JPH0499294A - 酸素発生用陽極及びその製法 - Google Patents
酸素発生用陽極及びその製法Info
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- JPH0499294A JPH0499294A JP2213470A JP21347090A JPH0499294A JP H0499294 A JPH0499294 A JP H0499294A JP 2213470 A JP2213470 A JP 2213470A JP 21347090 A JP21347090 A JP 21347090A JP H0499294 A JPH0499294 A JP H0499294A
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- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 17
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 title claims abstract description 17
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims abstract description 48
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 32
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 30
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 30
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 16
- HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N dioxoiridium Chemical compound O=[Ir]=O HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 229910000457 iridium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims abstract description 11
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 claims description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims 3
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 8
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 7
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 abstract description 6
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 abstract description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 12
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 4
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 2
- 229910003445 palladium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I tantalum(v) chloride Chemical compound Cl[Ta](Cl)(Cl)(Cl)Cl OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000978 Pb alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000566 Platinum-iridium alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;titanium Chemical compound [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZZUATUOLXMCEY-UHFFFAOYSA-N cobalt manganese Chemical compound [Mn].[Co] MZZUATUOLXMCEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 cohaltonisochelium Chemical compound 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010285 flame spraying Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N oxopalladium Chemical compound [Pd]=O HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUMZUERVLWJKNR-UHFFFAOYSA-N oxoplatinum Chemical compound [Pt]=O MUMZUERVLWJKNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N oxozirconium;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.