JPH0261083A - 酸素発生用陽極及びその製法 - Google Patents
酸素発生用陽極及びその製法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は酸素発生を伴う電解工程、特にスズ。
亜鉛、クロム等の電気メツキに使用される不溶性陽極に
関するものである。
関するものである。
(従来の技術及び発明が解決しようとする課題)スズ、
亜鉛、クロム等の電気メツキ用陽極として現在鉛又は鉛
合金が使用されているが、鉛は比咬時消耗が速く、メツ
キ液中に溶出し、メツキ液の汚染、メツキ皮膜の劣化等
の問題がめった。
亜鉛、クロム等の電気メツキ用陽極として現在鉛又は鉛
合金が使用されているが、鉛は比咬時消耗が速く、メツ
キ液中に溶出し、メツキ液の汚染、メツキ皮膜の劣化等
の問題がめった。
これに代る陽極として白金メツキ陽極や白金箔クラッド
陽極が検討されているが、白金の消耗が大きく未だ解決
に至っていない。そのため消耗の少ない不溶性陽極が種
々提案されている。
陽極が検討されているが、白金の消耗が大きく未だ解決
に至っていない。そのため消耗の少ない不溶性陽極が種
々提案されている。
特開昭59−38394号公報では、導電性金属基体上
に4価の原子価数をとるT1及びsnから選ばれた少な
くとも1種の金属酸化物と5価の原子価数をとるTa及
びNbから選ばれた少なくとも1種の酸化物との混合酸
化物からなる中間層を設けて導電性を付与し、その上に
電極活性物質を被覆した電イ々を提案している。
に4価の原子価数をとるT1及びsnから選ばれた少な
くとも1種の金属酸化物と5価の原子価数をとるTa及
びNbから選ばれた少なくとも1種の酸化物との混合酸
化物からなる中間層を設けて導電性を付与し、その上に
電極活性物質を被覆した電イ々を提案している。
中間層は4価の金属と5価の金属の酸化物か混在したも
のであり、一般に知られている原子価制御原理に基づく
N型半導体となっていると考えられるが、未だ十分な電
気伝導性がでていなかった。
のであり、一般に知られている原子価制御原理に基づく
N型半導体となっていると考えられるが、未だ十分な電
気伝導性がでていなかった。
特公昭51−19429号公報は、導電性支持基材と電
極活物質被覆の中間層にPt−1r合金?Co、Mn、
Pd、Pb、Ptの酸化物からなる酸素不浸透層を設【
ブで電極の不働態化防止を試みている。しかし中間被覆
物質自体が酸素発生に触媒活性があるので、透過してく
る電解液と反応して中間層で酸素発生反応が起り、電極
被覆の密着性及び不働態化防止効果は十分でなかった。
極活物質被覆の中間層にPt−1r合金?Co、Mn、
Pd、Pb、Ptの酸化物からなる酸素不浸透層を設【
ブで電極の不働態化防止を試みている。しかし中間被覆
物質自体が酸素発生に触媒活性があるので、透過してく
る電解液と反応して中間層で酸素発生反応が起り、電極
被覆の密着性及び不働態化防止効果は十分でなかった。
特開昭59−150091号公報では、特開昭59−3
8394号の中間層にptを分散させた電極を提案して
いる。即ち半導体中間層のキャリアー濃度に限界がある
ので更に導電性を付与するためPtを分散させたもので
あるが、pt自体が電解液、特に硫酸酸性液中で電解時
に少しずつ溶解し、長期に使用するには限界があった。
8394号の中間層にptを分散させた電極を提案して
いる。即ち半導体中間層のキャリアー濃度に限界がある
ので更に導電性を付与するためPtを分散させたもので
あるが、pt自体が電解液、特に硫酸酸性液中で電解時
に少しずつ溶解し、長期に使用するには限界があった。
特開昭60−184691号公報では、導電性金属基体
と電極活物質との中間層にTi及びSnから選ばれた金
属の酸化物とAI、Ga、Fe。
と電極活物質との中間層にTi及びSnから選ばれた金
属の酸化物とAI、Ga、Fe。
Co、Ni及びTIから選ばれた少なくとも1種の金属
の酸化物との混合酸化物中にPtを分散した中間層を提
案している。この中間層は4価の金属と2価又は3価の
金属の混合酸化物中にPtを分散したものであり、該酸
化物は原子価制御原理に基づいてP型半導体となり、良
好な導電性を有する上に分散したPtにより高い電子電
導性が付与されると考えられた。しかし白金自体は硫酸
酸性電解液中で徐々に溶解し、電解中は溶解が加速され
