JPH05109024A - 磁気ヘツド用基板材料 - Google Patents
磁気ヘツド用基板材料Info
- Publication number
- JPH05109024A JPH05109024A JP3297888A JP29788891A JPH05109024A JP H05109024 A JPH05109024 A JP H05109024A JP 3297888 A JP3297888 A JP 3297888A JP 29788891 A JP29788891 A JP 29788891A JP H05109024 A JPH05109024 A JP H05109024A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic head
- slider
- tic
- zro
- substrate material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】摺動特性に優れ、高強度、高靭性、耐摩耗性に
加えて、小さい比抵抗のため耐摩擦帯電性が小さい磁気
ヘッド用として好適な基板材料を提供する。 【構成】Ｙ2 Ｏ3 またはＭｇＯを固溶させた正方晶Ｚｒ
Ｏ2 を主成分とし、ＴｉＣを１５〜４０重量％かつＴ
ｉ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｃｒの珪化物の少く
とも１つを５〜２０重量％含む磁気ヘッド用基板材料。
加えて、小さい比抵抗のため耐摩擦帯電性が小さい磁気
ヘッド用として好適な基板材料を提供する。 【構成】Ｙ2 Ｏ3 またはＭｇＯを固溶させた正方晶Ｚｒ
Ｏ2 を主成分とし、ＴｉＣを１５〜４０重量％かつＴ
ｉ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｃｒの珪化物の少く
とも１つを５〜２０重量％含む磁気ヘッド用基板材料。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、耐久性、耐摩耗性、潤
滑性に優れた磁気ヘッド基板（スライダー）材料に関す
るものである。
滑性に優れた磁気ヘッド基板（スライダー）材料に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】近年磁気ディスク装置の分野において増
大する高記録密度化の要請に応えるため、薄膜磁気ヘッ
ドが急速に普及しつつある。薄膜磁気ヘッドはセラミッ
クス製スライダーの後端面に磁気信号の記録再生を行う
薄膜素子が形成された構造を有しており、スライダーが
磁気ディスクの高速回転（２０〜４０ｍ／ｓ）によって
発生する空気層流に乗って磁気ディスク面上にわずかに
浮上（０．２〜４μｍ）することを利用し磁気ディスク
に対して記録の書き込み、読み取りを行う機能を有す
る。したがってスライダーは磁気ディスク回転の起動、
停止時は十分な空気層流が得られないため必ず磁気ディ
スクと摺動し、いわゆるコンタクト・スタート・ストッ
プ（ＣＳＳ）動作を行う。さらにスライダーは定常浮上
中であっても振動や塵埃の介入などの外的要因によって
浮上高さや浮上姿勢が乱れることが避けられない。
大する高記録密度化の要請に応えるため、薄膜磁気ヘッ
ドが急速に普及しつつある。薄膜磁気ヘッドはセラミッ
クス製スライダーの後端面に磁気信号の記録再生を行う
薄膜素子が形成された構造を有しており、スライダーが
磁気ディスクの高速回転（２０〜４０ｍ／ｓ）によって
発生する空気層流に乗って磁気ディスク面上にわずかに
浮上（０．２〜４μｍ）することを利用し磁気ディスク
に対して記録の書き込み、読み取りを行う機能を有す
る。したがってスライダーは磁気ディスク回転の起動、
停止時は十分な空気層流が得られないため必ず磁気ディ
