基、シクロへキシリデン基などのアルキ
リデン基を表す場合もある。
化合物(I[[)に波長190〜310nmの範囲から
選ばれる波長を有する紫外レーザー光[以下、これを紫
外レーザー光(A)と称するコを照射することによって
化合物(II[)を化合物(I)に変換する反応、化合
物(I)に波長280〜4.00 n mの範囲から選
ばれ、かつ紫外レーザー光(A)よりも長い波長を有す
る紫外レーザー光[以下、これを紫外レーザー光(B)
と称する]を照射することによって化合物(I)を化合
物(I[)に変換する反応、及び化合物(I[I)に紫
外レーザー光(A)と紫外レーザー光(B)とを逐次的
に又は同時に照射することによって化合物(I[l)を
化合物(I)に変換する反応は、いずれも溶媒中で行う
のが好ましい、溶媒としては、例えばヘキサン、ヘプタ
ン、シクロヘキサン、リグロイン、ベンゼン、トルエン
、キシレンなどの炭化水素系溶媒ニブロムベンゼン、ク
ロルベンゼン、四塩化炭素、1.2−ジクロルエタン、
1゜2−ジブロムエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶
媒ニジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、エチルセロソルブなどのエーテル系溶媒;メタノー
ル、エタノール、プロパツールなどのアルコール系溶媒
などが使用され、その使用量は、紫外レーザー光を照射
する化合物に対して通常的50〜500,000倍重量
である。これらの反応は、通常的−50℃〜120℃の
範囲内の温度、好ましくは一10℃〜20℃の範囲内の
温度で行われる。
選ばれる波長を有する紫外レーザー光[以下、これを紫
外レーザー光(A)と称するコを照射することによって
化合物(II[)を化合物(I)に変換する反応、化合
物(I)に波長280〜4.00 n mの範囲から選
ばれ、かつ紫外レーザー光(A)よりも長い波長を有す
る紫外レーザー光[以下、これを紫外レーザー光(B)
と称する]を照射することによって化合物(I)を化合
物(I[)に変換する反応、及び化合物(I[I)に紫
外レーザー光(A)と紫外レーザー光(B)とを逐次的
に又は同時に照射することによって化合物(I[l)を
化合物(I)に変換する反応は、いずれも溶媒中で行う
のが好ましい、溶媒としては、例えばヘキサン、ヘプタ
ン、シクロヘキサン、リグロイン、ベンゼン、トルエン
、キシレンなどの炭化水素系溶媒ニブロムベンゼン、ク
ロルベンゼン、四塩化炭素、1.2−ジクロルエタン、
1゜2−ジブロムエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶
媒ニジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、エチルセロソルブなどのエーテル系溶媒;メタノー
ル、エタノール、プロパツールなどのアルコール系溶媒
などが使用され、その使用量は、紫外レーザー光を照射
する化合物に対して通常的50〜500,000倍重量
である。これらの反応は、通常的−50℃〜120℃の
範囲内の温度、好ましくは一10℃〜20℃の範囲内の
温度で行われる。
紫外レーザー光(B)の照射は、ベンゾフェノン、アセ
トフェノン、ブチロフェノン、9−フルオレノン、キサ
ントンなどの増感剤の存在下に行うこともできる。増感
剤の使用量は、紫外レーザー光(B)を照射する化合物
1モルに対して約0.05〜50モルの範囲が望ましい
。
トフェノン、ブチロフェノン、9−フルオレノン、キサ
ントンなどの増感剤の存在下に行うこともできる。増感
剤の使用量は、紫外レーザー光(B)を照射する化合物
1モルに対して約0.05〜50モルの範囲が望ましい
。
紫外レーザー光(A)としては、波長220〜295n
mの範囲から選ばれる波長を有するものが好ましく、ま
た紫外レーザー光(B)としては、波長295〜380
nmの範囲から選ばれる波長を有するものが好ましい
紫外レーザー光(A)を発振する紫外レーザーとしては
、例えばアルゴンイオンレーザ−、フッ化クリプトンエ
キシマレーザ−、フッ化アルゴンエキシマレーザ、塩化
クリプトンエキシマレーザ−1塩化キセノンエキシマレ
ーザ−1色素レーザー、YAGレーザ−YAGレーザー
励起色素レーザー、エキシマレーザ−励起色素レーザー
ルビーレーザーなどが使用され、紫外レーザー光(B
)を発振する紫外レーザーとしては、例えば窒素レーザ
ーアルゴンイオンレーザ−クリプトンイオンレザー、ヘ
リウム−カドミウムレーザー、フッ化キセノンエキシマ
レーザ−1塩化キセノンエキシマレーザ−1色素レーザ
ー YAGレーザ−YAGレーザー励起色素レーザー、
エキシマレーザ−励起色素レーザー、ルビーレーザーな
どが使用される。
mの範囲から選ばれる波長を有するものが好ましく、ま
た紫外レーザー光(B)としては、波長295〜380
nmの範囲から選ばれる波長を有するものが好ましい
紫外レーザー光(A)を発振する紫外レーザーとしては
、例えばアルゴンイオンレーザ−、フッ化クリプトンエ
キシマレーザ−、フッ化アルゴンエキシマレーザ、塩化
クリプトンエキシマレーザ−1塩化キセノンエキシマレ
ーザ−1色素レーザー、YAGレーザ−YAGレーザー
励起色素レーザー、エキシマレーザ−励起色素レーザー
ルビーレーザーなどが使用され、紫外レーザー光(B
)を発振する紫外レーザーとしては、例えば窒素レーザ
ーアルゴンイオンレーザ−クリプトンイオンレザー、ヘ
リウム−カドミウムレーザー、フッ化キセノンエキシマ
レーザ−1塩化キセノンエキシマレーザ−1色素レーザ
