JPH05128445A - 薄膜磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドの製造方法Info
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- Electromagnetism (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 薄膜磁気ヘッドの所望ギャップ高さ又は磁極
高さを正確に形成する。 【構成】 薄膜磁気ヘッドを順次の層を以って構成し、
テープ接触面を形成するために、このテープ接触面のテ
ープ接触面部分31に相当する基準平面29を前記のテープ
接触面部分31に対し交差する方向に延在する層状で並置
された複数のマーカ27A〜27Jにより検出し、これらマー
カは同一の一方向に向いた第１端部27A1〜27J1と、この
方向とは逆の方向に向き空間的に分離された第２端部27
A2〜27J2を有しており、互いに隣接する第２端部27A2〜
27J2が前記の基準平面から異なる距離で位置しており、
前記のテープ接触面を材料の除去により形成する薄膜磁
気ヘッドの製造方法において、前記の第２端部27A2〜27J
2が前記の基準平面29に対し傾斜しているとともに並置
された第２端部が互いに段差が付かないで隣接するよう
に前記のマーカ27A〜27Jを形成する。
高さを正確に形成する。 【構成】 薄膜磁気ヘッドを順次の層を以って構成し、
テープ接触面を形成するために、このテープ接触面のテ
ープ接触面部分31に相当する基準平面29を前記のテープ
接触面部分31に対し交差する方向に延在する層状で並置
された複数のマーカ27A〜27Jにより検出し、これらマー
カは同一の一方向に向いた第１端部27A1〜27J1と、この
方向とは逆の方向に向き空間的に分離された第２端部27
A2〜27J2を有しており、互いに隣接する第２端部27A2〜
27J2が前記の基準平面から異なる距離で位置しており、
前記のテープ接触面を材料の除去により形成する薄膜磁
気ヘッドの製造方法において、前記の第２端部27A2〜27J
2が前記の基準平面29に対し傾斜しているとともに並置
された第２端部が互いに段差が付かないで隣接するよう
に前記のマーカ27A〜27Jを形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、少なくとも１つの変換
素子を有する薄膜磁気ヘッドを製造する方法であって、 −薄膜磁気ヘッドを順次の層を以って構成し、 −テープ接触面を形成するために、このテープ接触面の
テープ接触面部分に相当する基準平面を前記のテープ接
触面部分に対し交差する方向に延在する層状で並置され
た複数のマーカにより検出し、これらマーカは同一の一
方向に向いた第１端部と、この方向とは逆の方向に向き
空間的に分離された第２端部とを有しており互いに隣接
する第２端部が前記の基準平面から異なる距離で位置し
ており、 −前記のテープ接触面を材料の除去により形成する 薄膜磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
素子を有する薄膜磁気ヘッドを製造する方法であって、 −薄膜磁気ヘッドを順次の層を以って構成し、 −テープ接触面を形成するために、このテープ接触面の
テープ接触面部分に相当する基準平面を前記のテープ接
触面部分に対し交差する方向に延在する層状で並置され
た複数のマーカにより検出し、これらマーカは同一の一
方向に向いた第１端部と、この方向とは逆の方向に向き
空間的に分離された第２端部とを有しており互いに隣接
する第２端部が前記の基準平面から異なる距離で位置し
ており、 −前記のテープ接触面を材料の除去により形成する 薄膜磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】このような方法は特開昭５６−２９８３
２号公報の明細書に記載されており既知である。この既
知の方法では、規定の基準平面を交差するくし状パター
ンが薄膜技術により磁気ヨークの両側に設けられてい
る。各くし状パターンは複数の互いに異なる長さの外方
に突出する歯を有している。これらの薄膜は外方に突出
するスタッガー配置の端部で終端している。磁気テープ
と共働する接触面は研摩処理により形成されるもので、
この研摩中歯が見えてくる数が増大する。基準平面は見
うる歯の数を計数することにより決定され、その決定後
研摩処理が終了される。この既知の方法の場合、基準平
面を検出しうる精度が前記の端部間の段寸法に依存する
為、基準平面の検出が比較的粗くなり、ギャップの高さ
又は磁極の高さを正確に再現しえないという欠点があ
る。
２号公報の明細書に記載されており既知である。この既
知の方法では、規定の基準平面を交差するくし状パター
ンが薄膜技術により磁気ヨークの両側に設けられてい
る。各くし状パターンは複数の互いに異なる長さの外方
に突出する歯を有している。これらの薄膜は外方に突出
するスタッガー配置の端部で終端している。磁気テープ
と共働する接触面は研摩処理により形成されるもので、
この研摩中歯が見えてくる数が増大する。基準平面は見
うる歯の数を計数することにより決定され、その決定後
研摩処理が終了される。この既知の方法の場合、基準平
面を検出しうる精度が前記の端部間の段寸法に依存する