[Zr]=O CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I pentachloroniobium Chemical compound Cl[Nb](Cl)(Cl)(Cl)Cl YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 description 1
- 229910003446 platinum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- HWLDNSXPUQTBOD-UHFFFAOYSA-N platinum-iridium alloy Chemical class [Ir].[Pt] HWLDNSXPUQTBOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- GZCWPZJOEIAXRU-UHFFFAOYSA-N tin zinc Chemical compound [Zn].[Sn] GZCWPZJOEIAXRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
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- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
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- C25B11/091—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds
- C25B11/093—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds at least one noble metal or noble metal oxide and at least one non-noble metal oxide
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は酸素発生を伴う電解工程、特にスズ亜鉛、クロ
ム等の電気メツキに使用される不溶性陽極に関するもの
である。
ム等の電気メツキに使用される不溶性陽極に関するもの
である。
〔従来の技術と解決しようとする課題〕スズ、亜鉛、ク
ロム等の連続帯状鋼板の電気メツキ用陽極としては現在
、鉛又は鉛合金が使用されているが、鉛は比較的消耗が
速く、メツキ液中に溶は出し、メツキ液の汚染やメツキ
被膜の劣化等の問題があった。これに代る陽極として白
金メツキ陽極や白金箔クラッド陽極が検討されているが
、白金の消耗が大きく未だ解決されていない。
ロム等の連続帯状鋼板の電気メツキ用陽極としては現在
、鉛又は鉛合金が使用されているが、鉛は比較的消耗が
速く、メツキ液中に溶は出し、メツキ液の汚染やメツキ
被膜の劣化等の問題があった。これに代る陽極として白
金メツキ陽極や白金箔クラッド陽極が検討されているが
、白金の消耗が大きく未だ解決されていない。
そのため消耗の少ない不溶性陽極が種々提案されている
。
。
例えば特開昭59−38394号には導電性金属基体上
に、4価の原子価をとるチタン及びスズから選ばれた少
なくとも1種の金属酸化物と5価の原子価をとるタンタ
ル及びニオブから選ばれた少なくとも1種の金属酸化物
との混合酸化物よりなる中間被覆層を設けて導電性を付
与し、その上に電極活性物質を被覆した電極が提案され
ている。
に、4価の原子価をとるチタン及びスズから選ばれた少
なくとも1種の金属酸化物と5価の原子価をとるタンタ
ル及びニオブから選ばれた少なくとも1種の金属酸化物
との混合酸化物よりなる中間被覆層を設けて導電性を付
与し、その上に電極活性物質を被覆した電極が提案され
ている。
この中間被覆層は4価の金属と5価の金属が混在してお
り、一般に知られている原子価制御原理に基づくN型半
導体となっていると考えられるが、未だ十分な電気導電
性が得られていない。
り、一般に知られている原子価制御原理に基づくN型半
導体となっていると考えられるが、未だ十分な電気導電
性が得られていない。
また特公昭51−19429号には導電性基体と電極活
性物質被覆の中間層に白金−イリジウム合金やコバルト
マンガン、パラジウム、鉛、白金の酸化物からなる酸素
不浸透層を設けて、その上に電解液に対して耐食性を有
する固溶体型の外部被覆からなる電極が提案されている
。これによれば中間層の触媒はそれ自体酸素発生に対し
て触媒活性であり、また固溶体型の外部被覆(実施例よ
り判断すると酸化ルテニウムと酸化チタンとの固溶体)
はそれ以上に触媒活性がある。しかし中間層のうち、コ
バルト、マンガン、パラジウム。
性物質被覆の中間層に白金−イリジウム合金やコバルト
マンガン、パラジウム、鉛、白金の酸化物からなる酸素
不浸透層を設けて、その上に電解液に対して耐食性を有