るので十分な寿命は期待できない。
の酸化物との混合酸化物中にPtを分散した中間層を提
案している。この中間層は4価の金属と2価又は3価の
金属の混合酸化物中にPtを分散したものであり、該酸
化物は原子価制御原理に基づいてP型半導体となり、良
好な導電性を有する上に分散したPtにより高い電子電
導性が付与されると考えられた。しかし白金自体は硫酸
酸性電解液中で徐々に溶解し、電解中は溶解が加速され
るので十分な寿命は期待できない。
特開昭62−174394号公報では、電導性基体上に
電気メツキ法により多孔質Pt層を設け、その上に熱分
解で設けた酸化ルテニウム、酸化パラジウム及び酸化イ
リジウムから選ばれた少なくとも1種の酸化物層からな
る電極でPtメツキ層と酸化物層をくり返して形成する
電極を提案している。この場合も電解時、硫酸酸性電解
液に対して白金多孔質層が徐々に溶解する問題か解決さ
れていない。
電気メツキ法により多孔質Pt層を設け、その上に熱分
解で設けた酸化ルテニウム、酸化パラジウム及び酸化イ
リジウムから選ばれた少なくとも1種の酸化物層からな
る電極でPtメツキ層と酸化物層をくり返して形成する
電極を提案している。この場合も電解時、硫酸酸性電解
液に対して白金多孔質層が徐々に溶解する問題か解決さ
れていない。
(課題を解決するための手段)
本発明者らは硫酸酸性電解液中で使用する不溶性陽極に
おいて、酸素不浸透な中間層の耐蝕性を付与し、且つ導
電性を高め、表面層の酸素発生触媒活性とガス発生に対
する機械的損傷を防ぐことにより長寿命の電極を完成さ
せるに至ったものである。
おいて、酸素不浸透な中間層の耐蝕性を付与し、且つ導
電性を高め、表面層の酸素発生触媒活性とガス発生に対
する機械的損傷を防ぐことにより長寿命の電極を完成さ
せるに至ったものである。
即ち本発明は、導電性金属基体上に、a)チタン、タン
タル、スズ、ニオブ、ジルコニウムから選ばれた少なく
とも1種の金属酸化物85〜95モル%と酸化イリジウ
ム15〜5モル%の混合酸化物とよりなる導電性を有す
る中間被覆層及び該中間被覆層上にb)チタン、タンタ
ル、スズ、ニオブ。
タル、スズ、ニオブ、ジルコニウムから選ばれた少なく
とも1種の金属酸化物85〜95モル%と酸化イリジウ
ム15〜5モル%の混合酸化物とよりなる導電性を有す
る中間被覆層及び該中間被覆層上にb)チタン、タンタ
ル、スズ、ニオブ。
ジルコニウムから選ばれた少なくとも1種の金属酸化物
20〜70モル%と酸化イリジウム80〜30モル%と
の混合酸化物からなる酸素発生触媒能を有する表面被覆
層を形成したことを特徴とする酸素発生用陽極及びその
製法である。
20〜70モル%と酸化イリジウム80〜30モル%と
の混合酸化物からなる酸素発生触媒能を有する表面被覆
層を形成したことを特徴とする酸素発生用陽極及びその
製法である。
本発明の導電性金属基体には、チタン、タンタル、ニオ
ブ、ジルコニウムから選ばれた金属又はこれらの合金等
の不働態皮膜を形成する材料が挙げられる。通常は経済
性、電気的機械的性質や加工性等の点からチタン及び/
又はその合金が使用される。電極形状としては板状、棒
状、エキスバンド状、多孔板等種々の形状が可能である
。
ブ、ジルコニウムから選ばれた金属又はこれらの合金等
の不働態皮膜を形成する材料が挙げられる。通常は経済
性、電気的機械的性質や加工性等の点からチタン及び/
又はその合金が使用される。電極形状としては板状、棒
状、エキスバンド状、多孔板等種々の形状が可能である
。
本発明の中間被覆層はチタン、タンタル、スズ。
ニオブ、ジルコニウムから選ばれた少なくとも1種の酸
化物85〜90モル%と酸化イリジウム15〜5モル%
を含む導電性の混合酸化物であり、酸化イリジウム含有
量が5モル%未満では、電子導電性が小さく逆に15モ
ル%を超えると酸素発生触媒能が強く現われて酸素不浸
透性の機能が損われるので、寿命が短かくなる。
化物85〜90モル%と酸化イリジウム15〜5モル%
を含む導電性の混合酸化物であり、酸化イリジウム含有
量が5モル%未満では、電子導電性が小さく逆に15モ
ル%を超えると酸素発生触媒能が強く現われて酸素不浸
透性の機能が損われるので、寿命が短かくなる。
中間被覆層に酸化イリジウムを入れずに、チタン、タン
タル、スズ、ニオブ、ジルコニウムから選ばれた少なく
とも1種の混合酸化物皮膜を形成した場合、加速電解試
