JPH05121293A - ウエハ露光装置 - Google Patents
ウエハ露光装置Info
- Publication number
- JPH05121293A JPH05121293A JP3305335A JP30533591A JPH05121293A JP H05121293 A JPH05121293 A JP H05121293A JP 3305335 A JP3305335 A JP 3305335A JP 30533591 A JP30533591 A JP 30533591A JP H05121293 A JPH05121293 A JP H05121293A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle frame
- pellicle
- reticle
- wafer
- exposure apparatus
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
- G03F7/70916—Pollution mitigation, i.e. mitigating effect of contamination or debris, e.g. foil traps
Landscapes
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 パーティクルの付着による不良発生を防止
し、歩留まりを良くする。 【構成】 ペリクルフレーム２をレチクル１上に固定さ
れた第１のペリクルフレーム２Ａと回転可能な第２のペ
リクルフレーム２Ｂとで２重の構造に形成し、この第２
のペリクルフレーム２Ｂ上にペリクル膜９を一体回転可
能に設ける。そして、この第２のペリクルフレーム２Ｂ
を把握部材１０で回転可能に拘束し、第２のペリクルフ
レーム２Ｂを回転駆動手段で回転させながら露光を行う
ようにした。
し、歩留まりを良くする。 【構成】 ペリクルフレーム２をレチクル１上に固定さ
れた第１のペリクルフレーム２Ａと回転可能な第２のペ
リクルフレーム２Ｂとで２重の構造に形成し、この第２
のペリクルフレーム２Ｂ上にペリクル膜９を一体回転可
能に設ける。そして、この第２のペリクルフレーム２Ｂ
を把握部材１０で回転可能に拘束し、第２のペリクルフ
レーム２Ｂを回転駆動手段で回転させながら露光を行う
ようにした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＬＳＩ等の半導体製造
におけるウエハ露光装置に関するものである。
におけるウエハ露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、ＬＳＩ等の半導体製造において
マスクに描かれている微細な回路パターンをウエハ上の
所定の位置に焼き付ける露光処理には、縮小投影露光機
や等倍投影露光機等を用いて複数回の露光で処理するス
テップ式投影露光装置（通称「ステッパ」と言う）や等
倍の一括露光機等を用いる反射式プロジェクションアラ
イナ等で行われ、露光時にはレチクルまたはマスタマス
クが用いられている。
マスクに描かれている微細な回路パターンをウエハ上の
所定の位置に焼き付ける露光処理には、縮小投影露光機
や等倍投影露光機等を用いて複数回の露光で処理するス
テップ式投影露光装置（通称「ステッパ」と言う）や等
倍の一括露光機等を用いる反射式プロジェクションアラ
イナ等で行われ、露光時にはレチクルまたはマスタマス
クが用いられている。
【０００３】図６は、従来のウエハ露光装置（ステッ
パ）の全体構成配置図を示すもので、ウエハ５１を載せ
るＸ−Ｙステージ５２と、自動焦点機構５３，レーザ測
長計５４，縮小レンズ５５，レチクル５６，パターン検
出器５７，光源５８，ウエハハンドリング系５９等で構
成されている。また、レチクル５６は、レチクルホルダ
５０上に配設されている。さらに、このレチクル５６に
は、図４および図５に示すように、パーティクルの付着
を防ぐ目的でペリクルフレーム６０，６０およびペリク
ル膜６１，６１が取り付けられ、このレチクル５６の下
面にウエハ５１上に投影されるＩＣパターン６２（図４
参照）を形成している。
パ）の全体構成配置図を示すもので、ウエハ５１を載せ
るＸ−Ｙステージ５２と、自動焦点機構５３，レーザ測
長計５４，縮小レンズ５５，レチクル５６，パターン検
出器５７，光源５８，ウエハハンドリング系５９等で構
成されている。また、レチクル５６は、レチクルホルダ