ー YAGレーザ−YAGレーザー励起色素レーザー、
エキシマレーザ−励起色素レーザー、ルビーレーザーな
どが使用される。
化合物(I[[)に紫外レーザー光(A)を照射するこ
とにより得られた化合物(I)を含む反応混合物はその
まま次の反応に付することができるが、反応混合物から
化合物(I)を通常の有機化合物の単離・精製において
用いられている方法と同様にして単離・精製したのちに
次の反応に付することもできる。化合物(I)の反応混
合物からの単離・精製は、例えば反応混合物を減圧下に
濃縮したのち、残渣を再結晶、クロマトグラフィなどに
より精製することにより行われる。
とにより得られた化合物(I)を含む反応混合物はその
まま次の反応に付することができるが、反応混合物から
化合物(I)を通常の有機化合物の単離・精製において
用いられている方法と同様にして単離・精製したのちに
次の反応に付することもできる。化合物(I)の反応混
合物からの単離・精製は、例えば反応混合物を減圧下に
濃縮したのち、残渣を再結晶、クロマトグラフィなどに
より精製することにより行われる。
上記のようにして得られた化合物(n)の反応混合物か
らの単離・精製は、通常の有機化合物の単離・精製にお
いて用いられている方法と同様にして行われる。例えば
、反応混合物を減圧下に濃縮したのち、残渣を舛結晶、
クロマトグラフィなどにより精製することにより行われ
る。また、化合物(It)を単離・精製することなく次
の反応に付することもできる。
らの単離・精製は、通常の有機化合物の単離・精製にお
いて用いられている方法と同様にして行われる。例えば
、反応混合物を減圧下に濃縮したのち、残渣を舛結晶、
クロマトグラフィなどにより精製することにより行われ
る。また、化合物(It)を単離・精製することなく次
の反応に付することもできる。
化合物(II)は熱エネルギーによる異性化反応に付し
たのち、必要に応じて生成物を水酸基の脱保護反応に付
することにより一般式(IV)(式中、X3は水素原子
若しくは水酸基を表し、かつX4は水素原子を表すか、
又はX3とX4は一緒になってオクソ基を表し、Ylは
水素原子又は水酸基を表す) で示される25−ヒドロキシビタミンD誘導体[以下、
これを化合物(TV)と称する]に誘導される。
たのち、必要に応じて生成物を水酸基の脱保護反応に付
することにより一般式(IV)(式中、X3は水素原子
若しくは水酸基を表し、かつX4は水素原子を表すか、
又はX3とX4は一緒になってオクソ基を表し、Ylは
水素原子又は水酸基を表す) で示される25−ヒドロキシビタミンD誘導体[以下、
これを化合物(TV)と称する]に誘導される。
熱エネルギーによる異性化反応は、通常約0〜120℃
の範囲内の温度で行われる。この反応は通常溶媒中で行
われ、使用される溶媒としては、前述の化合物(I[+
)を化合物(I)に変換する反応において用いられる溶
媒などが挙げられる。
の範囲内の温度で行われる。この反応は通常溶媒中で行
われ、使用される溶媒としては、前述の化合物(I[+
)を化合物(I)に変換する反応において用いられる溶
媒などが挙げられる。
必要に応じて行われる水酸基の脱保護反応は、通常の水
酸基の脱保護において用いられる方法と同様にして行わ
れる。
酸基の脱保護において用いられる方法と同様にして行わ
れる。
このようにして得られた化合物(IV)の反応混合物か
らの単離・精製は、通常の有機化合物の単離・精製にお
いて用いられている方法と同様にして行われる0例えば
、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテル、酢酸エ
チル、塩化メチレンなどの有機溶媒により抽出し、必要
に応じて希塩酸、希硫酸、重曹水、水、食塩水などで洗
浄することにより中性とし、硫酸ナトリウム、硫酸マグ
ネシウムなどの乾燥剤を用いて脱水したのち、減圧下に
濃縮し、残渣を再結晶、クロマトグラフィなどにより精
製することにより行われる。
らの単離・精製は、通常の有機化合物の単離・精製にお
いて用いられている方法と同様にして行われる0例えば
、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテル、酢酸エ
チル、塩化メチレンなどの有機溶媒により抽出し、必要
に応じて希塩酸、希硫酸、重曹水、水、食塩水などで洗
浄することにより中性とし、硫酸ナトリウム、硫酸マグ
ネシウムなどの乾燥剤を用いて脱水したのち、減圧下に
濃縮し、残渣を再結晶、クロマトグラフィなどにより精
製することにより行われる。
[実施例コ
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発
明はこれらの実施例により限定されるものではない。
明はこれらの実施例により限定されるものではない。
実施例1
コレスタ−5,7−ジエン−3β、25−ジオール67
.4mgをジエチルエーテル200 m lに溶解し、
得られた溶液にアルゴンガスを通じながら−2〜−5℃
の範囲内の温度でフッ化クリプトンエキシマレーザ−(
照射パワー1.5W、繰り返し数70Hz)を用いて波
長248 nmの紫外レーザー光を18.75分間照射
した6反応混合物を高速液体クロマトグラフィにより分
析したところ、コレスタ−5,7−ジエン−3β、25
−ジオールの変換率は91%、(6E)−9゜lO−セ
ココレスタ−5(10)、6.8−1−クエン−3β、
25−ジオールの選択率は62%であった0反応終了後
、反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣を高速液体クロマ