スクと摺動し、いわゆるコンタクト・スタート・ストッ
プ（ＣＳＳ）動作を行う。さらにスライダーは定常浮上
中であっても振動や塵埃の介入などの外的要因によって
浮上高さや浮上姿勢が乱れることが避けられない。
【０００３】記録密度を大きくするために浮上高さは一
層小さくなりつつあるため、このような乱れによりスラ
イダーが高速回転中の磁気ディスクと衝突する回数がま
すます増大してきている。
層小さくなりつつあるため、このような乱れによりスラ
イダーが高速回転中の磁気ディスクと衝突する回数がま
すます増大してきている。
【０００４】これらのことからＣＳＳ性能を向上させる
ためには、磁気ヘッドのスライダーの摺動性を高めるこ
とが重要である。更にスライダーの表面が平滑で気孔が
存在しないこと、耐摩耗性が良いことが必要である。
ためには、磁気ヘッドのスライダーの摺動性を高めるこ
とが重要である。更にスライダーの表面が平滑で気孔が
存在しないこと、耐摩耗性が良いことが必要である。
【０００５】又磁気ヘッドは上に述べた如く、磁気ディ
スクに接触摺動する時に摩擦帯電する。この帯電量が過
度に大きくなると磁気トランスジューサーの信号巻線に
ノイズが発生したり、磁気ヘッドの浮上量が変わったり
する恐れがある。そこで摩擦帯電のできるだけ生じない
材料で磁気ヘッドのスライダーを構成することが望まし
い。
スクに接触摺動する時に摩擦帯電する。この帯電量が過
度に大きくなると磁気トランスジューサーの信号巻線に
ノイズが発生したり、磁気ヘッドの浮上量が変わったり
する恐れがある。そこで摩擦帯電のできるだけ生じない
材料で磁気ヘッドのスライダーを構成することが望まし
い。
【０００６】更に磁気ヘッドのスライダーは例えば特開
昭５５−１６３６６５に示されているように極めて複雑
な構造をしているものであるが、このような複雑な構造
の磁気ヘッドを生産性良く作るには、スライダー構成材
が機械加工性に優れていることが必要である。即ち加工
時の切削抵抗の少ないことや切削ブレード等への目づま
りのないことやクラックやチッピングの生じないことが
重要である。
昭５５−１６３６６５に示されているように極めて複雑
な構造をしているものであるが、このような複雑な構造
の磁気ヘッドを生産性良く作るには、スライダー構成材
が機械加工性に優れていることが必要である。即ち加工
時の切削抵抗の少ないことや切削ブレード等への目づま
りのないことやクラックやチッピングの生じないことが
重要である。
【０００７】従来のスライダー材料としては薄膜素子の
形成性が良好な点からAl2O3系セラミックが広く知られ
ており、改良提案も多い。例えば特開昭６１−１５８８
６２、特開昭６０−２３１３０８、特開昭６０−１８３
７０９及び特開昭６０−１７９９２３に示されたものが
ある。
形成性が良好な点からAl2O3系セラミックが広く知られ
ており、改良提案も多い。例えば特開昭６１−１５８８
６２、特開昭６０−２３１３０８、特開昭６０−１８３
７０９及び特開昭６０−１７９９２３に示されたものが
ある。
【０００８】これらはいずれも Al2O3−TiC とその他の
添加粒子からなっており、耐摩性や加工性の向上が図ら
れている。又一方ZrO2系を主成分としたスライダー材料
が例えば特開昭６０−１７１６１７、特開昭６３−２７
８３１２、特開昭６０−６６４０４等に多く示され、摺
動特性が良好であるスライダーが提案されている。
添加粒子からなっており、耐摩性や加工性の向上が図ら
れている。又一方ZrO2系を主成分としたスライダー材料
が例えば特開昭６０−１７１６１７、特開昭６３−２７
８３１２、特開昭６０−６６４０４等に多く示され、摺
動特性が良好であるスライダーが提案されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の A
l2O3−TiC からなるスライダーは、機械加工性や耐摩耗