５０上に配設されている。さらに、このレチクル５６に
は、図４および図５に示すように、パーティクルの付着
を防ぐ目的でペリクルフレーム６０，６０およびペリク
ル膜６１，６１が取り付けられ、このレチクル５６の下
面にウエハ５１上に投影されるＩＣパターン６２（図４
参照）を形成している。
【０００４】そして、このステッパでは、レチクル５６
におけるＩＣパターン６２を縮小レンズ５５を通して縮
小して原寸パターン寸法に戻し、これを投影してウエハ
５１上に回路パターンを形成するもので、１回の露光が
完了すると、ウエハ５１をＸ−Ｙステージ５２でワンピ
ッチ移動して露光を繰り返すようになっている。
におけるＩＣパターン６２を縮小レンズ５５を通して縮
小して原寸パターン寸法に戻し、これを投影してウエハ
５１上に回路パターンを形成するもので、１回の露光が
完了すると、ウエハ５１をＸ−Ｙステージ５２でワンピ
ッチ移動して露光を繰り返すようになっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
の露光装置では、ステッパ上のレチクル５６上にパーテ
ィクルが付着するのを防ぐのにペリクルフレーム６０お
よびペリクル膜６１を用いている。これは、露光にマス
タマスクを用いている場合も同様であるが、レチクル５
６（またはマスタマスク）を露光機にセットする時、若
しくは露光中に、ウエハ５１に解像するレベルのパーテ
ィクルがペリクル膜６１に付着した場合は、これがウエ
ハ５１上に転写されて不良となり、歩留まりが悪いと言
う問題点があった。
の露光装置では、ステッパ上のレチクル５６上にパーテ
ィクルが付着するのを防ぐのにペリクルフレーム６０お
よびペリクル膜６１を用いている。これは、露光にマス
タマスクを用いている場合も同様であるが、レチクル５
６（またはマスタマスク）を露光機にセットする時、若
しくは露光中に、ウエハ５１に解像するレベルのパーテ
ィクルがペリクル膜６１に付着した場合は、これがウエ
ハ５１上に転写されて不良となり、歩留まりが悪いと言
う問題点があった。
【０００６】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
のであり、その目的はパーティクルが付着することによ
る不良発生を防止し、歩留まりを改善したウエハ露光装
置を提供することにある。
のであり、その目的はパーティクルが付着することによ
る不良発生を防止し、歩留まりを改善したウエハ露光装
置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係るウエハ露光装置には、レチクル上に固
定された第１のペリクルフレームと回転可能な第２のペ
リクルフレームとで２重の構造に形成され、かつ前記第
２のペリクルフレーム上にペリクル膜を一体回転可能に
配設してなるペリクルフレームと、前記第２のペリクル
フレームを回転可能に拘束するための把握部材と、前記
第２のペリクルフレームを回転させる回転駆動手段とを
設けたものである。
め、本発明に係るウエハ露光装置には、レチクル上に固
定された第１のペリクルフレームと回転可能な第２のペ
リクルフレームとで２重の構造に形成され、かつ前記第
２のペリクルフレーム上にペリクル膜を一体回転可能に
配設してなるペリクルフレームと、前記第２のペリクル
フレームを回転可能に拘束するための把握部材と、前記
第２のペリクルフレームを回転させる回転駆動手段とを
設けたものである。
【０００８】
【作用】これによれば、ペリクルフレームを第１と第２
の２つのペリクルフレームに分割するとともに、ペリク
ル膜が配設された第２のペリクルフレームが回転するよ
うにしているので、ペリクル膜にパーティクルが付着す
ると、露光時、付着したパーティクルは回転方向に向か
って移動するので、このパーティクルには露光量が十分
に得られなくなり、ウエハ上に欠陥として転写されるこ
とがなくなる。
の２つのペリクルフレームに分割するとともに、ペリク
ル膜が配設された第２のペリクルフレームが回転するよ
うにしているので、ペリクル膜にパーティクルが付着す
ると、露光時、付着したパーティクルは回転方向に向か
って移動するので、このパーティクルには露光量が十分
に得られなくなり、ウエハ上に欠陥として転写されるこ
とがなくなる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を用いて
詳細に説明する。図３は、本発明に係るウエハ露光装置