トグラフィにより精製し、(6E)−9,10−セココ
レスタ−5(10)、6.8−)−クエン−3β、25
−ジオール31.Omgを得た(収率46%)。これを
ジエチルエーテル120m1に溶解し、得られた溶液に
9−フルオレノン18.0mgを加え、アルゴンガスを
通じながら−2〜−5℃の範囲内の温度でフッ化キセノ
ンエキシマレーザ−(照射パワー0.5W、繰り返し数
70Hz)を用いて波長351 nmの紫外レーザー光
を7分間照射した0反応混合物を高速液体クロマトグラ
フィにより分析したところ、(6E)−9,10−セコ
コレスタ−5(10)、6.8−トリエン−3β。
.4mgをジエチルエーテル200 m lに溶解し、
得られた溶液にアルゴンガスを通じながら−2〜−5℃
の範囲内の温度でフッ化クリプトンエキシマレーザ−(
照射パワー1.5W、繰り返し数70Hz)を用いて波
長248 nmの紫外レーザー光を18.75分間照射
した6反応混合物を高速液体クロマトグラフィにより分
析したところ、コレスタ−5,7−ジエン−3β、25
−ジオールの変換率は91%、(6E)−9゜lO−セ
ココレスタ−5(10)、6.8−1−クエン−3β、
25−ジオールの選択率は62%であった0反応終了後
、反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣を高速液体クロマ
トグラフィにより精製し、(6E)−9,10−セココ
レスタ−5(10)、6.8−)−クエン−3β、25
−ジオール31.Omgを得た(収率46%)。これを
ジエチルエーテル120m1に溶解し、得られた溶液に
9−フルオレノン18.0mgを加え、アルゴンガスを
通じながら−2〜−5℃の範囲内の温度でフッ化キセノ
ンエキシマレーザ−(照射パワー0.5W、繰り返し数
70Hz)を用いて波長351 nmの紫外レーザー光
を7分間照射した0反応混合物を高速液体クロマトグラ
フィにより分析したところ、(6E)−9,10−セコ
コレスタ−5(10)、6.8−トリエン−3β。
25−ジオールの変換率は90%、(6Z)9.10−
セココレスタ−5(10)、6.Bトリエン−3β、2
5−ジオールの選択率は86%であった。反応終了後、
反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣を高速液体クロマト
グラフィにより精製し、下記の物性値を示す(6Z)−
9,10セココレスタ−5(10)、6.8−トリエン
3β、25−ジオールを20.3mg得た(収率65%
)。
セココレスタ−5(10)、6.Bトリエン−3β、2
5−ジオールの選択率は86%であった。反応終了後、
反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣を高速液体クロマト
グラフィにより精製し、下記の物性値を示す(6Z)−
9,10セココレスタ−5(10)、6.8−トリエン
3β、25−ジオールを20.3mg得た(収率65%
)。
紫外吸収スペクトル(λmax):260nm質量スペ
クトル(m/z): 400 (M′″)実施例2 コレスタ−5,7−ジエン−3β、25−ジオール67
.4mgをジエチルエーテル200 m lに溶解し、
得られた溶液にアルゴンガスを通じながら−2〜−5℃
の範囲内の温度でフッ化クリプトンエキシマレーザ−(
照射パワー1.5W、繰り返し数70Hz)を用いて波
長248 nmの紫外レーザー光を18.75分間照射
した0反応終了後、反応混合物に9−フルオレノン30
.4mgを加え、アルゴンガスを通じながら−2〜−5
℃の範囲内の温度でフッ化キセノンエキシマレーザ−(
照射パワー0.5W、繰り返し数70Hz)を用いて波
長351 nmの紫外レーザー光を9分間照射した1反
応混合物を高速液体グロマトグラフイにより分析したと
ころ、コレスタ5.7−ジエン−3β、25−ジオール
の変換率は91%、(6Z)−9,10−セココレスタ
−5(10) 、 6. 8− ト
リ エ ン −3β 、 2 5 −
ジオールの選択率は74%であった1反応終了後、反応
混合物を減圧下に濃縮し、残渣を高速液体クロマトグラ
フィにより精製し、実施例1で得られたものと同じ物性
値を示す(6Z)−9,10−セココレスタ−5(10
)、6.8−トリエン−3β、25−ジオールを34.
5mg得た(収率51%)。
クトル(m/z): 400 (M′″)実施例2 コレスタ−5,7−ジエン−3β、25−ジオール67
.4mgをジエチルエーテル200 m lに溶解し、
得られた溶液にアルゴンガスを通じながら−2〜−5℃
の範囲内の温度でフッ化クリプトンエキシマレーザ−(
照射パワー1.5W、繰り返し数70Hz)を用いて波
長248 nmの紫外レーザー光を18.75分間照射
した0反応終了後、反応混合物に9−フルオレノン30
.4mgを加え、アルゴンガスを通じながら−2〜−5
℃の範囲内の温度でフッ化キセノンエキシマレーザ−(
照射パワー0.5W、繰り返し数70Hz)を用いて波
長351 nmの紫外レーザー光を9分間照射した1反
応混合物を高速液体グロマトグラフイにより分析したと
ころ、コレスタ5.7−ジエン−3β、25−ジオール
の変換率は91%、(6Z)−9,10−セココレスタ
−5(10) 、 6. 8− ト
リ エ ン −3β 、 2 5 −
ジオールの選択率は74%であった1反応終了後、反応
混合物を減圧下に濃縮し、残渣を高速液体クロマトグラ
フィにより精製し、実施例1で得られたものと同じ物性
値を示す(6Z)−9,10−セココレスタ−5(10
)、6.8−トリエン−3β、25−ジオールを34.