性に優れるものの高精度の複雑な形状のスライダーを加
工する時クラック、チッピングも少なくなく、加工歩留
を落としており、より破壊靭性、摺動特性の向上が強く
望まれている。
l2O3−TiC からなるスライダーは、機械加工性や耐摩耗
性に優れるものの高精度の複雑な形状のスライダーを加
工する時クラック、チッピングも少なくなく、加工歩留
を落としており、より破壊靭性、摺動特性の向上が強く
望まれている。
【００１０】又 ZrO2 を主成分としたスライダーは Al2
O3−TiC と比べ摺動特性に優れているが、耐摩耗性や加
工性に劣るとされている。このように種々のスライダー
材料が提案されているが、摺動特性、耐摩耗性、破壊靭
性の高い機械加工性に優れた材料が強く望まれている。
O3−TiC と比べ摺動特性に優れているが、耐摩耗性や加
工性に劣るとされている。このように種々のスライダー
材料が提案されているが、摺動特性、耐摩耗性、破壊靭
性の高い機械加工性に優れた材料が強く望まれている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は前述の問題点を
解決すべくなされたものであり、Y2O3又は MgOを３〜７
重量％（以下同じ）含む正方晶 ZrO2 を主成分とし、Ti
C を１５〜４０％含み、かつ Ti ,Zr ,Mo ,W ,Ta ,Nb ,
Crの珪化物のうち少なくとも１種を５〜２０％含んでな
ることを特徴とする磁気ヘッド用、特に薄膜磁気ヘッド
用基板材料を提供するものである。
解決すべくなされたものであり、Y2O3又は MgOを３〜７
重量％（以下同じ）含む正方晶 ZrO2 を主成分とし、Ti
C を１５〜４０％含み、かつ Ti ,Zr ,Mo ,W ,Ta ,Nb ,
Crの珪化物のうち少なくとも１種を５〜２０％含んでな
ることを特徴とする磁気ヘッド用、特に薄膜磁気ヘッド
用基板材料を提供するものである。
【００１２】本発明は摺動特性の優れる正方晶 ZrO2 を
主相とし、耐摩耗性、導電性付与のためのTiC を分散
し、潤滑性の優れた Ti ,Zr ,Mo ,W ,Ta ,Nb ,Crの珪化
物のうち少なくとも１種を添加して分散した構成相から
なる摺動特性、耐摩耗性、機械加工性に優れた基板材料
を得ることができる。
主相とし、耐摩耗性、導電性付与のためのTiC を分散
し、潤滑性の優れた Ti ,Zr ,Mo ,W ,Ta ,Nb ,Crの珪化
物のうち少なくとも１種を添加して分散した構成相から
なる摺動特性、耐摩耗性、機械加工性に優れた基板材料
を得ることができる。
【００１３】本発明の主構成相である正方晶 ZrO2 は、
Y2O3又は MgOが３〜７％固溶された正方晶 ZrO2 とする
必要がある。Y2O3や MgOが３％より少ないと単斜晶 ZrO
2 が増加し、焼結体冷却中にマイクロクラックが発生し
機械的強度が著しく低下し、７％より多いと立方晶 ZrO
2 が増加して強度、破壊靭性が著しく低下するため好ま
しくない。
Y2O3又は MgOが３〜７％固溶された正方晶 ZrO2 とする
必要がある。Y2O3や MgOが３％より少ないと単斜晶 ZrO
2 が増加し、焼結体冷却中にマイクロクラックが発生し
機械的強度が著しく低下し、７％より多いと立方晶 ZrO
2 が増加して強度、破壊靭性が著しく低下するため好ま
しくない。
【００１４】本発明においては正方晶 ZrO2 主相の結晶
粒径は２μｍ以下とすることが望ましく、２μｍ以下に
することによって、強度、破壊靭性が向上し、機械加工
性やチッピングを小さくすることができる。後述するよ
うに TiCや特定の Ti ,Zr ,Mo ,W ,Ta ,Nb ,Crの珪化物
のうち少なくとも１種を正方晶 ZrO2 主相中に分散する
ことにより正方晶 ZrO2 相の結晶粒の成長を抑制し、Zr