験の寿命はむしろ短かくなる。原因ははっきりしないが
、この中間被覆層は酸素透過に対し十分防御できるもの
の基体と中間層間の電位障壁が高くなり、その結果電解
寿命試験で早く電圧が上昇するものと考えられる。
タル、スズ、ニオブ、ジルコニウムから選ばれた少なく
とも1種の混合酸化物皮膜を形成した場合、加速電解試
験の寿命はむしろ短かくなる。原因ははっきりしないが
、この中間被覆層は酸素透過に対し十分防御できるもの
の基体と中間層間の電位障壁が高くなり、その結果電解
寿命試験で早く電圧が上昇するものと考えられる。
本発明の表面被覆層はチタン、タンタル、スズ。
ニオブ、ジルコニウムから選ばれた少なくとも1種の酸
化物20〜70モル%と酸化イリジウム80〜30モル
%の酸素発生触媒能を有する混合酸化物よりなるもので
あって、酸化イリジウムが30モル%未満では酸素発生
触媒能が劣化し、80モル%を超えると皮膜の密着性が
損われる。
化物20〜70モル%と酸化イリジウム80〜30モル
%の酸素発生触媒能を有する混合酸化物よりなるもので
あって、酸化イリジウムが30モル%未満では酸素発生
触媒能が劣化し、80モル%を超えると皮膜の密着性が
損われる。
本発明の被覆層の形成は次のようにして行われる。
導電性金属基体の表面を酸処理、ブラスト処理等の方法
でエツチングを行なって粗面化させた後、塩化チタン、
塩化タンタル、塩化第1スズ、塩化ニオブ、オキシ塩化
ジルコニウム又は塩化イリジウム等の金属塩をエヂルア
ルコール、ブチルアルコール等の溶媒に溶解して所定組
成の混合溶液としたものを刷毛塗り、ロール塗り、スプ
レー法或いは浸漬法等の手段で塗布する。次いで100
〜150℃で数分間乾燥し、空気又は酸素雰囲気の電気
炉中300〜700’Cで10〜20分間熱分解処理を
行う。
でエツチングを行なって粗面化させた後、塩化チタン、
塩化タンタル、塩化第1スズ、塩化ニオブ、オキシ塩化
ジルコニウム又は塩化イリジウム等の金属塩をエヂルア
ルコール、ブチルアルコール等の溶媒に溶解して所定組
成の混合溶液としたものを刷毛塗り、ロール塗り、スプ
レー法或いは浸漬法等の手段で塗布する。次いで100
〜150℃で数分間乾燥し、空気又は酸素雰囲気の電気
炉中300〜700’Cで10〜20分間熱分解処理を
行う。
熱処理温度が300℃未満では熱分解が完全に起らず、
また700℃を超えると金属基体の酸化が進行して基体
が損傷を受ける。
また700℃を超えると金属基体の酸化が進行して基体
が損傷を受ける。
中間被覆層の厚みは酸素透過防止能力を発揮するために
は3.0g/ m以上がよく、それ以下では効果か少な
い。また表面被覆層の厚みは10.0g#以上おれば、
酸素発生に対する触媒能も、寿命も共に良好となる。
は3.0g/ m以上がよく、それ以下では効果か少な
い。また表面被覆層の厚みは10.0g#以上おれば、
酸素発生に対する触媒能も、寿命も共に良好となる。
(発明の効果)
本発明陽極における中間被覆層及び表面被覆層は共通の
成分からなり、かつ共通のルチル構造を有する結晶を多
く含み、単位格子体積も相互に類似しているので、両者
の相互密着性は甚だ強固となり、発生ガスによるエロー
ジョンに対しても強い等の特徴を有している。ざらに中
間被覆層と表面被覆層は同じ酸化イリジウムの含有率を
異ならすことにより導電性及び酸素発生触媒能という別
異の機能を持たせるという独特の効果を有している。
成分からなり、かつ共通のルチル構造を有する結晶を多
く含み、単位格子体積も相互に類似しているので、両者
の相互密着性は甚だ強固となり、発生ガスによるエロー
ジョンに対しても強い等の特徴を有している。ざらに中
間被覆層と表面被覆層は同じ酸化イリジウムの含有率を
異ならすことにより導電性及び酸素発生触媒能という別
異の機能を持たせるという独特の効果を有している。
本発明陽極は優れた耐久性を有し、例えば硫酸酸性溶液
中における鋼材のメツキ、すなわちスズ。
中における鋼材のメツキ、すなわちスズ。
亜鉛、クロム等の電気メツキ等の用途に有効に使用され
る。
る。
以下実施例により本発明を更に具体的に詳述する。例中
の組成%は特記なき限りモル基準である。
の組成%は特記なき限りモル基準である。
実施例1 比較例1,2
市販チタン板(1xlOx O,1cm)をアセトン脱
脂後10重量%熱蓚酸溶液中でエツチング処理を行ない
、その表面に下記組成の溶液を刷毛塗りで塗布した。