5mg得た(収率51%)。
比較例1
コレスタ−5,7−ジエン−3β、25−ジオール67
.4mgをジエチルエーテル200 m lに溶解し、
得られた溶液にアルゴンガスを通じながら5〜10℃の
範囲内の温度で、400W高圧水銀灯を用い、バイコー
ル(V y c o r )フィルタを通して、3分間
紫外線を照射した。反応混合物を高速液体クロマトグラ
フィで分析したところ、コレスタ−5,7−ジエン−3
β、25−ジオールの変換率は39%、(6Z)−9,
10−セココレスタ−5(1o)、6.8−トリエン−
3β、25−ジオールの選択率は44%であった0反応
終了後、反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣を高速液体
クロマトグラフィにより精製し、実施例1で得られたも
のと同じ物性値を示す(6Z)−9,10ニセココレス
タ−5(lO)、6.8−トリエン−3β、25−ジオ
ールを7.1mg得た(収率11%) 参考例1 実施例2と同様にして反応を行うことにより(6Z)−
9,10−セココレスタ−5(10)6.8−1リエン
ー3β、25−ジオールを含む反応混合物を得た9反応
混合物を減圧下に濃縮し、残渣にヘキサン100 m
lを加え、アルゴン雰囲気下に2時間加熱還流した。反
応混合物を室温まで放冷したのち、減圧下に濃縮し、残
渣を高速液体グロマトグラフィで精製し、下記の物性値
を示す9,10−セココレスタ−5,7゜10 (19
)−1−クエン−3β、25−ジオールを40.6mg
得た(収率60%) このものの物性値は文献値と一致
した。
.4mgをジエチルエーテル200 m lに溶解し、
得られた溶液にアルゴンガスを通じながら5〜10℃の
範囲内の温度で、400W高圧水銀灯を用い、バイコー
ル(V y c o r )フィルタを通して、3分間
紫外線を照射した。反応混合物を高速液体クロマトグラ
フィで分析したところ、コレスタ−5,7−ジエン−3
β、25−ジオールの変換率は39%、(6Z)−9,
10−セココレスタ−5(1o)、6.8−トリエン−
3β、25−ジオールの選択率は44%であった0反応
終了後、反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣を高速液体
クロマトグラフィにより精製し、実施例1で得られたも
のと同じ物性値を示す(6Z)−9,10ニセココレス
タ−5(lO)、6.8−トリエン−3β、25−ジオ
ールを7.1mg得た(収率11%) 参考例1 実施例2と同様にして反応を行うことにより(6Z)−
9,10−セココレスタ−5(10)6.8−1リエン
ー3β、25−ジオールを含む反応混合物を得た9反応
混合物を減圧下に濃縮し、残渣にヘキサン100 m
lを加え、アルゴン雰囲気下に2時間加熱還流した。反
応混合物を室温まで放冷したのち、減圧下に濃縮し、残
渣を高速液体グロマトグラフィで精製し、下記の物性値
を示す9,10−セココレスタ−5,7゜10 (19
)−1−クエン−3β、25−ジオールを40.6mg
得た(収率60%) このものの物性値は文献値と一致
した。
紫外吸収スペクトル(λm a x ) ・265n
m質量スペクトル(m/ z) : 400 (M”
)比較例2 比較例1と同様にして反応を行うことにより(6Z)−
9,10−セココレスタ−5(10)、6.8−トリエ
ン−3β、25−ジオールを含む反応混合物を得た6反
応混合物を減圧下に濃縮し、残渣にヘキサン100m1
を加え、アルゴン雰囲気下に2時間加熱還流した0反応
混合物を高速液体クロマトグラフィにより分析したとこ
ろ、コレスタ−5,7−ジエン−3β、25−ジオール
の変換率は43%、9.10−セココレスタ −
5. 7. 10 (19) −1
リ エ ン − 3 β 。
m質量スペクトル(m/ z) : 400 (M”
)比較例2 比較例1と同様にして反応を行うことにより(6Z)−
9,10−セココレスタ−5(10)、6.8−トリエ
ン−3β、25−ジオールを含む反応混合物を得た6反
応混合物を減圧下に濃縮し、残渣にヘキサン100m1
を加え、アルゴン雰囲気下に2時間加熱還流した0反応
混合物を高速液体クロマトグラフィにより分析したとこ
ろ、コレスタ−5,7−ジエン−3β、25−ジオール
の変換率は43%、9.10−セココレスタ −
5. 7. 10 (19) −1
リ エ ン − 3 β 。
25−ジオールの選択率は42%であった1反応混合物
を室温まで放冷したのち、減圧下に濃縮し、残渣を高速
液体クロマトグラフィにより精製し、参考例1で得られ
たものと同じ物性値を示す9.10−セココレスタ−5
,7,10(19)−トリエン−3β、25−ジオール
を9.7mg得た(収率14%)。
を室温まで放冷したのち、減圧下に濃縮し、残渣を高速
液体クロマトグラフィにより精製し、参考例1で得られ
たものと同じ物性値を示す9.10−セココレスタ−5
,7,10(19)−トリエン−3β、25−ジオール
を9.7mg得た(収率14%)。
実施例3
コレスタ−5,7−シエンー3β、24.25トリオ−
ルア0.1mgをジエチルエーテルエタノール混合溶液
200m1(容量比2対1)に溶解し、得られた溶液に
一5〜O℃の範囲内の温度でフッ化クリプトンエキシマ
レーザ−(照射パワー1.5W、繰り返し数70Hz)
を用いて波長248 nmの紫外レーザー光を20.5
分間照射した0反応混合物を高速液体クロマトグラフィ
により分析したところ、コレスタ−5,7ジエンー3β
、24.25−1−ジオールの変換率は91%、(8E
)−9,10−セココレスタ−5(10)、 6
. 8− ト リ エ ン −3β
、 2 4 。
ルア0.1mgをジエチルエーテルエタノール混合溶液
200m1(容量比2対1)に溶解し、得られた溶液に
一5〜O℃の範囲内の温度でフッ化クリプトンエキシマ
レーザ−(照射パワー1.5W、繰り返し数70Hz)
を用いて波長248 nmの紫外レーザー光を20.5
分間照射した0反応混合物を高速液体クロマトグラフィ
により分析したところ、コレスタ−5,7ジエンー3β
、24.25−1−ジオールの変換率は91%、(8E
)−9,10−セココレスタ−5(10)、 6
. 8− ト リ エ ン −3β
、 2 4 。
25−トリオールの選択率は61%であった0反応終了
