JPH0510665B2 - - Google Patents
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- JPH0510665B2 JPH0510665B2 JP58023864A JP2386483A JPH0510665B2 JP H0510665 B2 JPH0510665 B2 JP H0510665B2 JP 58023864 A JP58023864 A JP 58023864A JP 2386483 A JP2386483 A JP 2386483A JP H0510665 B2 JPH0510665 B2 JP H0510665B2
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- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
- Control Or Security For Electrophotography (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、記録媒体に画像を形成する画像形成
装置および前記画像形成装置本体に着脱可能なプ
ロセスキツトに関するものである。
装置および前記画像形成装置本体に着脱可能なプ
ロセスキツトに関するものである。
光導電層を表面に有する像担持体たる感光体の
周辺に、該光導電層を帯電させ、これに画像に相
当する露光を与えて静電潜像を形成する。ついで
これに通常の粉状現像剤(トナー)をあたえて可
転写像を形成した後、該像に転写材を近接させて
これを転写材に転写し、感光体をクーニングした
後上述の工程を繰り返すような画像形成装置は従
来から広く実用化されている。そしてこの種の画
像形成装置において、感光体と上記各工程を行う
周辺部材の全部または一部をケーシング内に一体
的に配してプロセスキツトを構成するようなもの
も、従来から、特に小型の画像形成装置に利用さ
れている。
周辺に、該光導電層を帯電させ、これに画像に相
当する露光を与えて静電潜像を形成する。ついで
これに通常の粉状現像剤(トナー)をあたえて可
転写像を形成した後、該像に転写材を近接させて
これを転写材に転写し、感光体をクーニングした
後上述の工程を繰り返すような画像形成装置は従
来から広く実用化されている。そしてこの種の画
像形成装置において、感光体と上記各工程を行う
周辺部材の全部または一部をケーシング内に一体
的に配してプロセスキツトを構成するようなもの
も、従来から、特に小型の画像形成装置に利用さ
れている。
このようなプロセスキツトを備えた装置におい
ては、一般に画像形成装置の上部に、感光体に静
電潜像を形成させるための光学系ユニツトが配さ
れ、感光体を帯電する帯電手段、潜像を顕在化す
る現像手段、クリーニンング手段などを感光体に
近接配置した構成を具備するのが普通である。そ
こで、プロセスキツトには上記帯電、現像、クリ
ーニングの各手段などをケーシングに一体的に収
納構成したものがよく知られている。
ては、一般に画像形成装置の上部に、感光体に静
電潜像を形成させるための光学系ユニツトが配さ
れ、感光体を帯電する帯電手段、潜像を顕在化す
る現像手段、クリーニンング手段などを感光体に
近接配置した構成を具備するのが普通である。そ
こで、プロセスキツトには上記帯電、現像、クリ
ーニングの各手段などをケーシングに一体的に収
納構成したものがよく知られている。
そしてこのような画像形成装置において、露光
用光源としてレーザを光源とした走査光学系を有
するものにおいては、プロセスキツトを装置本体
から抜脱する際には、抜脱のために本体カバーの
開放によつてマイクロスイツチを開放してレーザ
の発光を停止するようになつているのが普通であ
つた。しかしスイツチの誤作動、故障などによつ
てプロセスキツトを装置本体から取り出してもレ
ーザ光が放射され、これが装置外に漏出する虞が
あつた。
用光源としてレーザを光源とした走査光学系を有
するものにおいては、プロセスキツトを装置本体
から抜脱する際には、抜脱のために本体カバーの
開放によつてマイクロスイツチを開放してレーザ
の発光を停止するようになつているのが普通であ
つた。しかしスイツチの誤作動、故障などによつ
てプロセスキツトを装置本体から取り出してもレ
ーザ光が放射され、これが装置外に漏出する虞が
あつた。
例えば、特開昭51−90826号公報、特開昭51−