脂後10重量%熱蓚酸溶液中でエツチング処理を行ない
、その表面に下記組成の溶液を刷毛塗りで塗布した。
Taα52.ICI
ブチルチタネート 4.O〃H2I rcj
!a ・6H201,On濃塩酸 1.0 d n−ブチルアルコール 15〃 これを120’Cで20分間乾燥した後電気炉中500
°Cで10分間焼成することにより、Ta20s30%
とT i 0260%とIrQ210%の混合酸化物よ
りなる皮膜を得た。この操作を4回繰り返して3.(X
l/TItの中間被覆層を得た。
!a ・6H201,On濃塩酸 1.0 d n−ブチルアルコール 15〃 これを120’Cで20分間乾燥した後電気炉中500
°Cで10分間焼成することにより、Ta20s30%
とT i 0260%とIrQ210%の混合酸化物よ
りなる皮膜を得た。この操作を4回繰り返して3.(X
l/TItの中間被覆層を得た。
次に該中間被覆層上に下記組成の溶液を刷毛塗りで塗布
した。
した。
Ta(lfs o、47gH2I
r(j!e ・6H201,Ott濃塩酸 1
.0 d n−ブチルアルコール 15 rd!これを12
0℃で20分間乾燥した後電気炉中500℃で10分間
焼成することにより、Ta20s40%とIr0260
%の混合酸化物よりなる皮膜を得た。
r(j!e ・6H201,Ott濃塩酸 1
.0 d n−ブチルアルコール 15 rd!これを12
0℃で20分間乾燥した後電気炉中500℃で10分間
焼成することにより、Ta20s40%とIr0260
%の混合酸化物よりなる皮膜を得た。
この操作を10回繰り返して10.0(1/ triの
表面被覆層を得た。
表面被覆層を得た。
この電極を50℃、 100(]/N硫酸溶液中に陽極
として用い、白金線を陰極として電流密度200A/d
m2で加速電解試験したところ320時間使用できた。
として用い、白金線を陰極として電流密度200A/d
m2で加速電解試験したところ320時間使用できた。
一方比較例1として、表面被覆層塗布液に丁aC1sを
加えなかった以外は実施例1と同様に作製した陽極、及
び比較例2として中間被覆層を形成しなかった以外は実
施例1と同様に作製した陽極について、実施例1と同様
に試験した結果、寿命は夫々85時間、35時間であり
、本発明電極の寿命が格段に長いことが分った。
加えなかった以外は実施例1と同様に作製した陽極、及
び比較例2として中間被覆層を形成しなかった以外は実
施例1と同様に作製した陽極について、実施例1と同様
に試験した結果、寿命は夫々85時間、35時間であり
、本発明電極の寿命が格段に長いことが分った。
実施例2〜4 比較例3,4
中間被覆層(4回塗布、3.0Mm>の組成比を第1表
記載のように変化させた以外は実施例1と同様に陽極を
作製し、実施例1と同様に試験した結果を第1表に示し
た。
記載のように変化させた以外は実施例1と同様に陽極を
作製し、実施例1と同様に試験した結果を第1表に示し
た。
比較のために、中間被覆層(4回塗布、 3.0(+/
ゴ)の組成比を第1表記載のように変化させた以外は実
施例2と同様に陽極を作製し、実施例2と同様に試験し
た結果を第1表に併せて示した。この結果、中間被覆層
のIrO2含有量が3%、 20%では中間被覆層の効
果が十分でないことが分る。
ゴ)の組成比を第1表記載のように変化させた以外は実
施例2と同様に陽極を作製し、実施例2と同様に試験し
た結果を第1表に併せて示した。この結果、中間被覆層
のIrO2含有量が3%、 20%では中間被覆層の効
果が十分でないことが分る。
第1表
実施例5〜8 比較例5,6
表面被覆層(10回塗布、 10.OMTIt)の組
成比を第2表記載のように変化させた以外は実施例]と
同様に陽極を作製し、実施例1と同様に試験した結果を
第2表に示した。
成比を第2表記載のように変化させた以外は実施例]と
同様に陽極を作製し、実施例1と同様に試験した結果を
第2表に示した。
比較のために、表面被覆層(10回塗布、 io、o
ct/尻)の組成比を第2表記載のように変化させた以
外は実施例5と同様に陽(へを作製し、実施例5と同様
に試験した結果を第2表に併せて示した。
ct/尻)の組成比を第2表記載のように変化させた以
外は実施例5と同様に陽(へを作製し、実施例5と同様
に試験した結果を第2表に併せて示した。
この結果表面被覆層のIrO2含有遣は30%以上がよ