の一実施例を示す全体構成配置図である。図３におい
て、図６と同一符号を付したものは図６と同一のものを
示している。そして、本発明に係るウエハ露光装置と図
６に示した従来のウエハ露光装置と大きく異なる点は、
レチクルおよびレチクルホルダの部分にあるもので、そ
の他の部分の構成は同一構造で構成しても差し支えない
ものである。
詳細に説明する。図３は、本発明に係るウエハ露光装置
の一実施例を示す全体構成配置図である。図３におい
て、図６と同一符号を付したものは図６と同一のものを
示している。そして、本発明に係るウエハ露光装置と図
６に示した従来のウエハ露光装置と大きく異なる点は、
レチクルおよびレチクルホルダの部分にあるもので、そ
の他の部分の構成は同一構造で構成しても差し支えない
ものである。
【００１０】図１はレチクル周辺部分の要部構成を示す
もので、同周辺部の上面を表す図２のＡ−Ａ線に沿う縦
断面図である。又図３はウエハ露光装置の全体構成配置
図である。図１および図２において、通常レチクル１の
上，下部には、ペリクルフレーム２，２が夫々配設され
ている。上部に設けられたペリクルフレーム２は、第１
のペリクルフレーム２Ａと、第２のペリクルフレーム２
Ｂとで構成されている。このうち、第１のペリクルフレ
ーム２Ａは、略円筒状に形成されていて、一端はレチク
ル１上に接着剤等で固定して取り付けられている。ま
た、第１のペリクルフレーム２Ａの周面には小径部４と
環状溝５とが形成されているとともに、下端部分には窒
素ガス（Ｎ2 ）が供給されて来るパイプ６が貫通して取
り付けられている。これに対して、第２のペリクルフレ
ーム２Ｂは、第１のペリクルフレーム２Ａの小径部４の
外周部分を覆って配設されるようにして略円筒状に形成
されており、内面には第１のペリクルフレーム２Ａの環
状溝５内に摺動自在に係合される内側鍔部７が一体に形
成され、外面には外側へ突出された外側鍔部８が一体に
形成されている。そして、この第２のペリクルフレーム
２Ｂは、内側鍔部７を環状溝５内に係合させた状態で、
第１のペリクルフレーム２Ａの外側に回転自在に取り付
けられている。また、この回転自在に取り付けられた状
態では、第１のペリクルフレーム２Ａと第２のペリクル
フレーム２Ｂとの間に、窒素ガスＮ2 を逃がすための隙
間Ｘが形成されている。加えて、第２のペリクルフレー
ム２Ｂには、この上端を封印するようにして、ペリクル
膜９が取り付けられる。又下部のペリクルフレーム２に
も前記同様ペリクル膜９が取り付けられるとともにウエ
ハ５１（図３参照）上に投影されるＩＣパターン２０が
形成されている。
もので、同周辺部の上面を表す図２のＡ−Ａ線に沿う縦
断面図である。又図３はウエハ露光装置の全体構成配置
図である。図１および図２において、通常レチクル１の
上，下部には、ペリクルフレーム２，２が夫々配設され
ている。上部に設けられたペリクルフレーム２は、第１
のペリクルフレーム２Ａと、第２のペリクルフレーム２
Ｂとで構成されている。このうち、第１のペリクルフレ
ーム２Ａは、略円筒状に形成されていて、一端はレチク
ル１上に接着剤等で固定して取り付けられている。ま
た、第１のペリクルフレーム２Ａの周面には小径部４と
環状溝５とが形成されているとともに、下端部分には窒
素ガス（Ｎ2 ）が供給されて来るパイプ６が貫通して取
り付けられている。これに対して、第２のペリクルフレ
ーム２Ｂは、第１のペリクルフレーム２Ａの小径部４の
外周部分を覆って配設されるようにして略円筒状に形成
されており、内面には第１のペリクルフレーム２Ａの環
状溝５内に摺動自在に係合される内側鍔部７が一体に形
成され、外面には外側へ突出された外側鍔部８が一体に
形成されている。そして、この第２のペリクルフレーム
２Ｂは、内側鍔部７を環状溝５内に係合させた状態で、
第１のペリクルフレーム２Ａの外側に回転自在に取り付
けられている。また、この回転自在に取り付けられた状
態では、第１のペリクルフレーム２Ａと第２のペリクル
フレーム２Ｂとの間に、窒素ガスＮ2 を逃がすための隙
間Ｘが形成されている。加えて、第２のペリクルフレー
ム２Ｂには、この上端を封印するようにして、ペリクル
膜９が取り付けられる。又下部のペリクルフレーム２に
も前記同様ペリクル膜９が取り付けられるとともにウエ
ハ５１（図３参照）上に投影されるＩＣパターン２０が
形成されている。
【００１１】一方、ペリクルフレーム２の外側には、こ
のペリクルフレーム２を挟んで保持するための把握部材