90830号公報および特開昭55−164845号公報に記
載されているように、電気制御によつてシヤツタ
ーの開閉を制御する構成が知られている。しかし
ながらこのような構成では、電気的故障が発生す
るとシヤツターの開閉ができなくなる虞があつ
た。
90830号公報および特開昭55−164845号公報に記
載されているように、電気制御によつてシヤツタ
ーの開閉を制御する構成が知られている。しかし
ながらこのような構成では、電気的故障が発生す
るとシヤツターの開閉ができなくなる虞があつ
た。
本発明はこのような事態にかんがみてなされた
ものであつて、プロセスキツトを装置本体から取
り出すときなど、レーザ光のもれる虞のある部位
の着脱ないしはそれに関連のある一連の操作に応
動してレーザ光の光路を遮断し、レーザ光が外部
に漏洩することを確実に阻止し得る、また、プロ
セスキツトを装着した際にレーザ光の光路が遮断
されたままでは画像形成ができないので、それを
自動的に開放する画像形成装置およびプロセスキ
ツトを提供することを目的とするものである。
ものであつて、プロセスキツトを装置本体から取
り出すときなど、レーザ光のもれる虞のある部位
の着脱ないしはそれに関連のある一連の操作に応
動してレーザ光の光路を遮断し、レーザ光が外部
に漏洩することを確実に阻止し得る、また、プロ
セスキツトを装着した際にレーザ光の光路が遮断
されたままでは画像形成ができないので、それを
自動的に開放する画像形成装置およびプロセスキ
ツトを提供することを目的とするものである。
前記目的を達成する本発明は、像担持体と、前
記像担持体に作用するプロセス手段と、を有する
プロセスキツトを着脱可能であつて、前記像担持
体にレーザ光を照射するレーザ光照射手段を有
し、記録媒体に画像を形成する画像形成装置にお
いて、前記レーザ光照射手段からのレーザ光を遮
断する遮断位置と、前記遮断位置から退避する開
放位置と、の間を移動可能なシヤツターと、前記
プロセスキツトの画像形成装置からの取り出し動
作に応じて、前記シヤツターを前記開放位置から
前記遮断位置へ移動する移動手段と、を有するこ
とを特徴とする画像形成装置である。またさら
に、別の本発明は、像担持体と、前記像担持体に
作用するプロセス手段と、を有するプロセスキツ
トを着脱可能であつて、前記像担持体にレーザ光
を照射するレーザ光照射手段を有し、記録媒体に
画像を形成する画像形成装置において、前記レー
ザ光照射手段からのレーザ光を遮断する遮断位置
と、前記遮断位置から退避する開放位置と、の間
を移動可能なシヤツターと、前記プロセスキツト
の画像形成装置本体への装着動作に応じて、前記
シヤツターを前記遮断位置から前記開放位置へ移
動する移動手段と、を有することを特徴とする画
像形成装置である。またさらに別の本発明は、像
担持体にレーザ光を照射するレーザ光照射手段を
有して記録媒体に画像を形成する画像形成装置本
体に着脱可能なプロセスキツトにおいて、像担持
体と、前記像担持体に作用するプロセス手段と、
プロセスキツトの画像形成装置本体に対する装着
動作に応じて、前記画像形成装置本体に設けられ
た、前記レーザ光照射手段からのレーザ光を遮断
するシヤツターを開放する開放手段に作用して、
前記シヤツターを開放させる開放部材と、を有す
ることを特徴とするプロセスキツトである。
記像担持体に作用するプロセス手段と、を有する
プロセスキツトを着脱可能であつて、前記像担持
体にレーザ光を照射するレーザ光照射手段を有
し、記録媒体に画像を形成する画像形成装置にお
いて、前記レーザ光照射手段からのレーザ光を遮
断する遮断位置と、前記遮断位置から退避する開
放位置と、の間を移動可能なシヤツターと、前記
プロセスキツトの画像形成装置からの取り出し動
作に応じて、前記シヤツターを前記開放位置から
前記遮断位置へ移動する移動手段と、を有するこ
とを特徴とする画像形成装置である。またさら
に、別の本発明は、像担持体と、前記像担持体に
作用するプロセス手段と、を有するプロセスキツ
トを着脱可能であつて、前記像担持体にレーザ光
を照射するレーザ光照射手段を有し、記録媒体に
画像を形成する画像形成装置において、前記レー
ザ光照射手段からのレーザ光を遮断する遮断位置
と、前記遮断位置から退避する開放位置と、の間
を移動可能なシヤツターと、前記プロセスキツト
の画像形成装置本体への装着動作に応じて、前記
シヤツターを前記遮断位置から前記開放位置へ移
動する移動手段と、を有することを特徴とする画
像形成装置である。またさらに別の本発明は、像