O2相の結晶粒を微細化することができる。
粒径は２μｍ以下とすることが望ましく、２μｍ以下に
することによって、強度、破壊靭性が向上し、機械加工
性やチッピングを小さくすることができる。後述するよ
うに TiCや特定の Ti ,Zr ,Mo ,W ,Ta ,Nb ,Crの珪化物
のうち少なくとも１種を正方晶 ZrO2 主相中に分散する
ことにより正方晶 ZrO2 相の結晶粒の成長を抑制し、Zr
O2相の結晶粒を微細化することができる。
【００１５】本発明において耐摩耗性、帯電防止機能を
付与する TiCは正方晶 ZrO2 構成相中に均一に分散した
状態で含有することが必要である。TiC の含有量は１５
〜４０％であるが、これは耐摩耗性、導電性さらには正
方晶 ZrO2 の結晶粒の微細化のために必要であり、１５
％以下では導電性や耐摩耗性の点で不十分であり、４０
％以上では TiCが高硬度であるため摺動特性が低下する
ため好ましくない。
付与する TiCは正方晶 ZrO2 構成相中に均一に分散した
状態で含有することが必要である。TiC の含有量は１５
〜４０％であるが、これは耐摩耗性、導電性さらには正
方晶 ZrO2 の結晶粒の微細化のために必要であり、１５
％以下では導電性や耐摩耗性の点で不十分であり、４０
％以上では TiCが高硬度であるため摺動特性が低下する
ため好ましくない。
【００１６】本発明においてはさらに潤滑特性に優れ、
正方晶 ZrO2の結晶粒の成長を抑制し、高熱伝導率を付
与する Ti ,Zr ,Mo ,W ,Ta ,Nb ,Crの珪化物のうち少な
くとも１種を正方晶 ZrO2 −TiC 構成相中に分散して含
有することが必要である。これら珪化物の含有量は焼結
体中において５〜２０％で、これは潤滑性や正方晶ZrO2
の結晶粒の微細化の為必要であり、５％以下では潤滑
性、高熱伝導率化が発揮されず、２０％以上では緻密な
焼結体が得られずかえって正方晶 ZrO2 結晶粒の成長を
促進する等好ましくない。
正方晶 ZrO2の結晶粒の成長を抑制し、高熱伝導率を付
与する Ti ,Zr ,Mo ,W ,Ta ,Nb ,Crの珪化物のうち少な
くとも１種を正方晶 ZrO2 −TiC 構成相中に分散して含
有することが必要である。これら珪化物の含有量は焼結
体中において５〜２０％で、これは潤滑性や正方晶ZrO2
の結晶粒の微細化の為必要であり、５％以下では潤滑
性、高熱伝導率化が発揮されず、２０％以上では緻密な
焼結体が得られずかえって正方晶 ZrO2 結晶粒の成長を
促進する等好ましくない。
【００１７】本発明を構成する Y2O3 又は MgOで固溶さ
れた正方晶 ZrO2,TiC,Ti,Zr,Mo, W,Ta,Nb,Crの珪化物の
原料の粒度は平均粒径が０．１μｍ以下として使用する
ことが好ましくは必要である。これは、０．１μｍ以上
では焼結して生成する結晶粒が大きくなり、基板の表面
の平滑性が低下するので好ましくないからである。又不
純物としては少量の他の成分が存在しても構わないが、
０．５％以下特には０．１％以下にすることが望まし
い。
れた正方晶 ZrO2,TiC,Ti,Zr,Mo, W,Ta,Nb,Crの珪化物の
原料の粒度は平均粒径が０．１μｍ以下として使用する
ことが好ましくは必要である。これは、０．１μｍ以上
では焼結して生成する結晶粒が大きくなり、基板の表面
の平滑性が低下するので好ましくないからである。又不
純物としては少量の他の成分が存在しても構わないが、
０．５％以下特には０．１％以下にすることが望まし
い。
【００１８】本発明は以上の構成によりなるが、本発明
のセラミックスを製造するには０．１μｍ以下の Y2O3
又は MgOで固溶された ZrO2 粉末、TiC 粉末、Ti ,Zr ,
Mo ,W ,Ta ,Nb ,Cr の珪化物のうち少なくとも１種の粉