１０が配設されている。この把握部材１０は、第１の部
材１０Ａと第２の部材１０Ｂとでなり、各中間部分を支
軸１１（図２参照）で連結することによってハサミ状に
形成されている。そして、各部材１０Ａ，１０Ｂの先端
部分はペリクルフレーム２の外径寸法に略等しい内径寸
法をした曲面で形成されているとともに、内面には第２
のペリクルフレーム２Ｂの外側鍔部８が挿入される溝２
２が形成されている。加えて、各部材１０Ａ，１０Ｂ内
にはそれぞれ複数のローラ（本実施例では各部材１０
Ａ，１０Ｂに３つづつ）１２が略等間隔で、かつ立設さ
れた状態で配設されており、この各ローラ１２の外面が
溝２２内に表出されていて、第１の部材１０Ａと第２の
部材１０Ｂとでペリクルフレーム２を挟んだ時に、溝２
２内に配設された外側鍔部８の外周面と当接可能になっ
ている。また、各ローラ１２の内の１つのローラ(12)の
回転軸１３は、第１の部材１０Ａの上面より突出し、こ
の突出した部分にプーリ１４が一体回転可能に取り付け
られている。そして、このプーリ１４には、露光装置の
ベース１５に固定されているモータ１６の出力プーリ１
７と動力連結するための無端ベルト１８が取り付けられ
ている。そして、モータ１６が回転すると、この回転が
出力プーリ１７，無端ベルト１８，プーリ１４，回転軸
１３を介してローラ(12)に伝達され、ローラ(12)を回転
させることができ、このローラ(12)の回転で第２のペリ
クルフレーム２Ｂの回転を行わせるもので、これらで回
転駆動手段を構成している。
のペリクルフレーム２を挟んで保持するための把握部材
１０が配設されている。この把握部材１０は、第１の部
材１０Ａと第２の部材１０Ｂとでなり、各中間部分を支
軸１１（図２参照）で連結することによってハサミ状に
形成されている。そして、各部材１０Ａ，１０Ｂの先端
部分はペリクルフレーム２の外径寸法に略等しい内径寸
法をした曲面で形成されているとともに、内面には第２
のペリクルフレーム２Ｂの外側鍔部８が挿入される溝２
２が形成されている。加えて、各部材１０Ａ，１０Ｂ内
にはそれぞれ複数のローラ（本実施例では各部材１０
Ａ，１０Ｂに３つづつ）１２が略等間隔で、かつ立設さ
れた状態で配設されており、この各ローラ１２の外面が
溝２２内に表出されていて、第１の部材１０Ａと第２の
部材１０Ｂとでペリクルフレーム２を挟んだ時に、溝２
２内に配設された外側鍔部８の外周面と当接可能になっ
ている。また、各ローラ１２の内の１つのローラ(12)の
回転軸１３は、第１の部材１０Ａの上面より突出し、こ
の突出した部分にプーリ１４が一体回転可能に取り付け
られている。そして、このプーリ１４には、露光装置の
ベース１５に固定されているモータ１６の出力プーリ１
７と動力連結するための無端ベルト１８が取り付けられ
ている。そして、モータ１６が回転すると、この回転が
出力プーリ１７，無端ベルト１８，プーリ１４，回転軸
１３を介してローラ(12)に伝達され、ローラ(12)を回転
させることができ、このローラ(12)の回転で第２のペリ
クルフレーム２Ｂの回転を行わせるもので、これらで回
転駆動手段を構成している。
【００１２】次に、このように構成された露光装置の動
作を説明する。まず、把握部材１０の第１の部材１０Ａ
と第２の部材１０Ｂを矢印Ｃ方向（図２参照）に回転さ
せて先端側を大きく開いた状態にして露光装置のレチク
ルホルダ２０（図３参照）上にレチクル１をセットす
る。次いで、第１の部材１０Ａと第２の部材１０Ｂを矢
印Ｃ方向と逆の方向に回転させて把握部材１０を閉じ
る。すると、溝２２内に外側鍔部８が係合され、かつ外
側鍔部８の外周面がローラ１２に当接された状態でペリ
クルフレーム２が拘束される。次に、パイプ６を通して
ペリクルフレーム２内に窒素ガスを微量流入させる。同
時に、モータ１６を回転させると、この回転でプーリ１
７，無端ベルト１８，プーリ１４を介してローラ(12)が
回転する。すると、回転駆動手段の最終段におけるロー
ラ(12)と接している第２のペリクルフレーム２Ｂも回転
を開始する。これにより、第２のペリクルフレーム２Ｂ
上のペリクル膜９も回転する。このとき、ペリクル膜９
上にパーティクル１９（図１参照）が付着していた場合
には、このパーティクル１９も回転する。ここでの第１
のペリクルフレーム２Ｂの回転数は毎分６０回転前後で
あるが、これ以外の回転数でも勿論差し支えないもので
ある。また、このときペリクルフレーム２内に微量流入
されている窒素ガスＮ2 が、第１のペリクルフレーム２