する固溶体型の外部被覆からなる電極が提案されている
。これによれば中間層の触媒はそれ自体酸素発生に対し
て触媒活性であり、また固溶体型の外部被覆(実施例よ
り判断すると酸化ルテニウムと酸化チタンとの固溶体)
はそれ以上に触媒活性がある。しかし中間層のうち、コ
バルト、マンガン、パラジウム。
鉛、白金の酸化物は硫酸酸性溶液中では比較的消耗が激
しい。また酸化ルテニウムと酸化チタンとの固溶体も硫
酸酸性溶液中で耐久性に乏しく、工業的に使用すること
は困難である。
しい。また酸化ルテニウムと酸化チタンとの固溶体も硫
酸酸性溶液中で耐久性に乏しく、工業的に使用すること
は困難である。
また特開昭59−1.50091号には特開昭59−3
8394号の中間被覆層に白金を分散させた電極が提案
されている。すなわち半導体中間層のキャリア濃度に限
界があるため、さらに導電性を付与するものであるが、
白金自体は電解液。
8394号の中間被覆層に白金を分散させた電極が提案
されている。すなわち半導体中間層のキャリア濃度に限
界があるため、さらに導電性を付与するものであるが、
白金自体は電解液。
特に硫酸酸性液中における電解時に少しずつ溶け、長期
間使用するには限界がある。
間使用するには限界がある。
特開昭6(1184691号には導電性金属基体と電極
活物質との中間層に、チタン及びスズから選ばれた金属
の酸化物と、アルミニウム、カリウム、鉄、コハルトニ
ソケル及びタリウムがら選ばれた少なくとも1種の金属
の酸化物との混合酸化物中に白金を分散した中間層が提
案されている。この中間層は4価の金属と2価又は3価
の金属との混合酸化物中に白金を分散したものであり、
この酸化物は原子価制御原理に基づいてP型半導体とな
り、良好な電導性を有するうえに、分散した白金により
高い電子電導度を付与するものと考えられていた。しか
し白金自体は硫酸酸性電解液中で徐々に溶解し、電解中
は溶解が加速されるので十分な寿命が期待できない。
活物質との中間層に、チタン及びスズから選ばれた金属
の酸化物と、アルミニウム、カリウム、鉄、コハルトニ
ソケル及びタリウムがら選ばれた少なくとも1種の金属
の酸化物との混合酸化物中に白金を分散した中間層が提
案されている。この中間層は4価の金属と2価又は3価
の金属との混合酸化物中に白金を分散したものであり、
この酸化物は原子価制御原理に基づいてP型半導体とな
り、良好な電導性を有するうえに、分散した白金により
高い電子電導度を付与するものと考えられていた。しか
し白金自体は硫酸酸性電解液中で徐々に溶解し、電解中
は溶解が加速されるので十分な寿命が期待できない。
特開昭61174394号には導電性基体上に電気メツ
キ法により多孔質白金層を設け、その上に熱分解により
酸化ルテニウム、酸化パラジウム及び酸化イリジウムか
ら選ばれた少なくとも1種の酸化物層を設けた電極で白
金メツキ層と酸化物層とをくり返し形成させたものが提
案されている。この場合も電解時、硫酸酸性電解液に対
して白金多孔質層が徐々に溶解する問題が解決されてい
ない。
キ法により多孔質白金層を設け、その上に熱分解により
酸化ルテニウム、酸化パラジウム及び酸化イリジウムか
ら選ばれた少なくとも1種の酸化物層を設けた電極で白
金メツキ層と酸化物層とをくり返し形成させたものが提
案されている。この場合も電解時、硫酸酸性電解液に対
して白金多孔質層が徐々に溶解する問題が解決されてい
ない。
本発明者らは、硫酸酸性電解液中で使用する不溶性陽極
として、酸素発生触媒能を持つ第1被覆層の酸化イリジ
ウムの物理的脱落や化学的溶解が第2被覆層の金属酸化
物によって著しく抑制されることを見出し長寿命の電極
を開発したものである。
として、酸素発生触媒能を持つ第1被覆層の酸化イリジ
ウムの物理的脱落や化学的溶解が第2被覆層の金属酸化
物によって著しく抑制されることを見出し長寿命の電極
を開発したものである。
本発明はすなわち、バルブ金属基体上にa)酸化イリジ
ウム30〜80モル半導体と酸化タンタル20〜70モ
ル%との混合酸化物よりなる第1被覆層、b)チタン、
タンタル、スズ、ニオブ及びジルコニウムより選ばれた
少なくとも1種の金属の酸化物よりなる第2被覆層、上
記a)b)単位層を1層もしくは複数層設けたことを特
徴とする酸素発生用陽極と、その製法である。
ウム30〜80モル半導体と酸化タンタル20〜70モ
ル%との混合酸化物よりなる第1被覆層、b)チタン、
タンタル、スズ、ニオブ及びジルコニウムより選ばれた
少なくとも1種の金属の酸化物よりなる第2被覆層、上
記a)b)単位層を1層もしくは複数層設けたことを特
徴とする酸素発生用陽極と、その製法である。
本発明に使用されるバルブ金属基体にはチタン。
タンタル、ニオブ、ジルコニウム及びこれらの合金等の
不動体皮膜を形成する材料が挙げられる。
不動体皮膜を形成する材料が挙げられる。
通常は経済性、電気的2機械的性質や加工性の点からチ
タン及び/又はチタンと他の金属との合金が使用される
。電極の形状としては板状、棒状エキスバンド状、多孔
板状金種々の形状をとりうる。
タン及び/又はチタンと他の金属との合金が使用される
。電極の形状としては板状、棒状エキスバンド状、多孔
板状金種々の形状をとりうる。
第1被覆層中の酸化イリジウムは30モル%未満では酸
素発生の触媒能が低下し、80モル%を越えると第1被
覆層の密着性が損なわれる。第2被覆層を形成するチタ
ン、タンタル、スズ、ニオブ及びジルコニウムより選ば
れた少なくとも1種以上の金属の酸化物よりなる被膜は
第1被覆層上に設けられ、第1被覆層の物理的脱落や化
学的溶解を低下させる効果があり、かつ皮膜が適度の多