担持体にレーザ光を照射するレーザ光照射手段を
有して記録媒体に画像を形成する画像形成装置本
体に着脱可能なプロセスキツトにおいて、像担持
体と、前記像担持体に作用するプロセス手段と、
プロセスキツトの画像形成装置本体に対する装着
動作に応じて、前記画像形成装置本体に設けられ
た、前記レーザ光照射手段からのレーザ光を遮断
するシヤツターを開放する開放手段に作用して、
前記シヤツターを開放させる開放部材と、を有す
ることを特徴とするプロセスキツトである。
以下添付の図面によつて本発明の実施例につい
て説明する。
て説明する。
なお以下説明する実施例は、レーザ走査光学系
と、像担持体と、該像担持体に画像を形成する手
段とを有する画像形成装置であつて、可動部材の
移動に連動して前記走査光学系のレーザ光を遮断
するように構成した画像形成装置である。そし
て、前記像担持体とこれに画像を形成する画像形
成手段の一部又は全部を一体に構成してなるもの
である。さらに前記像担持体、画像形成手段ない
しはこれを一体とした部材を着脱する際、これに
連動して走査光学系のレーザ光を遮断する画像形
成装置である。またさらに、前記像担持体、画像
形成手段ないしはこれらを一体とした部材が、走
査光学系のレーザ光を遮断したときにのみ着脱可
能とした画像形成装置である。
と、像担持体と、該像担持体に画像を形成する手
段とを有する画像形成装置であつて、可動部材の
移動に連動して前記走査光学系のレーザ光を遮断
するように構成した画像形成装置である。そし
て、前記像担持体とこれに画像を形成する画像形
成手段の一部又は全部を一体に構成してなるもの
である。さらに前記像担持体、画像形成手段ない
しはこれを一体とした部材を着脱する際、これに
連動して走査光学系のレーザ光を遮断する画像形
成装置である。またさらに、前記像担持体、画像
形成手段ないしはこれらを一体とした部材が、走
査光学系のレーザ光を遮断したときにのみ着脱可
能とした画像形成装置である。
さて、第1図は本発明を適用したレーザプリン
タを示すものである。図において、本体100内
上方には、スキヤナモータ、ポリゴンミラー、ミ
ラーなどを含む走査光学系ユニツト1が配されて
おり、該ユニツトは本体内の基板2に取着してあ
る。基板2の下方には回転円筒状の感光体3が配
されており、その周辺には帯電器4、現像器5、
転写用帯電器6、クーニング装置7などの感光体
3に作用するプロセス手段が配置されており、こ
れら各プロセス手段は感光体3とともにケーシン
グ8内に収納されてプロセスキツト10を構成し
ている。帯電器4によつて一様に帯電された感光
体表面には、光学系ユニツトから情報に応じた画
像露光が、該ユニツトの開口1a、基板2の開口
2a、ケーシング8の開口8aを介して行なわれ
て静電潜像が形成される。ついで現像器5によつ
てこの潜像が顕像化されるとともに、同図矢印A
方向に送給される転写材に、転写帯電器6の存在
する転写部位で転写される。転写材はこのトナー
像を担持したまま図示左方に進行して、定着器9
の位置で定着固定されて本体外に排出される。転
写部位において転写に寄与しなかつたトナーはク
ーニング装置7によつて感光体から除去され、つ
いで前述の仕方と同様の画像形成工程を繰り返す
ものとする。
タを示すものである。図において、本体100内
上方には、スキヤナモータ、ポリゴンミラー、ミ
ラーなどを含む走査光学系ユニツト1が配されて
おり、該ユニツトは本体内の基板2に取着してあ
る。基板2の下方には回転円筒状の感光体3が配
されており、その周辺には帯電器4、現像器5、
転写用帯電器6、クーニング装置7などの感光体
3に作用するプロセス手段が配置されており、こ
れら各プロセス手段は感光体3とともにケーシン
グ8内に収納されてプロセスキツト10を構成し
ている。帯電器4によつて一様に帯電された感光
体表面には、光学系ユニツトから情報に応じた画
像露光が、該ユニツトの開口1a、基板2の開口
2a、ケーシング8の開口8aを介して行なわれ
て静電潜像が形成される。ついで現像器5によつ
てこの潜像が顕像化されるとともに、同図矢印A
方向に送給される転写材に、転写帯電器6の存在
する転写部位で転写される。転写材はこのトナー
像を担持したまま図示左方に進行して、定着器9
の位置で定着固定されて本体外に排出される。転
写部位において転写に寄与しなかつたトナーはク
ーニング装置7によつて感光体から除去され、つ
いで前述の仕方と同様の画像形成工程を繰り返す
ものとする。