Ａと第２のペリクルフレーム２Ｂとの間の隙間より流出
し、この窒素ガスでパーティクル１９がペリクル膜９の
内側に侵入するのを防止する。図１中の矢印は、その窒
素ガスの流れを示しているものである。次に露光を開始
する。すると、第２のペリクルフレーム２Ｂは回転して
いるのでペリクル膜９上に付着したパーティクル１９も
回転方向に向かって移動することになり、露光量が十分
に得られなくなる。これにより、パーティクル１９がウ
エハ５１に欠陥として転写されることがなくなり、パー
ティクル付着によるＩＣパターンの形状異常が防げる。
なお、上記実施例では、レチクルの場合に付いて説明し
たが、マスタマスクの場合であっても同じであるのは勿
論のことである。
作を説明する。まず、把握部材１０の第１の部材１０Ａ
と第２の部材１０Ｂを矢印Ｃ方向（図２参照）に回転さ
せて先端側を大きく開いた状態にして露光装置のレチク
ルホルダ２０（図３参照）上にレチクル１をセットす
る。次いで、第１の部材１０Ａと第２の部材１０Ｂを矢
印Ｃ方向と逆の方向に回転させて把握部材１０を閉じ
る。すると、溝２２内に外側鍔部８が係合され、かつ外
側鍔部８の外周面がローラ１２に当接された状態でペリ
クルフレーム２が拘束される。次に、パイプ６を通して
ペリクルフレーム２内に窒素ガスを微量流入させる。同
時に、モータ１６を回転させると、この回転でプーリ１
７，無端ベルト１８，プーリ１４を介してローラ(12)が
回転する。すると、回転駆動手段の最終段におけるロー
ラ(12)と接している第２のペリクルフレーム２Ｂも回転
を開始する。これにより、第２のペリクルフレーム２Ｂ
上のペリクル膜９も回転する。このとき、ペリクル膜９
上にパーティクル１９（図１参照）が付着していた場合
には、このパーティクル１９も回転する。ここでの第１
のペリクルフレーム２Ｂの回転数は毎分６０回転前後で
あるが、これ以外の回転数でも勿論差し支えないもので
ある。また、このときペリクルフレーム２内に微量流入
されている窒素ガスＮ2 が、第１のペリクルフレーム２
Ａと第２のペリクルフレーム２Ｂとの間の隙間より流出
し、この窒素ガスでパーティクル１９がペリクル膜９の
内側に侵入するのを防止する。図１中の矢印は、その窒
素ガスの流れを示しているものである。次に露光を開始
する。すると、第２のペリクルフレーム２Ｂは回転して
いるのでペリクル膜９上に付着したパーティクル１９も
回転方向に向かって移動することになり、露光量が十分
に得られなくなる。これにより、パーティクル１９がウ
エハ５１に欠陥として転写されることがなくなり、パー
ティクル付着によるＩＣパターンの形状異常が防げる。
なお、上記実施例では、レチクルの場合に付いて説明し
たが、マスタマスクの場合であっても同じであるのは勿
論のことである。
【００１３】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明に係るウエ
ハの露光装置によれば、ペリクルフレームを第１と第２
の２つのペリクルフレームに分割するとともに、ペリク
ル膜が配設された第２のペリクルフレームが回転するよ
うにしているので、ペリクル膜にパーティクルが付着す
ると、露光時、付着したパーティクルは回転方向に向か
って移動するので、このパーティクルには露光量が十分
に得られなくなり、ウエハ上に欠陥として転写されるこ
とがなくなる。これにより、ペリクル膜上に付着したパ
ーティクルがウエハ上に転写されて異常が生ずるのを確
実に防ぐことができ、歩留まりが良くなる効果等が期待
できる。
ハの露光装置によれば、ペリクルフレームを第１と第２
の２つのペリクルフレームに分割するとともに、ペリク
ル膜が配設された第２のペリクルフレームが回転するよ
うにしているので、ペリクル膜にパーティクルが付着す
ると、露光時、付着したパーティクルは回転方向に向か
って移動するので、このパーティクルには露光量が十分
に得られなくなり、ウエハ上に欠陥として転写されるこ
とがなくなる。これにより、ペリクル膜上に付着したパ
ーティクルがウエハ上に転写されて異常が生ずるのを確
実に防ぐことができ、歩留まりが良くなる効果等が期待
できる。
【図１】本発明に係るウエハ露光装置のレチクル周辺部
分の構成を示すもので、図２のＡ−Ａ線に沿う縦断面図
である。
分の構成を示すもので、図２のＡ−Ａ線に沿う縦断面図
である。
【図２】本発明に係るウエハ露光装置のレチクル周辺部
分の要部構成を示す上面図である。
分の要部構成を示す上面図である。
