JPH05101360A - 薄膜磁気ヘツドスライダとその製造方法 - Google Patents

薄膜磁気ヘツドスライダとその製造方法

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Publication number
JPH05101360A
JPH05101360A JP3263748A JP26374891A JPH05101360A JP H05101360 A JPH05101360 A JP H05101360A JP 3263748 A JP3263748 A JP 3263748A JP 26374891 A JP26374891 A JP 26374891A JP H05101360 A JPH05101360 A JP H05101360A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
thin film
magnetic head
film magnetic
slider
Prior art date
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Pending
Application number
JP3263748A
Other languages
English (en)
Inventor
Taiichi Mori
泰一 森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP3263748A priority Critical patent/JPH05101360A/ja
Publication of JPH05101360A publication Critical patent/JPH05101360A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/30—Hydrogen technology
    • Y02E60/50—Fuel cells

Landscapes

  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 コンポジット型の薄膜磁気ヘッドスライダ
を、低融点のモールドガラスを使用せずに製造する。 【構成】 コンポジット型の薄膜磁気ヘッドスライダ
と、その製造において、薄膜磁気ヘッドとスライダ本体
11とを、該、薄膜磁気ヘッドに設ける磁気ギャップ6の
形成と同時に、中融点ガラス接着層12により接合させ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスクメモリ装
置に使用する薄膜磁気ヘッドスライダとその製造方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】近年、磁気記録の高密度化に対応するた
め飽和磁束密度が高い金属磁性膜を磁気コアとして使用
する薄膜磁気ヘッドが開発されている。
【0003】図2は、従来の薄膜磁気ヘッドの概略構造
を示す斜視図である。図において、1は非磁性基板で、
金属磁性膜2を挾持しており、この金属磁性膜2のみが
磁気コアとして作用する。そのため、バルク型磁気ヘッ
ドに比して磁気ヘッドのインダクタンスが小さくでき、
高周波帯で使用可能である。なお、3は高融点ガラス接
着層であり、これについては後で説明する。
【0004】また、金属磁性膜2にはセンダスト合金等
の飽和磁束密度の高い材料を使用できるので、記録能力
も高くできて高密度記録が可能である。なお、金属磁性
膜2はヘッドのトラック幅が大きく、その膜厚を厚くす
る場合は、渦電流損失を防止するために二酸化珪素等の
絶縁材料の薄膜と積層体を形成して用いられる。
【0005】図3は、上述した図2に示す薄膜磁気ヘッ
ドを使用する磁気ヘッドスライダの構造を示す斜視図で
ある。この図3に示す従来の磁気ヘッドスライダは製造
コストの最も大きなウエイトを占める金属磁性膜の利用
効率を高めるため、非磁性体の基板からなるスライダ本
体4に形成したスリット4Sに図2のような薄膜磁気ヘ
ッドを装着して、低融点モールドガラス5を用いてモー
ルドしたコンポジット型に形成される。なお、6は磁気
ギャップ、7及び8は図4で後述する中融点ガラス接着
層及びボンディングガラスである。
【0006】図4は従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法を
説明するための工程図である。この薄膜磁気ヘッドの製
造には、まず(a)図のように非磁性基板1上にセンダス
ト等をスパッタして金属磁性層2を形成し、これら複数
を高融点ガラス接着層3により(b)図のように接着し
て、非磁性基板1と金属磁性膜2を交互に積層した積層
バーブロック9′を形成する。
【0007】つぎに、この積層バーブロック9′を、破
線のように金属磁性膜2の長手方向に対し直角に切断し
て(c)図のような非磁性基板1と金属磁性膜2が交互に
積層された積層バー9を形成させる。
【0008】この積層バー9を(d)図のように、さらに
縦に切断して切断片9a,9bを構成し、一方の切断片、
図では切断片9aに巻線窓用の溝9a1を形成した後、こ
れらの切断面の対応する両面を精密に研磨して二酸化珪
素等の磁気ギャップ体6′と、中融点ガラス接着層7を
スパッタ法等により(e)図のように形成して突き合わ
せ、炉中で加熱し中融点ガラス接着層7を溶融して磁気
ギャップ6を(f)図のように形成する。
【0009】なお、この磁気ギャップ6の形成時、巻線
窓には補強材としてボンディングガラス8を充填させ
る。磁気ギャップ6を形成した積層バー9は薄膜磁気ヘ
ッドを連続積層させた構造であり、(f)図の破線部分を
スライスして(g)図に示すような単品の薄膜磁気ヘッド
を得る。
【0010】上述のように形成した薄膜磁気ヘッドは、
薄膜磁気ヘッドチップの挿入ギャップを形成した非磁性