末を所定の割合で配合し十分混合して乾燥し、ホットプ
レスを使用して焼結体を得ることができる。
のセラミックスを製造するには０．１μｍ以下の Y2O3
又は MgOで固溶された ZrO2 粉末、TiC 粉末、Ti ,Zr ,
Mo ,W ,Ta ,Nb ,Cr の珪化物のうち少なくとも１種の粉
末を所定の割合で配合し十分混合して乾燥し、ホットプ
レスを使用して焼結体を得ることができる。
【００１９】又上記の混合粉末に少量のバインダーを添
加してスプレイドライヤーにて造粒し、この造粒物をＣ
ＩＰにより成形し、真空又は非酸化雰囲気中で常圧焼結
や予備焼成ＨＩＰ（Sinter−ＨＩＰ）やカプセルＨＩＰ
（カプセル中に封入）しても同様の効果が得られる。
加してスプレイドライヤーにて造粒し、この造粒物をＣ
ＩＰにより成形し、真空又は非酸化雰囲気中で常圧焼結
や予備焼成ＨＩＰ（Sinter−ＨＩＰ）やカプセルＨＩＰ
（カプセル中に封入）しても同様の効果が得られる。
【００２０】このホットプレスを行う場合の焼結温度は
得られるセラミックスの性能を大きく左右するため１４
００〜１６００℃が好ましく、焼結温度が１４００℃以
下では密度が低く緻密な焼結体は得られず、１６００℃
を超えると正方晶ZrO2の結晶粒の成長が著しくなるので
好ましくない。
得られるセラミックスの性能を大きく左右するため１４
００〜１６００℃が好ましく、焼結温度が１４００℃以
下では密度が低く緻密な焼結体は得られず、１６００℃
を超えると正方晶ZrO2の結晶粒の成長が著しくなるので
好ましくない。
【００２１】
【作用】前述した如く、摺動特性に優れた正方晶 ZrO2
を主相とし、耐摩耗性、導電性付与の TiCを正方晶 ZrO
2 主相中に分散して強度や破壊靭性等の機械加工性を良
好にし、潤滑性や正方晶 ZrO2 の結晶粒の成長を制御
し、高熱伝導率を付与するZr ,Ti ,Mb ,W ,Ta ,Nb ,Cr
の珪化物のうち少なくとも１種を分散したものであっ
て、これらの相互作用によって薄膜磁気ヘッド用基板材
料としての摺動特性、耐摩耗性、機械加工性、潤滑性に
優れた特性を呈するものと考えられる。
を主相とし、耐摩耗性、導電性付与の TiCを正方晶 ZrO
2 主相中に分散して強度や破壊靭性等の機械加工性を良
好にし、潤滑性や正方晶 ZrO2 の結晶粒の成長を制御
し、高熱伝導率を付与するZr ,Ti ,Mb ,W ,Ta ,Nb ,Cr
の珪化物のうち少なくとも１種を分散したものであっ
て、これらの相互作用によって薄膜磁気ヘッド用基板材
料としての摺動特性、耐摩耗性、機械加工性、潤滑性に
優れた特性を呈するものと考えられる。
【００２２】
【実施例】以下本発明を実施例に基づいて説明する。原
料として Y2O3 又は MgOを３〜７％固溶させた ZrO2 粉
末（純度９９％、平均粒径０．０３μｍ）とTiC 粉末
（純度９９％、平均粒径０．１μｍ以下）とZr,Ti ,Nb
,W ,Ta ,Nb ,Crの珪化物のうち１種（純度９９％、平
均粒径０．１μｍ以下）を所定の割合にて配合し、ボー
ルミルにてエタノール溶媒を用い ZrO2 ボール（部分安
定化 ZrO2 ボール）で１０時間混合粉砕した。この混合
粉末をエバポレーターで乾燥し、エタノールを抽出し乾
燥して軽く解砕した。
料として Y2O3 又は MgOを３〜７％固溶させた ZrO2 粉
末（純度９９％、平均粒径０．０３μｍ）とTiC 粉末
（純度９９％、平均粒径０．１μｍ以下）とZr,Ti ,Nb
,W ,Ta ,Nb ,Crの珪化物のうち１種（純度９９％、平
均粒径０．１μｍ以下）を所定の割合にて配合し、ボー
ルミルにてエタノール溶媒を用い ZrO2 ボール（部分安
定化 ZrO2 ボール）で１０時間混合粉砕した。この混合
粉末をエバポレーターで乾燥し、エタノールを抽出し乾
燥して軽く解砕した。
【００２３】この粉末をホットプレスの黒鉛鋳型内に充