後、反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣を高速液体クロ
マトグラフィにより精製し、(6E)−9,l O−セ
)Dレスター5(10)6.8−トリエン−3β、24
.25−トリオール36.5mgを得た(収率52%)
、これをジエチルエーテル−エタノール混合溶液120
m 1(容量比2対1)に溶解し、得られた溶液に9
−フルオレノン19.8mgを加え、アルゴンガスを通
じながら一5〜0℃の範囲内の温度でフッ化キセノンエ
キシマレーザ−(照射パワー0. 5W、繰り返し数7
0Hz)を用いて波長351nmの紫外レーザー光を5
0分間照射した6反応終了後、反応混合物を減圧下に濃
縮し、残渣を高速液体グロマトグラフィにより精製し、
下記の物性値を示す(6Z)−9,10−セココレスタ
−5(10) 、 6. 8 −
ト リ エ ン −3β 、 2 4
。
後、反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣を高速液体クロ
マトグラフィにより精製し、(6E)−9,l O−セ
)Dレスター5(10)6.8−トリエン−3β、24
.25−トリオール36.5mgを得た(収率52%)
、これをジエチルエーテル−エタノール混合溶液120
m 1(容量比2対1)に溶解し、得られた溶液に9
−フルオレノン19.8mgを加え、アルゴンガスを通
じながら一5〜0℃の範囲内の温度でフッ化キセノンエ
キシマレーザ−(照射パワー0. 5W、繰り返し数7
0Hz)を用いて波長351nmの紫外レーザー光を5
0分間照射した6反応終了後、反応混合物を減圧下に濃
縮し、残渣を高速液体グロマトグラフィにより精製し、
下記の物性値を示す(6Z)−9,10−セココレスタ
−5(10) 、 6. 8 −
ト リ エ ン −3β 、 2 4
。
25−トリオールを21.7mg得た(収率59%)。
紫外吸収スペクトル(λmax):261nm質量スペ
クトル(m/z) : 416 (M” )実施例4 コレスタ−5,7−ジエン−3β、24.’25−トリ
オ−ルア0.1mgをジエチルエーテル−エタノール混
合溶液200m1(容量比2対1)に溶解し、得られた
溶液にアルゴンガスを通じながら−5〜0℃の範囲内の
温度でフッ化クリプトンエキシマレーザ−(照射パワー
1.5W、繰り返し数70Hz)を用いて波長248n
mの紫外レーザー光を20,5分間照射した0反応終了
後、反応混合物に9−フルオレノン30.4mgを加え
、アルゴンガスを通じながら一5〜0℃の範囲内の温度
でフッ化キセノンエキシマレーザ−(照射パワー0.5
W、繰り返し数70Hz)を用いて波長351nmの紫
外レーザー光を85分間照射した0反応混合物を高速液
体クロマトグラフィにより分析したところ、コレスタ−
5,7ジエンー3β、24.25−トリオールの変換率
は90%、(6Z)−9,1o−セココレスタ5
(10) 、 8. 8−1−
リ エ ン − 3 β 、 2 4 。
クトル(m/z) : 416 (M” )実施例4 コレスタ−5,7−ジエン−3β、24.’25−トリ
オ−ルア0.1mgをジエチルエーテル−エタノール混
合溶液200m1(容量比2対1)に溶解し、得られた
溶液にアルゴンガスを通じながら−5〜0℃の範囲内の
温度でフッ化クリプトンエキシマレーザ−(照射パワー
1.5W、繰り返し数70Hz)を用いて波長248n
mの紫外レーザー光を20,5分間照射した0反応終了
後、反応混合物に9−フルオレノン30.4mgを加え
、アルゴンガスを通じながら一5〜0℃の範囲内の温度
でフッ化キセノンエキシマレーザ−(照射パワー0.5
W、繰り返し数70Hz)を用いて波長351nmの紫
外レーザー光を85分間照射した0反応混合物を高速液
体クロマトグラフィにより分析したところ、コレスタ−
5,7ジエンー3β、24.25−トリオールの変換率
は90%、(6Z)−9,1o−セココレスタ5
(10) 、 8. 8−1−
リ エ ン − 3 β 、 2 4 。
25−トリオールの選択率は67%であった0反応終了
後、反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣を高速液体クロ
マトグラフィにより精製し、実施例3で得られたものと
同じ物性値を示す(6Z)9.10−セココレスタ−5
(10)、8.8ト リ エ ン −3β
、 24. 25−1− リ オ −
ル を36.0mg得た(収率51%)。
後、反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣を高速液体クロ
マトグラフィにより精製し、実施例3で得られたものと
同じ物性値を示す(6Z)9.10−セココレスタ−5
(10)、8.8ト リ エ ン −3β
、 24. 25−1− リ オ −
ル を36.0mg得た(収率51%)。
参考例2
実施例4と同様にして反応を行うことにより(6Z)−
9,10−セココレスタ−5(10)6 、 8−トリ
エン−3β、24.25−トリオールを含む反応混合物
を得た。反応混合物を減圧下に濃縮し、得られた残渣に
ヘキサン100 m lを加え、アルゴン雰囲気下に2
時間加熱還流した。反応混合物を高速液体クロマトグラ
フィにより分析したところ、コレスタ−5,7−ジエン
−3β、24.25−hリオールの変換率は91%、9
.10−セココレスタ−5,7,10(19) −
ト リ エ ン −3β 、 24.
25− ト リ オ −ルの選択率は68%
であった。反応混合物を室温まで放冷したのち、減圧下
に濃縮し、残渣を高速液体クロマトグラフィにより精製
、下記の物性値を示す9,10−セココレスタ−5,7
,10(19)−ト リ エ ン − 3
β 、24.25− ト リ オ −ルを4
1.9mg得た(収率60%)。このものの物性値は文
献値と一致した。
9,10−セココレスタ−5(10)6 、 8−トリ
エン−3β、24.25−トリオールを含む反応混合物
を得た。反応混合物を減圧下に濃縮し、得られた残渣に
ヘキサン100 m lを加え、アルゴン雰囲気下に2
時間加熱還流した。反応混合物を高速液体クロマトグラ
フィにより分析したところ、コレスタ−5,7−ジエン
−3β、24.25−hリオールの変換率は91%、9
.10−セココレスタ−5,7,10(19) −
ト リ エ ン −3β 、 24.