このようなものにおいて、第1図々示の実施例
においては、基板2の下面に、開口2aを開閉す
るシヤツタ11設けておき、プロセスキツト10
を本体100に着脱する際、これに応動し、キツ
ト10を装着したときにはシヤツタ11が開口2
aを開放し、キツト10を本体から抜脱するとシ
ヤツタ11によつて開口2aを閉塞するように構
成したことを特長とするものである。
においては、基板2の下面に、開口2aを開閉す
るシヤツタ11設けておき、プロセスキツト10
を本体100に着脱する際、これに応動し、キツ
ト10を装着したときにはシヤツタ11が開口2
aを開放し、キツト10を本体から抜脱するとシ
ヤツタ11によつて開口2aを閉塞するように構
成したことを特長とするものである。
第2図は、上記シヤツタの構成ならびにプロセ
スキツト10の関係作動を示す要部の斜視図であ
る。基板2の下面には、走査用の開口2aを開閉
するための長尺のシヤツタ板11が該下面に沿つ
て摺動自在に配置されている。図示のものにおい
ては、シヤツタ板11の両側近傍に夫々長孔11
c,11dを設け、これら長孔に、基板2に固着
したピン2b,2cを遊嵌して基板2下面にシヤ
ツタ板11を支持するとともにその摺動を可能と
しているが、これ以外に、たとえばシヤツタ板1
1の両側縁を基板2下面に形成した案内路に係合
させるなど適宜の手段を用いることができる。シ
ヤツタ板11には、一端を基板2その他の不動部
分に一端を取着したばね12a,12bの他端が
係止されており、これによつてシヤツタ板11
は、第2図に示すように、開口2aを閉成する方
向に習性づけられている。さらにシヤツタ板11
の両端には夫々脚部11a,11bが延長形成し
ており、キツト10の着脱からみて奥側の脚部1
1aを、手前側の脚部11bよりも長く形成して
ある。
スキツト10の関係作動を示す要部の斜視図であ
る。基板2の下面には、走査用の開口2aを開閉
するための長尺のシヤツタ板11が該下面に沿つ
て摺動自在に配置されている。図示のものにおい
ては、シヤツタ板11の両側近傍に夫々長孔11
c,11dを設け、これら長孔に、基板2に固着
したピン2b,2cを遊嵌して基板2下面にシヤ
ツタ板11を支持するとともにその摺動を可能と
しているが、これ以外に、たとえばシヤツタ板1
1の両側縁を基板2下面に形成した案内路に係合
させるなど適宜の手段を用いることができる。シ
ヤツタ板11には、一端を基板2その他の不動部
分に一端を取着したばね12a,12bの他端が
係止されており、これによつてシヤツタ板11
は、第2図に示すように、開口2aを閉成する方
向に習性づけられている。さらにシヤツタ板11
の両端には夫々脚部11a,11bが延長形成し
ており、キツト10の着脱からみて奥側の脚部1
1aを、手前側の脚部11bよりも長く形成して
ある。
本体内の基板2の下部に装脱される前記プロセ
スキツト10は、その頂面に形成された光走査用
の前記長孔8aがシヤツタ板11の長孔2aと合
致するような位置において操作されることになる
が、該キツトのケーシング頂部には、2個の突部
13,14が形成されており、これら各突部の一
側には夫々前記シヤツタ板の脚部11a,11b
と係合するテーパ部13a,14aが形成してあ
る。
スキツト10は、その頂面に形成された光走査用
の前記長孔8aがシヤツタ板11の長孔2aと合
致するような位置において操作されることになる
が、該キツトのケーシング頂部には、2個の突部
13,14が形成されており、これら各突部の一
側には夫々前記シヤツタ板の脚部11a,11b
と係合するテーパ部13a,14aが形成してあ
る。
プロセスキツト10を第2図矢印B方向に移動
させて本体100内定位置に挿入してゆくと、該
キツト頂面の突部13,14のテーパ部13a,
14aが夫々シヤツタ板11の各脚部11a,1
1bに係合して、ばね12a,12bの作用に抗
してシヤツタ板11を同図矢印Cの方向に変位さ
せて基板2の開口2aを開放し、キツト10が本
体内定位置に持ち来たされたところで開口2a
が、走査光学系ユニツト1の開口1a、キツトの
開口8aと合致して露光可能状態となる。
させて本体100内定位置に挿入してゆくと、該
キツト頂面の突部13,14のテーパ部13a,
14aが夫々シヤツタ板11の各脚部11a,1
1bに係合して、ばね12a,12bの作用に抗
してシヤツタ板11を同図矢印Cの方向に変位さ
せて基板2の開口2aを開放し、キツト10が本
体内定位置に持ち来たされたところで開口2a