填し圧力３５０ｋｇ／ｃｍ2 、温度はそれぞれ１４００
〜１６００℃、Ar雰囲気下で１時間ホットプレスし、６
０ｍｍφ×厚み５ｍｍの焼結体を得た。
填し圧力３５０ｋｇ／ｃｍ2 、温度はそれぞれ１４００
〜１６００℃、Ar雰囲気下で１時間ホットプレスし、６
０ｍｍφ×厚み５ｍｍの焼結体を得た。
【００２４】焼結体の物性として密度はアルキメデス法
により測定し、理論密度を除して相対密度を求め、曲げ
強度は JIS R 1601 「ファインセラミックスの曲げ試験
法」に従って測定した。
により測定し、理論密度を除して相対密度を求め、曲げ
強度は JIS R 1601 「ファインセラミックスの曲げ試験
法」に従って測定した。
【００２５】又破壊靭性はＳＥＰＢ法（ Single Edge P
re-Cracked Beam 法）により測定した。即ち JIS R 160
1 に準拠した試料を用意しビッカース圧子圧入により圧
痕をつけた後、予亀裂を入れるための荷重を加え、イヤ
ホンでポップイン（Ｐｏｐ−ｉｎ）を検知した。続いて
予亀裂長さを測定するために着色を行い、そして曲げ試
験を行って破断荷重を測定した。破断試料の予亀裂長さ
を測定した後、破壊靭性の算出式により破壊靭性を求め
た。
re-Cracked Beam 法）により測定した。即ち JIS R 160
1 に準拠した試料を用意しビッカース圧子圧入により圧
痕をつけた後、予亀裂を入れるための荷重を加え、イヤ
ホンでポップイン（Ｐｏｐ−ｉｎ）を検知した。続いて
予亀裂長さを測定するために着色を行い、そして曲げ試
験を行って破断荷重を測定した。破断試料の予亀裂長さ
を測定した後、破壊靭性の算出式により破壊靭性を求め
た。
【００２６】ビッカース硬度は曲げ試験片の鏡面研磨面
を用い荷重３００ｇにてビッカース硬度計により測定し
た。比抵抗の測定は曲げ試験片を用い、４端子法にて測
定した。
を用い荷重３００ｇにてビッカース硬度計により測定し
た。比抵抗の測定は曲げ試験片を用い、４端子法にて測
定した。
【００２７】上記と同様な方法にて製作した６０ｍｍφ
×厚み５ｍｍの焼結体で磁気ヘッドスライダーとしての
評価試験を行った。
×厚み５ｍｍの焼結体で磁気ヘッドスライダーとしての
評価試験を行った。
【００２８】得られた焼結体を鏡面研磨してダイヤモン
ド切断砥石で切断し、角部の微細なチッピングを顕微鏡
にて観察することにより行った。このチッピング試験は
幅０．２８ｍｍ及び直径５２ｍｍのレジノイド砥石（３
０μｍのダイヤ砥粒を有するカッター）を用い、切込み
０．３ｍｍ，送り量５ｍｍ／ｓｅｃで実施した。チッピ
ング深さが２μｍを超えない場合実質的にスライダー品
質に影響を及ぼさず満足すべき品質を維持するもので、
これを○で示し、２μｍを超える場合は△及び著しいチ
ッピングの場合は×として示した。
ド切断砥石で切断し、角部の微細なチッピングを顕微鏡
にて観察することにより行った。このチッピング試験は
幅０．２８ｍｍ及び直径５２ｍｍのレジノイド砥石（３
０μｍのダイヤ砥粒を有するカッター）を用い、切込み
０．３ｍｍ，送り量５ｍｍ／ｓｅｃで実施した。チッピ
ング深さが２μｍを超えない場合実質的にスライダー品
質に影響を及ぼさず満足すべき品質を維持するもので、
これを○で示し、２μｍを超える場合は△及び著しいチ
ッピングの場合は×として示した。
【００２９】又摺動性及び耐摩耗性は焼結体から実際の
薄膜磁気ヘッド形状に切り出し、磁気ディスクと接触さ
せてディスクを回転させるＣＳＳ試験により特性を評価
した。
薄膜磁気ヘッド形状に切り出し、磁気ディスクと接触さ
せてディスクを回転させるＣＳＳ試験により特性を評価
した。
【００３０】摺動性はディスクとヘッドのＣＳＳ試験に
より摩擦係数を求め、摩擦係数が０．５より小さいもの
を○で示し、摩擦係数が０．５より大きいものは△及び