25− ト リ オ −ルの選択率は68%
であった。反応混合物を室温まで放冷したのち、減圧下
に濃縮し、残渣を高速液体クロマトグラフィにより精製
、下記の物性値を示す9,10−セココレスタ−5,7
,10(19)−ト リ エ ン − 3
β 、24.25− ト リ オ −ルを4
1.9mg得た(収率60%)。このものの物性値は文
献値と一致した。
紫外吸収スペクトル(λmax):265nm質量スペ
クトル(m/z): 416 (M” )実施例5 実施例2においてコレスタ−5,7−ジエン3β、25
−ジオール67.4mgの代わりに25.26−0−イ
ソプロピリデン−3−メトキシカルボニルオキシコレス
タ−5,7−ジエン25.26−ジオール82.2mg
を用い、9フルオレノン30.4mgの代わりにベンゾ
フェノン29.1mgを用い、かつフッ化キセノンエキ
シマレーザ−(照射パワー0.5W、繰り返し数70H
z)を用いて波長351nmの紫外レーザー光を9分間
照射する代わりに窒素レーザー(照射パワー0.1W1
繰り返し数20Hz)を用いて波長337nmの紫外レ
ーザー光を30分間照射した以外は同様にして反応及び
分離操作を行うことにより、下記の物性値を示す(6Z
)−25,26−〇−イソプロピリデンー3−メトキシ
カルボニルオキシ−9,10−セココレスタ5
(10)、 6. 8− ト リ
エ ン −25,26ジオールを38.4mg得た(収
率47%)。
クトル(m/z): 416 (M” )実施例5 実施例2においてコレスタ−5,7−ジエン3β、25
−ジオール67.4mgの代わりに25.26−0−イ
ソプロピリデン−3−メトキシカルボニルオキシコレス
タ−5,7−ジエン25.26−ジオール82.2mg
を用い、9フルオレノン30.4mgの代わりにベンゾ
フェノン29.1mgを用い、かつフッ化キセノンエキ
シマレーザ−(照射パワー0.5W、繰り返し数70H
z)を用いて波長351nmの紫外レーザー光を9分間
照射する代わりに窒素レーザー(照射パワー0.1W1
繰り返し数20Hz)を用いて波長337nmの紫外レ
ーザー光を30分間照射した以外は同様にして反応及び
分離操作を行うことにより、下記の物性値を示す(6Z
)−25,26−〇−イソプロピリデンー3−メトキシ
カルボニルオキシ−9,10−セココレスタ5
(10)、 6. 8− ト リ
エ ン −25,26ジオールを38.4mg得た(収
率47%)。
紫外吸収スペクトル(λmax):261nm質量スペ
クトル(m/ z) : 514 (M” )参考例
3 実施例5と同様にして反応を行うことにより(6Z)−
25,26−0−イソプロピリデン−3−メトキシカル
ボニルオキシ−9,10−セココレスタ−5(10)、
6.8−トリエン25.26−ジオールを含む反応混合
物を得た。
クトル(m/ z) : 514 (M” )参考例
3 実施例5と同様にして反応を行うことにより(6Z)−
25,26−0−イソプロピリデン−3−メトキシカル
ボニルオキシ−9,10−セココレスタ−5(10)、
6.8−トリエン25.26−ジオールを含む反応混合
物を得た。
反応混合物を減圧下に濃縮したのち、残渣にヘキサン1
00 m lを加え、アルゴン雰囲気下に2時間加熱還
流した0反応混合物を室温まで放冷したのち、減圧下に
濃縮した。残渣にメタノール5ml及びp−hルエンス
ルホン酸10 m gを加え、アルゴン雰囲気下に室温
で4時間攪拌した。
00 m lを加え、アルゴン雰囲気下に2時間加熱還
流した0反応混合物を室温まで放冷したのち、減圧下に
濃縮した。残渣にメタノール5ml及びp−hルエンス
ルホン酸10 m gを加え、アルゴン雰囲気下に室温
で4時間攪拌した。
反応混合物を重曹で中和し、減圧下にメタノールを留去
した。残渣を酢酸エチルで希釈し、水及び食塩水で順次
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下に濃縮した
。残渣にメタノール5 m l及び水酸化カリウム20
mgを加え、アルゴン雰囲気下に1時間加熱還流した。
した。残渣を酢酸エチルで希釈し、水及び食塩水で順次
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下に濃縮した
。残渣にメタノール5 m l及び水酸化カリウム20
mgを加え、アルゴン雰囲気下に1時間加熱還流した。
反応混合物を室温まで放冷したのち、水を加え、酢酸エ
チルで抽出した6抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリ
ウム上で乾燥したのち、減圧下に濃縮した。残渣を高速
液体グロマトグラフィにより精製し、下記の物性値を示
す9,10−セココレスタ−5,7゜10 (1
9) −ト リ エ ン −3β 、
25. 26 − トリオールを41.3
mg得た(収率62%) このものの物性値は文献値と
一致した。
チルで抽出した6抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリ
ウム上で乾燥したのち、減圧下に濃縮した。残渣を高速
液体グロマトグラフィにより精製し、下記の物性値を示
す9,10−セココレスタ−5,7゜10 (1
9) −ト リ エ ン −3β 、
25. 26 − トリオールを41.3
mg得た(収率62%) このものの物性値は文献値と
一致した。
紫外吸収スペクトル(λmax):265nm質量スペ
クトル(m/z): 416 (M” )実施例6 実施例1においてコレスタ−5,7−ジエン3β、25
−ジオール67.4mgの代わりに3β−(テトラヒド
ロビラン−2−イル)オキシコレスタ−5,7−シエン
ー24−オン−25−オール80.Omgを用いた以外
は同様にして反応及び分離操作を行うことにより、下記
の物性値を示す(6Z)−3−β−(テトラヒドロビラ
ン2−イル)オキシ−9,10−セココレスタ−5(1
0)、6.8−1リエンー24−オン−25オール42
.7mgを得た(収率53%)紫外吸収スペクトル(1
m a x ) ・261 nm質量スペクトル(m
/z): 500 (M” )参考例4 実施例6と同様にして反応を行うことにより(6Z)−
3−β−(テトラヒドロビラン−2イル)オキシ−9,
10−セココレスタ−5(10)、6.8−トリエン−
24−オン−25オールを含む反応混合物を得た。反応
混合物を減圧下に濃縮し、残渣にヘキサン100 m
lを加え、アルゴン雰囲気下に2時間加熱還流した。反
応混合物を室温まで放冷したのち、減圧下に濃縮した。
クトル(m/z): 416 (M” )実施例6 実施例1においてコレスタ−5,7−ジエン3β、25
−ジオール67.4mgの代わりに3β−(テトラヒド
ロビラン−2−イル)オキシコレスタ−5,7−シエン
ー24−オン−25−オール80.Omgを用いた以外
は同様にして反応及び分離操作を行うことにより、下記
の物性値を示す(6Z)−3−β−(テトラヒドロビラ
ン2−イル)オキシ−9,10−セココレスタ−5(1
0)、6.8−1リエンー24−オン−25オール42
.7mgを得た(収率53%)紫外吸収スペクトル(1
m a x ) ・261 nm質量スペクトル(m
/z): 500 (M” )参考例4 実施例6と同様にして反応を行うことにより(6Z)−
3−β−(テトラヒドロビラン−2イル)オキシ−9,
10−セココレスタ−5(10)、6.8−トリエン−
24−オン−25オールを含む反応混合物を得た。反応