が、走査光学系ユニツト1の開口1a、キツトの
開口8aと合致して露光可能状態となる。
キツト10を第2図矢印Bと反射方向に引き出
せば、ばね12a,12bの作用で、シヤツタ板
11の脚部11a,11bは、前記突部13,1
4のテーパ部13a,14aに当接しつつシヤツ
タ板11を同図矢印Cと反対方向に変位させてシ
ヤツタ板11が基板の開口2aを閉成するから、
レーザ光が外部に誤つて漏るれことを確実に阻止
し得る。
せば、ばね12a,12bの作用で、シヤツタ板
11の脚部11a,11bは、前記突部13,1
4のテーパ部13a,14aに当接しつつシヤツ
タ板11を同図矢印Cと反対方向に変位させてシ
ヤツタ板11が基板の開口2aを閉成するから、
レーザ光が外部に誤つて漏るれことを確実に阻止
し得る。
なお、前述のようにシヤツタ板の両脚部11
a,11bはその長さを異にしており、これに対
応してキツト側の突部13,14も、シヤツタ板
の変位方向にみて異なつた位置にあるから、キツ
トの装脱にあたつて、たとえば脚部11bが突部
13の進入に邪魔になつたりするようなことはな
い。
a,11bはその長さを異にしており、これに対
応してキツト側の突部13,14も、シヤツタ板
の変位方向にみて異なつた位置にあるから、キツ
トの装脱にあたつて、たとえば脚部11bが突部
13の進入に邪魔になつたりするようなことはな
い。
第3図は本発明の他の実施例を示すものであ
る。
る。
この実施例にあつては、基板板2に形成した開
口2aの下面に配設したシヤツタ板11を、その
一側縁にピン11c,11dを設けてシヤツタ板
11をこれらピンを中心として回動自在に取着す
るとともに、他側縁にばね12a,12bを配し
てシヤツタ板11が常時開口2aを閉成するよう
に構成してある。
口2aの下面に配設したシヤツタ板11を、その
一側縁にピン11c,11dを設けてシヤツタ板
11をこれらピンを中心として回動自在に取着す
るとともに、他側縁にばね12a,12bを配し
てシヤツタ板11が常時開口2aを閉成するよう
に構成してある。
シヤツタ板11の一側縁端部には下方にのびる
立下り係合部11eが設けてあり、該係合部が以
下に説明するようにプロセスキツト10の画像形
成装置への着脱に応動する。
立下り係合部11eが設けてあり、該係合部が以
下に説明するようにプロセスキツト10の画像形
成装置への着脱に応動する。
プロセスキツト10には、これを画像形成装置
に装着したときに、前記開口2aと合致する開口
8aと平行にのびる凹溝8cが形成してあり、そ
の一側面8dは、図示のように、開放側端部eは
ほぼ垂直状に(キツト10は水平方向に進退して
画像形成装置に装脱するものとする)、他方の端
部fは水平に近い状態となつており、これら両端
部e,f間においてはその角度がなめらかに変化
するようなねじれ面に形成されている。さらにプ
ロセスキツト10を画像形成装置に、矢印B方向
に移動装着する際、装着初期の位置において、シ
ヤツタ板11の前記係合部11eが、キツト10
の側面8dの端部eに軽く当接するように各部が
関係配置されているものとする。したがつて、上
記のように係合部11eと側面8dの端部eとが
対向している位置からキツト10を押挿してゆく
と、該係合部11eは側面8dに沿つて、ピン1
1c,11dを中心としてばね12a,12bの
作用に抗して回動してゆき、キツト10が装置内
定位置に達したときに係合部11eは側面8dの
他方の端部fにいたつて充分にシヤツタ板11を
回動させ、基板2の開口2aを開放することにな
る。プロセスキツト10を装置から引き出せば、
これにともなつてシヤツタ板11の係合部11e
はキツト10側の側面8dに沿つて上記と反対方
向に回動してゆき、キツト10を外すとともに基
板2aはシヤツタ板11によつて閉塞されてレー
ザビームの漏出を阻止することができる。なおキ
ツト10には、その頂面の開口8aの近傍にはシ
ヤツタ板11の回動を可能ならしめるための凹部
8eを形成しておくものとする。この装置はシヤ
ツタを回転するように構成したので、比較的小ス
ペースでシヤツタの開閉を可能とする。
に装着したときに、前記開口2aと合致する開口
8aと平行にのびる凹溝8cが形成してあり、そ
の一側面8dは、図示のように、開放側端部eは
ほぼ垂直状に(キツト10は水平方向に進退して
画像形成装置に装脱するものとする)、他方の端
部fは水平に近い状態となつており、これら両端
部e,f間においてはその角度がなめらかに変化