孔性を持つため、酸素発生の触媒能を損なうことかない
。したがってこのような単位層を1層もしくは複数層設
けることによって電極の寿命を延長可能とするものであ
る。なお酸化イリジウムは第1及び第2被覆層の合計量
の50モル%以下とした場合にその効果が著しい。第1
被覆層の厚みは0.5〜10μm、第2被覆層の厚みは
0.5〜10μm程度が適当である。
素発生の触媒能が低下し、80モル%を越えると第1被
覆層の密着性が損なわれる。第2被覆層を形成するチタ
ン、タンタル、スズ、ニオブ及びジルコニウムより選ば
れた少なくとも1種以上の金属の酸化物よりなる被膜は
第1被覆層上に設けられ、第1被覆層の物理的脱落や化
学的溶解を低下させる効果があり、かつ皮膜が適度の多
孔性を持つため、酸素発生の触媒能を損なうことかない
。したがってこのような単位層を1層もしくは複数層設
けることによって電極の寿命を延長可能とするものであ
る。なお酸化イリジウムは第1及び第2被覆層の合計量
の50モル%以下とした場合にその効果が著しい。第1
被覆層の厚みは0.5〜10μm、第2被覆層の厚みは
0.5〜10μm程度が適当である。
また本発明陽極においては、バルブ金属基体がチタンで
ある場合に、基体と第1被覆層との間にタンタル、ニオ
ブ又はこれらの合金よりなる耐食性金属の中間層をスパ
ッタリング法、真空蒸着法又は溶射法により設けること
ができる。この中間層は数μm〜数百μmの厚みであり
、金属チタンの酸化を防止するのに効果がある。特にア
ーク溶射、プラズマ溶射、火炎溶射等の溶射法により形
成すると効果が著しく、タンタル又はニオブは僅かに酸
化された被膜となる。
ある場合に、基体と第1被覆層との間にタンタル、ニオ
ブ又はこれらの合金よりなる耐食性金属の中間層をスパ
ッタリング法、真空蒸着法又は溶射法により設けること
ができる。この中間層は数μm〜数百μmの厚みであり
、金属チタンの酸化を防止するのに効果がある。特にア
ーク溶射、プラズマ溶射、火炎溶射等の溶射法により形
成すると効果が著しく、タンタル又はニオブは僅かに酸
化された被膜となる。
本発明陽極の被覆層の形成は次のようにして行われる。
まずバルブ金属基体上に要すれば上記のような中間層を
溶射等の方法により形成させるか、又はこのような中間
層を形成させることなく、その表面を酸処理、ブラスト
処理等の方法でエツチングを行い、表面を粗面化し、塩
化イリジウム酸と塩化タンタルをエチルアルコール、ブ
チルアルコール、プロピルアルコール等の溶媒に溶かし
、所定組成の溶液をつくり、ハケ塗り、ロール塗りスプ
レー法、浸漬等の手段で塗布する。塗布後溶媒を蒸発さ
せるため、100〜150℃で数10分間乾燥し空気又
は酸素雰囲気の電気炉で300〜700℃にて10〜2
0分間熱分解処理を行う。
溶射等の方法により形成させるか、又はこのような中間
層を形成させることなく、その表面を酸処理、ブラスト
処理等の方法でエツチングを行い、表面を粗面化し、塩
化イリジウム酸と塩化タンタルをエチルアルコール、ブ
チルアルコール、プロピルアルコール等の溶媒に溶かし
、所定組成の溶液をつくり、ハケ塗り、ロール塗りスプ
レー法、浸漬等の手段で塗布する。塗布後溶媒を蒸発さ
せるため、100〜150℃で数10分間乾燥し空気又
は酸素雰囲気の電気炉で300〜700℃にて10〜2
0分間熱分解処理を行う。
熱処理温度が300℃未満では熱分解が完全に起こらず
700℃を越えるとバルブ金属基体が損傷する。
700℃を越えるとバルブ金属基体が損傷する。
次に第2被覆層として塩化チタン、ブチルチタネート塩
化タンタル、塩化ニオブ、オキシ塩化ジルコニウム、塩
化第一スズ等の金属塩をエチルアルコール、ブチルアル
コール、プロピルアルコール等に溶かした溶液を第1被
覆層と同様の方法により、塗布、熱分解処理を行う。
化タンタル、塩化ニオブ、オキシ塩化ジルコニウム、塩
化第一スズ等の金属塩をエチルアルコール、ブチルアル
コール、プロピルアルコール等に溶かした溶液を第1被
覆層と同様の方法により、塗布、熱分解処理を行う。
本発明は金属基体上に酸素発生に触媒活性な第1被覆層
と酸素発生に触媒不活性な第2被覆層を有し、第2被覆
層は第1被覆層上に均一に被覆されるので、酸化イリジ
ウムが酸素ガス発生により剥離、脱落するのを防止する
作用を有する。第1被覆層に使用される酸化タンタルは
耐食性が強く金属基体の酸化を防ぎ電圧の上昇を防止し
、かつ酸化イリジウムの密着性を向上させる作用がある
。
と酸素発生に触媒不活性な第2被覆層を有し、第2被覆
層は第1被覆層上に均一に被覆されるので、酸化イリジ
ウムが酸素ガス発生により剥離、脱落するのを防止する
作用を有する。第1被覆層に使用される酸化タンタルは
耐食性が強く金属基体の酸化を防ぎ電圧の上昇を防止し
、かつ酸化イリジウムの密着性を向上させる作用がある
。
本発明によれば触媒活性な酸化イリジウムの脱離や溶解
を酸素過電圧を上昇することなく抑制することができる
ので、きわめて耐久性のある酸素発生用陽極を得ること
ができる。
を酸素過電圧を上昇することなく抑制することができる
ので、きわめて耐久性のある酸素発生用陽極を得ること
ができる。
次に本発明の効果を実施例により説明する。
実施例1.比較例I
市販チタン板(I X 10X0.1 cm)をアセト
ン脱脂後、10重量%熱蓚酸液中でエツチング処理を行
い、その表面に下記組成の溶液を塗布した。
ン脱脂後、10重量%熱蓚酸液中でエツチング処理を行
い、その表面に下記組成の溶液を塗布した。
T a Cl s 0.32 g
Hz IrCj!i ・6H201,OgRHC!