混合物を減圧下に濃縮し、残渣にヘキサン100 m
lを加え、アルゴン雰囲気下に2時間加熱還流した。反
応混合物を室温まで放冷したのち、減圧下に濃縮した。
残渣をメタノール5 m lに溶解し、得られた溶液に
p−1−ルエンスルボン酸ピリジニウム5mgを加え、
アルゴン雰囲気下に室温で3時間攪拌した。反応混合物
を酢酸エチルで希釈し、食塩水で洗浄したのち、硫酸ナ
トリウム上で乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣を高速液
体クロマトグラフィにより精製し、下記の物性値を示す
9゜10−セココレスタ−5,7,10(19)トリエ
ン−24−オン−3β−25−ジオールを39.2mg
得た(収率59%)、このものの物性値は文献値と一致
した。
p−1−ルエンスルボン酸ピリジニウム5mgを加え、
アルゴン雰囲気下に室温で3時間攪拌した。反応混合物
を酢酸エチルで希釈し、食塩水で洗浄したのち、硫酸ナ
トリウム上で乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣を高速液
体クロマトグラフィにより精製し、下記の物性値を示す
9゜10−セココレスタ−5,7,10(19)トリエ
ン−24−オン−3β−25−ジオールを39.2mg
得た(収率59%)、このものの物性値は文献値と一致
した。
紫外吸収スペクトル(1m a x ) ・265n
m質量スペクトル(m/ z) : 414 (M”
)実施例7 3β−アセトキシコレスタ−5,7−ジエン25−オー
ル70.7mgをジエチルエーテル200 m lに溶
解し、得られた溶液にアルゴンガスを通じながら一5〜
O℃の範囲内の温度でYAGレーザーの第4高調波(照
射パワーIW、繰り返し数50Hz H波!%266n
m)を25.3分間照射した6反応終了後、反応混合物
に9−フルオレノン30.4mgを加え、アルゴンガス
を通じながら一5〜O℃の範囲内の温度でYAGレザー
の第3高調波(照射パワーIW、繰り返し数50Hz;
波長355nm)を34分間照射した。反応混合物を減
圧下に濃縮し、残渣を高速液体グロマトグラフィにより
精製し、下記の物性値を示す(6,2)−3β−アセト
キシ−9,1゜セココレスタ−5(to)、6.8−ト
リエン25−オールを35.1mg得た(収率50%)
。
m質量スペクトル(m/ z) : 414 (M”
)実施例7 3β−アセトキシコレスタ−5,7−ジエン25−オー
ル70.7mgをジエチルエーテル200 m lに溶
解し、得られた溶液にアルゴンガスを通じながら一5〜
O℃の範囲内の温度でYAGレーザーの第4高調波(照
射パワーIW、繰り返し数50Hz H波!%266n
m)を25.3分間照射した6反応終了後、反応混合物
に9−フルオレノン30.4mgを加え、アルゴンガス
を通じながら一5〜O℃の範囲内の温度でYAGレザー
の第3高調波(照射パワーIW、繰り返し数50Hz;
波長355nm)を34分間照射した。反応混合物を減
圧下に濃縮し、残渣を高速液体グロマトグラフィにより
精製し、下記の物性値を示す(6,2)−3β−アセト
キシ−9,1゜セココレスタ−5(to)、6.8−ト
リエン25−オールを35.1mg得た(収率50%)
。
紫外吸収スペクトル(λmaχ):262nm質量スペ
クトル(m/ z ) : 、442 (M” )参
考例5 実施例7と同様にして反応を行うことにより(6Z)−
3β−アセトキシ−9,10−セココレスタ−5(10
) 6.8−1リエンー25オールを含む反応混合
物を得た6反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣にヘキサ
ン100 m lを加え、アルゴン雰囲気下に2時間加
熱還流した0反応混合物を室温まで放冷したのち、減圧
下に濃縮した。残渣にメタノール10 m l及び炭酸
カリウム10mgを加え、アルゴン雰囲気下に室温で3
時間攪拌した。反応混合物を水で希釈し、酢酸エチルで
抽出し、抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣を高速液体クロマトグ
ラフィにより精製し、参考例1で得られたものと同じ物
性値を示す9,10セココレスタ−5,7,10(19
)−トリエン3β、25−ジオールを37.7mg得た
(収率59%)。
クトル(m/ z ) : 、442 (M” )参
考例5 実施例7と同様にして反応を行うことにより(6Z)−
3β−アセトキシ−9,10−セココレスタ−5(10
) 6.8−1リエンー25オールを含む反応混合
物を得た6反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣にヘキサ
ン100 m lを加え、アルゴン雰囲気下に2時間加
熱還流した0反応混合物を室温まで放冷したのち、減圧
下に濃縮した。残渣にメタノール10 m l及び炭酸
カリウム10mgを加え、アルゴン雰囲気下に室温で3
時間攪拌した。反応混合物を水で希釈し、酢酸エチルで
抽出し、抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣を高速液体クロマトグ
ラフィにより精製し、参考例1で得られたものと同じ物
性値を示す9,10セココレスタ−5,7,10(19
)−トリエン3β、25−ジオールを37.7mg得た
(収率59%)。
実施例8
実施例1においてコレスタ−5,7−ジエン3β、25
−ジオール137.4mgの代わりに3β−tert−
ブチルジメチルシリルオキシコレスタ−5,7−ジエン
−24,25−ジオール84.8mgを用いた以外は同
様にして反応及び分離操作を行うことにより、下記の物
性値を示す(6Z)−3β−tert−ブチルジメチル
シリルオキシ−910−セココレスタ−5(10)、6
.8−トリエン−24,25−ジオールを40.9mg
得た(収率48%) 紫外吸収スペクトル(1m a x ) ・261
n rn質量スペクトル(m/z): 530 (M”
)参考例6 実施例8と同様にして反応を行うことにより(6Z)−
3β−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−9,1
0−セココレスタ−5(10)、6.8−1−リエンー
24.25−ジオールを含む反応混合物を得た。反応混
合物を減圧下に濃縮し、得られた残渣にヘキサン100
m lを加え、アルゴン雰囲気下に2時間加熱還流し
た6反応混合物を室温まで放冷したのち、減圧下に濃縮
した。残渣をテトラヒドロフラン10 m lに溶解し
、得られた溶液に1規定フツ化テトラブチルアンモニウ
ム−テトラヒドロフラン溶液0.5mlを加え、アルゴ
ン雰囲気下に室温で4時間攪拌した。反応混合物に水を
加え、酢酸エチルで抽出し、抽出液を重曹水及び食塩水
で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下に濃
縮した。残渣を高速液体グロマトグラフイにより精製し
、参考例3において得られたものと同じ物性値を示す9
.10−セココレスタ5,7.10 (19)−ト
リ エ ン −3β 、 24. 2
50 ト リ オ − ル を41.3mg得
た(収率62%)。
−ジオール137.4mgの代わりに3β−tert−
ブチルジメチルシリルオキシコレスタ−5,7−ジエン
−24,25−ジオール84.8mgを用いた以外は同