するようなねじれ面に形成されている。さらにプ
ロセスキツト10を画像形成装置に、矢印B方向
に移動装着する際、装着初期の位置において、シ
ヤツタ板11の前記係合部11eが、キツト10
の側面8dの端部eに軽く当接するように各部が
関係配置されているものとする。したがつて、上
記のように係合部11eと側面8dの端部eとが
対向している位置からキツト10を押挿してゆく
と、該係合部11eは側面8dに沿つて、ピン1
1c,11dを中心としてばね12a,12bの
作用に抗して回動してゆき、キツト10が装置内
定位置に達したときに係合部11eは側面8dの
他方の端部fにいたつて充分にシヤツタ板11を
回動させ、基板2の開口2aを開放することにな
る。プロセスキツト10を装置から引き出せば、
これにともなつてシヤツタ板11の係合部11e
はキツト10側の側面8dに沿つて上記と反対方
向に回動してゆき、キツト10を外すとともに基
板2aはシヤツタ板11によつて閉塞されてレー
ザビームの漏出を阻止することができる。なおキ
ツト10には、その頂面の開口8aの近傍にはシ
ヤツタ板11の回動を可能ならしめるための凹部
8eを形成しておくものとする。この装置はシヤ
ツタを回転するように構成したので、比較的小ス
ペースでシヤツタの開閉を可能とする。
以上第2図、第3図々示の実施例にあつては、
プロセスキツトの着脱とシヤツタの開閉を連動し
たものを示したが、これを連動させなくとも良い
ことは勿論である。
プロセスキツトの着脱とシヤツタの開閉を連動し
たものを示したが、これを連動させなくとも良い
ことは勿論である。
第4図は本発明とは直接関係しないが、プロセ
スキツトの着脱とシヤツタの開閉とに関連した他
の実施例を示すものである。同図は画像形成装置
の基板2の下方定位置にプロセスキツトが位置し
ているところを示す要部斜視図であつて、走査光
学系ユニツト1内にレーザビームを横切る方向に
シヤツタ板11が、その両端においてユニツト側
壁に枢着支持11a,11bされている。前記シ
ヤツタ板11の、プロセスキツト10を装脱する
側の端部には立下り片11cが一体に形成してあ
り、図示のように、プロセスキツト10が定位置
にあるときには、シヤツタ板11は、実線で示す
ように、基板2の表面に重畳する位置をとつてお
り感光体の露光に支障はない。かつこのときには
前記立下り片11cがキツト10の引き出し側端
面に係合しているので、キツト10を引き出すこ
とはできない。キツト10をとり出す場合には前
記立下り片11cを同図矢印C方向に回動させ
て、これとキツト10端面との係合を外さなけれ
ばならない。そして立下り片Cをこのように回動
させると、これに伴つてシヤツタ板11も同図鎖
線で示すように回動してレーザビームを遮断する
ことになる。したがつてこの状態プロセスキツト
10を取り出す際にはレーザビームは確実にシヤ
ツタ板によつて遮蔽されて漏洩する虞がない。ま
たこの実施例はシヤツタ板11を光学ユニツト内
部に配設してあるので、装置全体のコンパクト化
を可能とするものである。
スキツトの着脱とシヤツタの開閉とに関連した他
の実施例を示すものである。同図は画像形成装置
の基板2の下方定位置にプロセスキツトが位置し
ているところを示す要部斜視図であつて、走査光
学系ユニツト1内にレーザビームを横切る方向に
シヤツタ板11が、その両端においてユニツト側
壁に枢着支持11a,11bされている。前記シ
ヤツタ板11の、プロセスキツト10を装脱する
側の端部には立下り片11cが一体に形成してあ
り、図示のように、プロセスキツト10が定位置
にあるときには、シヤツタ板11は、実線で示す
ように、基板2の表面に重畳する位置をとつてお
り感光体の露光に支障はない。かつこのときには
前記立下り片11cがキツト10の引き出し側端
面に係合しているので、キツト10を引き出すこ
とはできない。キツト10をとり出す場合には前
記立下り片11cを同図矢印C方向に回動させ
て、これとキツト10端面との係合を外さなけれ
ばならない。そして立下り片Cをこのように回動
させると、これに伴つてシヤツタ板11も同図鎖
線で示すように回動してレーザビームを遮断する
ことになる。したがつてこの状態プロセスキツト
10を取り出す際にはレーザビームは確実にシヤ
ツタ板によつて遮蔽されて漏洩する虞がない。ま
たこの実施例はシヤツタ板11を光学ユニツト内
部に配設してあるので、装置全体のコンパクト化
を可能とするものである。
以上説明したように、前述のような画像形成装