! 0.5 m I!n−ブ
チルアルコール 10 mρ、:tLf120℃
で20分間乾燥し、その後500℃の電気炉内で10分
間焼成することにより、TazOs30モル%とIr0
z70モル%の混合酸化物よりなる第1被覆層を形成さ
せた。
Hz IrCj!i ・6H201,OgRHC!
! 0.5 m I!n−ブ
チルアルコール 10 mρ、:tLf120℃
で20分間乾燥し、その後500℃の電気炉内で10分
間焼成することにより、TazOs30モル%とIr0
z70モル%の混合酸化物よりなる第1被覆層を形成さ
せた。
この表面に下記組成の溶液を塗布した。
T a C1s 1.0 g濃
HCI 0.5m1n−ブチルア
ルコール 10 mlこれを120“Cで20分間
乾燥し、その後500℃の電気炉内で10分間焼成する
ことにより、Ta2O,の第2被覆層を形成させた。
HCI 0.5m1n−ブチルア
ルコール 10 mlこれを120“Cで20分間
乾燥し、その後500℃の電気炉内で10分間焼成する
ことにより、Ta2O,の第2被覆層を形成させた。
この第1.第2被覆層の被着操作を交互に10回繰り返
し、第1被覆層の被着量10.Og/m2第2被覆層の
被着量10.0g7m2の電極を得た。
し、第1被覆層の被着量10.Og/m2第2被覆層の
被着量10.0g7m2の電極を得た。
この電極の■rO□含有量は35モル%であった。
この電極を50℃、100g//硫酸溶液中で陽極とし
て用い、白金線を陰極とし電流密度200A/dm”で
加速電解試験を行い、セル電圧が3,0■上昇するまで
の時間を測定したところ420時間使用できた。
て用い、白金線を陰極とし電流密度200A/dm”で
加速電解試験を行い、セル電圧が3,0■上昇するまで
の時間を測定したところ420時間使用できた。
一方比較として第2被覆層を入れない以外は上記と同様
に作製した陽極は35時間使用できた。
に作製した陽極は35時間使用できた。
実施例2〜5
第2被覆層の組成は実施例1と同様にして第1被覆層の
組成を第1表のごとく変化させた。第1被覆層の被着量
は]、 Q、 Og 7m2.第2被覆層の被着量10
.Og/m”であった。これを実施例1と同様の条件で
加速電解試験を行った結果を第1表に示す。表中寿命と
はセル電圧が3. OV上昇するまでの時間を表わす。
組成を第1表のごとく変化させた。第1被覆層の被着量
は]、 Q、 Og 7m2.第2被覆層の被着量10
.Og/m”であった。これを実施例1と同様の条件で
加速電解試験を行った結果を第1表に示す。表中寿命と
はセル電圧が3. OV上昇するまでの時間を表わす。
(以下余白)
第1表
示す。
第2表
以上のように第1被覆層の酸化イリジウム含有量は30
モル%以上がよく、また90モル%になると寿命が短く
なることが分かる。
モル%以上がよく、また90モル%になると寿命が短く
なることが分かる。
実施例6〜9
第1被覆層の組成は実施例1と同様にし、第2被覆層の
組成を第2表に示される組成とした陽極を作製した。第
1被覆層、第2被覆層の被着量はいずれも10.0g/
m2であった。実施例1と同様の条件で加速電解試験を
行った結果を第2表に第2表より明らかなように、いず
れの電極の耐久性も優れている。
組成を第2表に示される組成とした陽極を作製した。第
1被覆層、第2被覆層の被着量はいずれも10.0g/
m2であった。実施例1と同様の条件で加速電解試験を
行った結果を第2表に第2表より明らかなように、いず
れの電極の耐久性も優れている。
Claims (5)
- (1)バルブ金属基体上に a)酸化イリジウム30〜80モル%と酸化タンタル2
0〜70モル%との混合酸化物 よりなる第1被覆層、 b)チタン、タンタル、スズ、ニオブ及びジルコニウム
より選ばれた1種又は2種以上 の金属の酸化物よりなる第2被覆層、 上記a)b)単位層を1層もしくは複数層 設けたことを特徴とする酸素発生用陽極。 - (2)バルブ金属基体がチタン、タンタル、ニオブ、ジ
ルコニウムから選ばれた金属又はその合金である請求項
1に記載の陽極。 - (3)金属チタン基体と第1被覆層との間にタンタル、
ニオブ又はこれらの合金よりなる中間層をスパッタリン
グ法、真空蒸着法または溶射法により設けた請求項1に
記載の陽極。 - (4)バルブ金属基体上にタンタルとイリジウムとの金