いこと、90%になると寿命が極端に短くなることが分
る。
いこと、90%になると寿命が極端に短くなることが分
る。
実施例9〜12 比較例7〜10
中間被覆層(4回塗布、 3.OMTri)及び表面被
覆層(10回塗布、 io、oa/ゴ)の組成比を第
3表記載のように変化させた以外は実施例1と同様に陽
極を作製し、試験した結果を第3表に示した。
覆層(10回塗布、 io、oa/ゴ)の組成比を第
3表記載のように変化させた以外は実施例1と同様に陽
極を作製し、試験した結果を第3表に示した。
第2表
第3表
この結果、IrO2を含有する中間被覆層を設けた本発
明の電極は、IrO2を含まない中間被覆層を設けた電
極と比べて耐久性の格段に優れた電極であることが分る
。
明の電極は、IrO2を含まない中間被覆層を設けた電
極と比べて耐久性の格段に優れた電極であることが分る
。
Claims (4)
- (1)導電性金属基体上に、a)チタン、タンタル、ス
ズ、ニオブ、ジルコニウムから選ばれた少なくとも1種
の金属酸化物85〜95モル%と酸化イリジウム15〜
5モル%との混合酸化物よりなる導電性を有する中間被
覆層及び該中間被覆層上にb)チタン、タンタル、スズ
、ニオブ、ジルコニウムから選ばれた少なくとも1種の
金属酸化物20〜70モル%と酸化イリジウム80〜3
0モル%との混合酸化物からなる酸素発生触媒能を有す
る表面被覆層を形成したことを特徴とする酸素発生用陽
極。 - (2)導電性金属基体がチタン、タンタル、ニオブ、ジ
ルコニウムから選ばれた金属又はこれらの合金である請
求項1記載の陽極。 - (3)導電性金属基体に、チタン、タンタル、スズ、ニ
オブ、ジルコニウムから選ばれた少なくとも1種の金属
塩とイリジウム金属塩とを含む溶液を被覆し、酸化性雰
囲気中で加熱処理してチタン、タンタル、スズ、ニオブ
、ジルコニウムから選ばれた少なくとも1種の金属酸化
物85〜95モル%と酸化イリジウム15〜5モル%と
の混合酸化物よりなる中間被覆層を形成し、次いで上記
と同様の手段でチタン、タンタル、スズ、ニオブ、ジル
コニウムから選ばれた少なくとも1種の金属酸化物20
〜70モル%と酸化イリジウム80〜30モル%との混
合酸化物よりなる表面被覆層とを形成することを特徴と
する酸素発生用電極の製法。 - (4)酸化性雰囲気中での加熱処理温度が300〜70
0℃である請求項3に記載の陽極の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63210187A JP2596807B2 (ja) | 1988-08-24 | 1988-08-24 | 酸素発生用陽極及びその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63210187A JP2596807B2 (ja) | 1988-08-24 | 1988-08-24 | 酸素発生用陽極及びその製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0261083A true JPH0261083A (ja) | 1990-03-01 |
| JP2596807B2 JP2596807B2 (ja) | 1997-04-02 |
Family
ID=16585225
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63210187A Expired - Lifetime JP2596807B2 (ja) | 1988-08-24 | 1988-08-24 | 酸素発生用陽極及びその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2596807B2 (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2239260A (en) * | 1989-12-22 | 1991-06-26 | Tdk Corp | Oxygen-generating electrolysis electrode and method for the preparation thereof |
| JPH03271386A (ja) * | 1990-03-20 | 1991-12-03 | Daiso Co Ltd | 酸素発生用陽極の製法 |