置において、該装置を構成する部材を装置に着脱
する際に、レーザビームの光路を遮断し得るよう
に構成したから、仮にレーザ光源の開閉回路に故
障が発生するようなことがあつたとしても、レー
ザ光が装置外部へ漏出する虞を確実に阻止するこ
とができるものである。
置において、該装置を構成する部材を装置に着脱
する際に、レーザビームの光路を遮断し得るよう
に構成したから、仮にレーザ光源の開閉回路に故
障が発生するようなことがあつたとしても、レー
ザ光が装置外部へ漏出する虞を確実に阻止するこ
とができるものである。
以上詳述した通り、本発明によれば、レーザ光
が装置の外部へ漏出するのを防止する信頼性を高
めた、またプロセスキツトの装着動作に応じて自
動的にシヤツターを開放して良好な画像形成を行
うことのできる画像形成装置および前記画像形成
装置に着脱可能なプロセスキツトを提供すること
ができる。
が装置の外部へ漏出するのを防止する信頼性を高
めた、またプロセスキツトの装着動作に応じて自
動的にシヤツターを開放して良好な画像形成を行
うことのできる画像形成装置および前記画像形成
装置に着脱可能なプロセスキツトを提供すること
ができる。
第1図は本発明を適用した画像形成装置の構成
を略示する側断面図、第2図ないし第3図は各々
本発明の実施例を示す要部斜面図、第4図はプロ
セスキツトの着脱とシヤツタの開閉とに関連した
実施例である。 1……走査光学系ユニツト、2……基板、3…
…感光体、5……現像器、7……クリーニング装
置、8……ケーシング、10……プロセスキツ
ト、11……シヤツタ板。
を略示する側断面図、第2図ないし第3図は各々
本発明の実施例を示す要部斜面図、第4図はプロ
セスキツトの着脱とシヤツタの開閉とに関連した
実施例である。 1……走査光学系ユニツト、2……基板、3…
…感光体、5……現像器、7……クリーニング装
置、8……ケーシング、10……プロセスキツ
ト、11……シヤツタ板。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 像担持体と、前記像担持体に作用するプロセ
ス手段と、を有するプロセスキツトを着脱可能で
あつて、前記像担持体にレーザ光を照射するレー
ザ光照射手段を有し、記録媒体に画像を形成する
画像形成装置において、 前記レーザ光照射手段からのレーザ光を遮断す
る遮断位置と、前記遮断位置から退避する開放位
置と、の間を移動可能なシヤツターと、 前記プロセスキツトの画像形成装置本体からの
取り出し動作に応じて、前記シヤツターを前記開
放位置から前記遮断位置へ移動する移動手段と、
を有することを特徴とする画像形成装置。 2 前記プロセス手段は、前記像担持体としての
感光体を帯電する帯電手段を有する特許請求の範
囲第1項に記載の画像形成装置。 3 前記プロセス手段は、潜像を顕在化する現像
手段を有する特許請求の範囲第1項に記載の画像
形成装置。 4 前記プロセス手段は、前記像担持体としての
感光体をクリーニングするクーニング手段を有す
る特許請求の範囲第1項に記載の画像形成装置。 5 像担持体と、前記像担持体に作用するプロセ
ス手段と、を有するプロセスキツトを着脱可能で
あつて、前記像担持体にレーザ光を照射するレー
ザ光照射手段を有し、記録媒体に画像を形成する
画像形成装置において、 前記レーザ光照射手段からのレーザ光を遮断す
る遮断位置と、前記遮断位置から退避する開放位
置と、の間を移動可能なシヤツターと、 前記プロセスキツトの画像形成装置本体への装
着動作に応じて、前記シヤツターを前記遮断位置
から前記開放位置へ移動する移動手段と、 を有することを特徴とする画像形成装置。 6 前記プロセス手段は、前記像担持体としての
感光体を帯電する帯電手段を有する特許請求の範
囲第5項に記載の画像形成装置。 7 前記プロセス手段は、潜像を顕在化する現像
手段を有する特許請求の範囲第5項に記載の画像
形成装置。 8 前記プロセス手段は、前記像担持体としての
感光体をクリーニングするクーニング手段を有す
る特許請求の範囲第5項に記載の画像形成装置。 9 像担持体にレーザ光を照射するレーザ光照射
手段を有して記録媒体に画像を形成する画像形成
装置本体に着脱可能なプロセスキツトにおいて、 像担持体と、 前記像担持体に作用するプロセス手段と、 プロセスキツトの画像形成装置本体に対する装
着動作に応じて、前記画像形成装置本体に設けら
れた、前記レーザ光照射手段からのレーザ光を遮
断するシヤツターを開放する開放手段に作用し