基板からなるスライダ本体4(図3)に装着して、低融点
モールドガラス5を用いてモールドすることにより薄膜
磁気ヘッドスライダの製造が完成する。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来の薄膜磁気ヘッドスライダの構造とその製造
方法では、ガラス溶着工程が低,中,高の3回必要であ
り、一度溶着したガラスに構造的なゆるみを発生さない
ためには、各工程において溶着ガラスの作業温度を、溶
着の順番に低くして行なうことが必要である。
【0012】そのため、低融点モールドガラス5には極
めて融点の低いガラスを使用しなければならない。しか
しながら、低融点ガラスは耐候性が低いため、高い信頼
性が要求されるコンピュータ用の薄膜磁気ヘッドスライ
ダとして用いるには大きな問題がある。
【0013】本発明は、上記の問題点に鑑みて低融点ガ
ラスを用いることなく製造可能な、薄膜磁気ヘッドスラ
イダとその製造方法の提供を目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明は、非磁性基板に
挾持させた金属磁性膜を磁気コアとし、磁気ギャップ、
及び巻線窓を形成してなる薄膜磁気ヘッドを、非磁性基
板により構成したスライダ本体にガラス接着層によって
接合させ構成した薄膜磁気ヘッドスライダであり、その
製造において、前記、磁気ヘッドにおける磁気ギャップ
を構成するためのガラス溶着と同時に、上記、薄膜磁気
ヘッドとスライダ本体を形成する非磁性基板との接着を
行なうことを特徴とする。
【0015】
【作用】本発明によれば、ガラス接着工程は2回です
み、信頼性の低い低融点ガラスを使用する必要がなくな
り、したがって薄膜磁気ヘッドスライダの信頼性が向上
する。
【0016】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて説明す
る。
【0017】図1は本発明の製造方法の一実施例におけ
る要部工程図を示しており、まず、(a)のように従来と
同様にして、非磁性基板1と金属磁性膜2を、高融点ガ
ラス接着層3により交互に積層した積層バー10を形成
し、さらにこの積層バー10を10a,10bに分離するため縦
に切断して、一方の切断片、図では10aに巻線窓用の溝1
0a1を形成後、上記切断片の対応する両面を精密に研磨
して二酸化珪素等の磁気ギャップ材6′と、中融点ガラ
ス接着層7をスパッタ法などにより形成する。
【0018】その後、(b)のように本発明では磁気ギャ
ップ材6′の溶着工程において、この磁気ギャップ材
6′の溶着と同時にスライダ本体用の非磁性基板11に、
前もってスパッタ等により設けた中融点ガラス接着層12
によって、積層バー10a側を溶着する。
【0019】なお、従来と同じように磁気ギャップ6の
形成時には、巻線窓に補強用のボンディングガラス8を
充填する。上記の工程によって連続して薄膜磁気ヘッド
がスライダ本体用の非磁性基板11に接着された構造の積
層バー材が形成される。
【0020】次に(b)のように上記、積層バー材を各薄
膜磁気ヘッド単位に破線のように切断分離して、浮揚面
等をスライダ形状に加工することにより、(c)のような
薄膜磁気ヘッドスライダが完成する。
【0021】本発明によれば、薄膜磁気ヘッドの非磁性
基板で形成したスライダ本体との一体化を、磁気ヘッド
における磁気ギャップ溶着と同時に行なう中融点ガラス
による溶着によって行なうので、従来のような低融点の
モールドガラスを使用し、信頼度を低下させていたモー
ルド工程がなくなり信頼性の高い薄膜磁気ヘッドスライ
ダが製造できる。
【0022】
【発明の効果】以上説明したように本発明の薄膜磁気ヘ
ッドスライダとその製造方法は、低融点のモールドガラ
スを使用しないので、薄膜磁気ヘッドスライダの信頼性
が著しく向上し、ガラス溶着工程も1工程軽減できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の製造方法の一実施例における要部工程
図である。
【図2】従来の薄膜磁気ヘッドの概略構造を示す斜視図
である。
【図3】従来の薄膜磁気ヘッドスライダの構造を示す斜
視図である。
【図4】従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明するた
めの工程図である。
【符号の説明】
1,11…非磁性基板、 2…金属磁性膜、 3…高融点
ガラス接着層、 4…スライダ本体、 6…磁気ギャッ
プ、 6′…磁気ギャップ材、 7,12…中融点ガラス
接着層、 8…ボンディングガラス、 10…積層バー。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 非磁性基板に挾持させた金属磁性膜を磁
    気コアとし、磁気ギャップ、及び巻線窓を形成してなる
    磁気ヘッドを、非磁性基板により構成したスライダ本体
    にガラス接着層によって接合させ構成したことを特徴と
    する薄膜磁気ヘッドスライダ。
  2. 【請求項2】 非磁性基板に挾持させた金属磁性膜を磁
    気コアとし、磁気ギャップ、及び巻線窓を形成してなる
    薄膜磁気ヘッドを、非磁性基板により構成したスライダ
    本体にガラス接着層によって接合させ構成した薄膜磁気
    ヘッドスライダの製造において、前記、磁気ヘッドにお
    ける磁気ギャップを構成するためのガラス溶着と同時
    に、上記、薄膜磁気ヘッドとスライダ本体を形成する非
    磁性体基板との接着を行なうことを特徴とする薄膜磁気
    ヘッドスライダの製造方法。
JP3263748A 1991-10-11 1991-10-11 薄膜磁気ヘツドスライダとその製造方法 Pending JPH05101360A (ja)

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