様にして反応及び分離操作を行うことにより、下記の物
性値を示す(6Z)−3β−tert−ブチルジメチル
シリルオキシ−910−セココレスタ−5(10)、6
.8−トリエン−24,25−ジオールを40.9mg
得た(収率48%) 紫外吸収スペクトル(1m a x ) ・261
n rn質量スペクトル(m/z): 530 (M”
)参考例6 実施例8と同様にして反応を行うことにより(6Z)−
3β−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−9,1
0−セココレスタ−5(10)、6.8−1−リエンー
24.25−ジオールを含む反応混合物を得た。反応混
合物を減圧下に濃縮し、得られた残渣にヘキサン100
m lを加え、アルゴン雰囲気下に2時間加熱還流し
た6反応混合物を室温まで放冷したのち、減圧下に濃縮
した。残渣をテトラヒドロフラン10 m lに溶解し
、得られた溶液に1規定フツ化テトラブチルアンモニウ
ム−テトラヒドロフラン溶液0.5mlを加え、アルゴ
ン雰囲気下に室温で4時間攪拌した。反応混合物に水を
加え、酢酸エチルで抽出し、抽出液を重曹水及び食塩水
で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下に濃
縮した。残渣を高速液体グロマトグラフイにより精製し
、参考例3において得られたものと同じ物性値を示す9
.10−セココレスタ5,7.10 (19)−ト
リ エ ン −3β 、 24. 2
50 ト リ オ − ル を41.3mg得
た(収率62%)。
金物からの化合物(rV)の分離操作が極めて容易とな
る。
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1及びR^2はそれぞれ水素原子又は水酸
基の保護基を表し、X^1は水素原子若しくは式−OR
^3で示される基を表し、かつX^2は水素原子を表す
か、又はX^1とX^2は一緒になつてオクソ基を表し
、Yは水素原子又は式−OR^4で示される基を表し、
R^3及びR^4はそれぞれ水素原子又は水酸基の保護
基を表す) で示される25−ヒドロキシタキステロール誘導体に波
長280〜400nmの範囲から選ばれる波長を有する
紫外レーザー光を照射することを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、X^1、X^2及びYはそれ
ぞれ前記定義のとおりである) で示される25−ヒドロキシプレビタミンD誘導体の製
造方法。 2、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、X^1、X^2及びYはそれ
ぞれ請求項1記載の定義のとおりである) で示される25−ヒドロキシプロビタミンD誘導体に波
長190〜310nmの範囲から選ばれる波長を有する
紫外レーザー光と波長280〜400nmの範囲から選
ばれ、かつ前記の紫外レーザー光よりも長い波長を有す
る紫外レーザー光を逐次的に又は同時に照射することを
特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、X^1、X^2及びYはそれ
ぞれ前記定義のとおりである) で示される25−ヒドロキシプレビタミンD誘導体の製
造方法。 3、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、X^1、X^2及びYはそれ
ぞれ請求項1記載の定義のとおりである) で示される25−ヒドロキシプロビタミンD誘導体に波
長190〜310nmの範囲から選ばれる波長を有する
紫外レーザー光を照射することにより一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、X^1、X^2及びYはそれ
ぞれ前記定義のとおりである) で示される25−ヒドロキシタキステロール誘導体を得
、該25−ヒドロキシタキステロール誘導体に波長28
0〜400nmの範囲から選ばれ、かつ前記の紫外レー
ザー光よりも長い波長を有する紫外レーザー光を照射す
ることを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、X^1、X^2及びYはそれ
ぞれ前記定義のとおりである) で示される25−ヒドロキシプレビタミンD誘導体の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2199476A JP2752509B2 (ja) | 1990-07-26 | 1990-07-26 | 25―ヒドロキシプレビタミンd誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2199476A JP2752509B2 (ja) | 1990-07-26 | 1990-07-26 | 25―ヒドロキシプレビタミンd誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0489476A true JPH0489476A (ja) | 1992-03-23 |
| JP2752509B2 JP2752509B2 (ja) | 1998-05-18 |
Family
ID=16408438
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2199476A Expired - Lifetime JP2752509B2 (ja) | 1990-07-26 | 1990-07-26 | 25―ヒドロキシプレビタミンd誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2752509B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6902654B2 (en) | 1998-07-03 | 2005-06-07 | Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha | Ultraviolet irradiation apparatus for photochemical reaction and preparation process of vitamin D derivative making use of the same |
-
1990
- 1990-07-26 JP JP2199476A patent/JP2752509B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6902654B2 (en) | 1998-07-03 | 2005-06-07 | Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha | Ultraviolet irradiation apparatus for photochemical reaction and preparation process of vitamin D derivative making use of the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2752509B2 (ja) | 1998-05-18 |
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