| JPH0499294A (ja) * | 1990-08-09 | 1992-03-31 | Daiso Co Ltd | 酸素発生用陽極及びその製法 |
| JPH05148675A (ja) * | 1991-11-28 | 1993-06-15 | Permelec Electrode Ltd | 電解用電極基体、電解用電極及びそれらの製造方法 |
| US5243427A (en) * | 1991-12-27 | 1993-09-07 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Contour correction apparatus and contour correction method |
| EP0560338A3 (ja) * | 1992-03-11 | 1994-01-05 | Tdk Corp | |
| JPH06146051A (ja) * | 1992-11-06 | 1994-05-27 | Permelec Electrode Ltd | 金属箔の電解による製造方法 |
| JPH06146052A (ja) * | 1992-11-11 | 1994-05-27 | Permelec Electrode Ltd | 金属箔の電解による製造方法 |
| WO2003000957A1 (en) * | 2001-06-21 | 2003-01-03 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Electrolyzing electrode and production method therefor and electrolysis method using electrolyzing electrode and electrolysis solution producing device |
| KR20040042526A (ko) * | 2002-11-14 | 2004-05-20 | 주식회사 포스코 | 표면특성이 우수한 전기아연도금강판의 제조방법 |
| JP2010059524A (ja) * | 2008-09-05 | 2010-03-18 | Daiki Ataka Engineering Co Ltd | 酸素発生用電極 |
| CN113668010A (zh) * | 2021-08-25 | 2021-11-19 | 山西铱倍力科技有限公司 | 一种用于工业电解的析氧阳极及其制备方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5636233A (en) * | 1979-08-31 | 1981-04-09 | Toshiba Corp | Automatic frequency control alarm circuit |
| JPS5643315A (en) * | 1979-09-18 | 1981-04-22 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | Propylene block copolymer |
-
1988
- 1988-08-24 JP JP63210187A patent/JP2596807B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5636233A (en) * | 1979-08-31 | 1981-04-09 | Toshiba Corp | Automatic frequency control alarm circuit |
| JPS5643315A (en) * | 1979-09-18 | 1981-04-22 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | Propylene block copolymer |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2239260B (en) * | 1989-12-22 | 1994-02-16 | Tdk Corp | Oxygen-generating electrode and method for the preparation thereof |