著しく大きい場合は×として示した。耐摩耗性はＣＳＳ
試験を１００００回繰返し、磁気ヘッドスライダーの摺
動面の傷の有無について評価した。
より摩擦係数を求め、摩擦係数が０．５より小さいもの
を○で示し、摩擦係数が０．５より大きいものは△及び
著しく大きい場合は×として示した。耐摩耗性はＣＳＳ
試験を１００００回繰返し、磁気ヘッドスライダーの摺
動面の傷の有無について評価した。
【００３１】比較例として Al2O3−TiC ３０％基板と Y
2O3 ５．２ｗｔ％で部分安定化されたZrO2−TiC ３０％
基板を用いて比較した。それぞれの結果を表１、表２に
示した。
2O3 ５．２ｗｔ％で部分安定化されたZrO2−TiC ３０％
基板を用いて比較した。それぞれの結果を表１、表２に
示した。
【００３２】表１、表２の結果から示されるように本発
明は高密度で比抵抗が小さく、硬度、曲げ強度も高く、
特に破壊靭性は Al2O3−３０％TiC 基板に比べると２〜
３倍、ZrO2（ Y2O3 ５．２％部分安定化）−３０％ TiC
基板と比べて約１．４倍程度向上している。曲げ強度は
磁気ヘッドスライダーとして問題のない強度を示してい
る。
明は高密度で比抵抗が小さく、硬度、曲げ強度も高く、
特に破壊靭性は Al2O3−３０％TiC 基板に比べると２〜
３倍、ZrO2（ Y2O3 ５．２％部分安定化）−３０％ TiC
基板と比べて約１．４倍程度向上している。曲げ強度は
磁気ヘッドスライダーとして問題のない強度を示してい
る。
【００３３】磁気ヘッドスライダーとしての評価では鏡
面研磨した場合の気孔はほとんど観察できず、耐チッピ
ング性、耐摩耗性、摺動特性は比較例と比べて優れてお
り、スライダーとして最適なものである。
面研磨した場合の気孔はほとんど観察できず、耐チッピ
ング性、耐摩耗性、摺動特性は比較例と比べて優れてお
り、スライダーとして最適なものである。
【００３４】
【表１】
【００３５】
【表２】
【００３６】
【発明の効果】本発明の磁気ヘッドスライダー（基板）
材料は摺動特性に優れた高強度高靭性の正方晶ZrO2を主
構成相とし、これに耐摩耗性、導電性付与のためのTiC
を正方晶ZrO2相中に分散し、潤滑性の優れたTi、 Zr、 M
o、 W、 Nb、 Ta、 Cr の珪化物のうち１種以上を添加して
均一に分散されたものであり、摺動特性、潤滑性、耐摩
耗性、機械加工性に優れ、且つ比抵抗が小さく摩擦帯電
性が小さく、高熱伝導率の優れた技術的長所を有するも
のである。
材料は摺動特性に優れた高強度高靭性の正方晶ZrO2を主
構成相とし、これに耐摩耗性、導電性付与のためのTiC
を正方晶ZrO2相中に分散し、潤滑性の優れたTi、 Zr、 M
o、 W、 Nb、 Ta、 Cr の珪化物のうち１種以上を添加して
均一に分散されたものであり、摺動特性、潤滑性、耐摩
耗性、機械加工性に優れ、且つ比抵抗が小さく摩擦帯電
性が小さく、高熱伝導率の優れた技術的長所を有するも
のである。
Claims (2)
- 【請求項１】Y2O3又は MgOを３〜７重量％含む正方晶 Z
rO2 を主成分とし、TiC を１５〜４０重量％含み、かつ
Ti ,Zr ,Mo ,W ,Ta ,Nb ,Crの珪化物のうち少なくとも
１種を５〜２０重量％含んでなることを特徴とする磁気
ヘッド用基板材料。 - 【請求項２】請求項１において正方晶 ZrO2 の平均結晶
粒径が２μｍ以下である磁気ヘッド用基板材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3297888A JPH05109024A (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | 磁気ヘツド用基板材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3297888A JPH05109024A (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | 磁気ヘツド用基板材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05109024A true JPH05109024A (ja) | 1993-04-30 |