属塩を含む溶液を塗布し、酸化性雰囲気中で加熱処理し
て酸化イリジウム30〜 80モル%と酸化タンタル20〜70モル%との混合酸
化物よりなる第1被覆層a)を形成し、次にチタン、タ
ンタル、スズ、ニオブ及びジルコニウムより選ばれた少
なくとも1種の金属塩を含む溶液を塗布し酸化性雰囲気
中で加熱処理してチタン、タンタル、スズ、ニオブ及び
ジルコニウムより選ばれた少なくとも1種の金属の酸化
物よりなる第2被覆層b)を形成し、上記a)b)の単
位層を1層もしくは複数層形成することを特徴とする酸
素発生用陽極の製法。 - (5)酸化性雰囲気中での加熱処理温度が300〜70
0℃である請求項4に記載の陽極の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2213470A JPH0499294A (ja) | 1990-08-09 | 1990-08-09 | 酸素発生用陽極及びその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2213470A JPH0499294A (ja) | 1990-08-09 | 1990-08-09 | 酸素発生用陽極及びその製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0499294A true JPH0499294A (ja) | 1992-03-31 |
Family
ID=16639738
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2213470A Pending JPH0499294A (ja) | 1990-08-09 | 1990-08-09 | 酸素発生用陽極及びその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0499294A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002030495A (ja) * | 2000-06-09 | 2002-01-31 | De Nora Elettrodi Spa | 極めて付着性の高い表面触媒層により特徴づけられる電極 |
| JP2006515389A (ja) * | 2003-03-24 | 2006-05-25 | エルテック・システムズ・コーポレーション | 白金族金属を有する電気触媒コーティング及びこれから製造された電極 |
| JP2009068059A (ja) * | 2007-09-12 | 2009-04-02 | Sanyo Shinku Kogyo Kk | 電解用電極 |
| US8022004B2 (en) | 2008-05-24 | 2011-09-20 | Freeport-Mcmoran Corporation | Multi-coated electrode and method of making |
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| JP2020033613A (ja) * | 2018-08-30 | 2020-03-05 | 株式会社大阪ソーダ | 電解めっき用の電極 |
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-
1990
- 1990-08-09 JP JP2213470A patent/JPH0499294A/ja active Pending
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| US12305300B2 (en) | 2018-07-30 | 2025-05-20 | Water Star, Inc. | Current reversal tolerant multilayer material, method of making the same, use as an electrode, and use in electrochemical processes |
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