【図３】本発明に係るウエハ露光装置の一実施例を示す
全体構成配置図である。
全体構成配置図である。
【図４】従来のウエハ露光装置におけるステッパの概略
上面図である。
上面図である。
【図５】図４に示した同上ステッパの側面図である。
【図６】従来におけるウエハ露光装置の一例を示す全体
構成配置図である。
構成配置図である。
【符号の説明】 １ レチクル ２ ペリクルフ
レーム ２Ａ 第１のペリクルフレーム ２Ｂ 第２のペ
リクルフレーム ９ ペリクル膜 １０ 把握部材 １６ モータ
レーム ２Ａ 第１のペリクルフレーム ２Ｂ 第２のペ
リクルフレーム ９ ペリクル膜 １０ 把握部材 １６ モータ
Claims (1)
- 【請求項１】 レチクル上に固定された第１のペリクル
フレームと回転可能な第２のペリクルフレームとで２重
の構造に形成され、かつ前記第２のペリクルフレーム上
にペリクル膜を一体回転可能に配設してなるペリクルフ
レームと、 前記第２のペリクルフレームを回転可能に拘束するため
の把握部材と、 前記第２のペリクルフレームを回転させる回転駆動手段
とを備えてなることを特徴とするウエハ露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3305335A JPH05121293A (ja) | 1991-10-24 | 1991-10-24 | ウエハ露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3305335A JPH05121293A (ja) | 1991-10-24 | 1991-10-24 | ウエハ露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05121293A true JPH05121293A (ja) | 1993-05-18 |
Family
ID=17943879
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3305335A Pending JPH05121293A (ja) | 1991-10-24 | 1991-10-24 | ウエハ露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05121293A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1486816A1 (en) * | 2003-06-11 | 2004-12-15 | Agfa Corporation | Method and apparatus for reducing contamination in a grating light valve imaging system. |
| US9575421B2 (en) | 2014-09-04 | 2017-02-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Apparatus for protecting extreme ultra violet mask and extreme ultra violet exposure apparatus including the same |
-
1991
- 1991-10-24 JP JP3305335A patent/JPH05121293A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1486816A1 (en) * | 2003-06-11 | 2004-12-15 | Agfa Corporation | Method and apparatus for reducing contamination in a grating light valve imaging system. |
| US9575421B2 (en) | 2014-09-04 | 2017-02-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Apparatus for protecting extreme ultra violet mask and extreme ultra violet exposure apparatus including the same |
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