Family
ID=17852411
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3297888A Withdrawn JPH05109024A (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | 磁気ヘツド用基板材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05109024A (ja) |
-
1991
- 1991-10-18 JP JP3297888A patent/JPH05109024A/ja not_active Withdrawn
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4814915A (en) | Magnetic head slider and material therefor | |
| JPH0622053B2 (ja) | 基板材料 | |
| JP3933523B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド用セラミックス基板材料 | |
| US4859638A (en) | Magnetic head sliders, materials therefor, and the process for the production thereof | |
| JPWO2007105477A1 (ja) | 磁気ヘッド用基板、磁気ヘッドおよび記録媒体駆動装置 | |
| JPH05109023A (ja) | 磁気ヘツド用基板 | |
| US5432016A (en) | Magnetic head slider material | |
| JPH05109024A (ja) | 磁気ヘツド用基板材料 | |
| JPH05246763A (ja) | セラミックス焼結体 | |
| JPH05254938A (ja) | セラミックス焼結体 | |
| JPH05120637A (ja) | 磁気ヘツド用基板 | |
| JPH05120635A (ja) | 磁気ヘツド用基板材料 | |
| JPH05120636A (ja) | 磁気ヘツド用基板 | |
| JPH05105510A (ja) | セラミツク材料 | |
| JPH0120523B2 (ja) | ||
| JPH05105505A (ja) | セラミツクス材料 | |
| JPS63134562A (ja) | 磁気ヘツドスライダ用材料 | |
| JP2523908B2 (ja) | 磁気ディスク装置及び薄膜磁気ヘッド並びに薄膜磁気ヘッド作製用ウエハ | |
| JPH05213674A (ja) | セラミックス材料 | |
| JPH05250638A (ja) | 薄膜磁気ヘッド用セラミックス焼結体 | |
| JPH0121112B2 (ja) | ||
| JPS6359984B2 (ja) | ||
| JPH05258241A (ja) | 薄膜磁気ヘッド用セラミックス焼結体 | |
| JP2581935B2 (ja) | セラミック焼結体 | |
| JPS6323641B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990107 |