| GB2239260A (en) * | 1989-12-22 | 1991-06-26 | Tdk Corp | Oxygen-generating electrolysis electrode and method for the preparation thereof |
| JPH03271386A (ja) * | 1990-03-20 | 1991-12-03 | Daiso Co Ltd | 酸素発生用陽極の製法 |
| JPH0499294A (ja) * | 1990-08-09 | 1992-03-31 | Daiso Co Ltd | 酸素発生用陽極及びその製法 |
| JPH05148675A (ja) * | 1991-11-28 | 1993-06-15 | Permelec Electrode Ltd | 電解用電極基体、電解用電極及びそれらの製造方法 |
| US5243427A (en) * | 1991-12-27 | 1993-09-07 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Contour correction apparatus and contour correction method |
| EP0699780A1 (en) | 1992-03-11 | 1996-03-06 | TDK Corporation | Oxygen generating electrode |
| EP0560338A3 (ja) * | 1992-03-11 | 1994-01-05 | Tdk Corp | |
| US5294317A (en) * | 1992-03-11 | 1994-03-15 | Tdk Corporation | Oxygen generating electrode |
| JPH06146051A (ja) * | 1992-11-06 | 1994-05-27 | Permelec Electrode Ltd | 金属箔の電解による製造方法 |
| JPH06146052A (ja) * | 1992-11-11 | 1994-05-27 | Permelec Electrode Ltd | 金属箔の電解による製造方法 |
| WO2003000957A1 (en) * | 2001-06-21 | 2003-01-03 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Electrolyzing electrode and production method therefor and electrolysis method using electrolyzing electrode and electrolysis solution producing device |
| US7156962B2 (en) | 2001-06-21 | 2007-01-02 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Electrolyzing electrode and production method therefor and electrolysis method using electrolyzing electrode and electrolysis solution producing device |
| KR20040042526A (ko) * | 2002-11-14 | 2004-05-20 | 주식회사 포스코 | 표면특성이 우수한 전기아연도금강판의 제조방법 |
| JP2010059524A (ja) * | 2008-09-05 | 2010-03-18 | Daiki Ataka Engineering Co Ltd | 酸素発生用電極 |
| CN113668010A (zh) * | 2021-08-25 | 2021-11-19 | 山西铱倍力科技有限公司 | 一种用于工业电解的析氧阳极及其制备方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2596807B2 (ja) | 1997-04-02 |
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