て、前記シヤツターを開放させる開放部材と、 を有することを特徴とするプロセスキツト。 10 前記プロセス手段は、前記像担持体として
の感光体を帯電する帯電手段を有する特許請求の
範囲第9項に記載のプロセスキツト。 11 前記プロセス手段は、潜像を顕在化する現
像手段を有する特許請求の範囲第9項に記載のプ
ロセスキツト。 12 前記プロセス手段は、前記像担持体として
の感光体をクリーニングするクーニング手段を有
する特許請求の範囲第9項に記載のプロセスキツ
ト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58023864A JPS59151170A (ja) | 1983-02-17 | 1983-02-17 | 画像形成装置および前記画像形成装置に着脱可能なプロセスキット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58023864A JPS59151170A (ja) | 1983-02-17 | 1983-02-17 | 画像形成装置および前記画像形成装置に着脱可能なプロセスキット |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4362199A Division JP2681587B2 (ja) | 1992-09-17 | 1992-09-17 | 画像形成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59151170A JPS59151170A (ja) | 1984-08-29 |
| JPH0510665B2 true JPH0510665B2 (ja) | 1993-02-10 |
Family
ID=12122302
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58023864A Granted JPS59151170A (ja) | 1983-02-17 | 1983-02-17 | 画像形成装置および前記画像形成装置に着脱可能なプロセスキット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59151170A (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61185762A (ja) * | 1985-02-14 | 1986-08-19 | Canon Inc | 画像記録装置 |
| JPH0618361Y2 (ja) * | 1985-06-26 | 1994-05-11 | キヤノン株式会社 | 記録装置 |
| JPH0721672B2 (ja) * | 1986-07-28 | 1995-03-08 | 三洋電機株式会社 | 像形成装置の電荷消去手段支持装置 |
| JPH02272470A (ja) * | 1989-04-13 | 1990-11-07 | Seiko Epson Corp | 画像形成装置 |
| JP3352155B2 (ja) * | 1992-06-30 | 2002-12-03 | キヤノン株式会社 | プロセスカートリッジ及び画像形成装置 |
| JP3285392B2 (ja) * | 1992-09-04 | 2002-05-27 | キヤノン株式会社 | プロセスカートリッジ及び画像形成装置 |
| JP4878450B2 (ja) * | 2005-07-29 | 2012-02-15 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置 |
| KR20080037902A (ko) * | 2006-10-27 | 2008-05-02 | 삼성전자주식회사 | 광주사유니트용 셔터 구조체 및 이를 채용한 화상형성장치 |
| JP4645710B2 (ja) * | 2008-09-12 | 2011-03-09 | ブラザー工業株式会社 | 画像形成装置 |
-
1983
- 1983-02-17 JP JP58023864A patent/JPS59151170A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59151170A (ja) | 1984-08-29 |
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