為、基準平面の検出が比較的粗くなり、ギャップの高さ
又は磁極の高さを正確に再現しえないという欠点があ
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、所望
のギャップ高さ又は磁極高さを正確に形成しうる方法を
提供せんとするにある。
のギャップ高さ又は磁極高さを正確に形成しうる方法を
提供せんとするにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明方法においては、
前記の第２端部が前記の基準平面に対し傾斜していると
ともに並置された第２端部が互いに段差が付かないで隣
接するように前記のマーカを形成することを特徴とす
る。
前記の第２端部が前記の基準平面に対し傾斜していると
ともに並置された第２端部が互いに段差が付かないで隣
接するように前記のマーカを形成することを特徴とす
る。
【０００５】本発明方法によれば、基準平面に対し斜め
に配置された第２端部が互いに段差がないように隣接し
ている為、テープ接触面を形成するために材料を除去す
る際に基準平面への接近を正確にたどり基準平面を正確
に検出することができ、従って、基準平面に関連するテ
ープ接触面部分を極めて正確に形成しうる。
に配置された第２端部が互いに段差がないように隣接し
ている為、テープ接触面を形成するために材料を除去す
る際に基準平面への接近を正確にたどり基準平面を正確
に検出することができ、従って、基準平面に関連するテ
ープ接触面部分を極めて正確に形成しうる。
【０００６】本発明による方法の例では、前記の第１端
部が互いに段差があるように配置され且つ材料の除去中
第１端部に最初に到達するように前記のマーカを形成す
る。
部が互いに段差があるように配置され且つ材料の除去中
第１端部に最初に到達するように前記のマーカを形成す
る。
【０００７】このようにすることにより、基準平面から
比較的遠く離れた距離においてさえも充分な精度で基準
平面に対し平行に材料を除去でき、且ついかなる角度誤
差も光学的検査後に補正しうるという利点がえられる。
比較的遠く離れた距離においてさえも充分な精度で基準
平面に対し平行に材料を除去でき、且ついかなる角度誤
差も光学的検査後に補正しうるという利点がえられる。
【０００８】本発明による方法の他の例では、少なくと
も１つの第１端部と少なくとも１つの第２端部とが前記
の基準平面から等距離になるように前記のマーカを形成
する。
も１つの第１端部と少なくとも１つの第２端部とが前記
の基準平面から等距離になるように前記のマーカを形成
する。
【０００９】本例では、この方法を実施している際で基
準平面に接近している領域で短期間の間だけすべてのマ
ーカを見ることができる。この場合、この方法を正確に
且つ急速に行なうことができるという利点がえられる。
準平面に接近している領域で短期間の間だけすべてのマ
ーカを見ることができる。この場合、この方法を正確に
且つ急速に行なうことができるという利点がえられる。
【００１０】本発明による方法の更に他の例では、２つ
の外側マーカを、これらの第１端部が前記の基準平面か
ら最大距離で位置するように形成する。
の外側マーカを、これらの第１端部が前記の基準平面か
ら最大距離で位置するように形成する。
【００１１】このようにすることにより、テープ接触面
を形成するに際し、基準平面に対する向きを早い段階で
決定することができるという利点が得られる。更に、た
とえば研摩（グラインディング、ポリッシング、ラッピ
ング）により材料を除去している間に基準平面に対し達
成される面に関する追加の情報がえられる。
を形成するに際し、基準平面に対する向きを早い段階で
決定することができるという利点が得られる。更に、た
とえば研摩（グラインディング、ポリッシング、ラッピ
ング）により材料を除去している間に基準平面に対し達
成される面に関する追加の情報がえられる。
【００１２】本発明による方法の更に他の例では、前記
のマーカと前記の変換素子に隣接する絶縁層とを同一の
１つのマスクを用いて同時に形成する。
のマーカと前記の変換素子に隣接する絶縁層とを同一の
１つのマスクを用いて同時に形成する。
【００１３】本例の場合、形成すべき磁気ヘッドのギャ
ップ高さ又は磁極高さが完全に規定されるという利点が
得られる。従って、変換素子及び磁束案内部の双方又は
いずれか一方に生じるおそれのある位置誤差が、ギャッ
プ高さ又は磁極高さを形成しうる精度に何の影響をも及
ぼさない。
ップ高さ又は磁極高さが完全に規定されるという利点が
得られる。従って、変換素子及び磁束案内部の双方又は
いずれか一方に生じるおそれのある位置誤差が、ギャッ
プ高さ又は磁極高さを形成しうる精度に何の影響をも及
ぼさない。
【００１４】マーカを絶縁層と同時に形成する場合に
は、マーカ材料として重合体、例えばホトレジストを用
いるのが好ましい。この場合、光学的コントラストを高
めるために、マーカを光学的に相違する第１の層上に設
け、次にこれらの上に光学的に相違する第２の層を被覆
するのが好ましい。これらの第１及び第２の層は例えば
金属層とすることができ又磁束案内部と同時に設けるこ
とができる。金属層は例えばNiFe合金又はFeSiAl合金か
ら形成することができる。
は、マーカ材料として重合体、例えばホトレジストを用
いるのが好ましい。この場合、光学的コントラストを高
めるために、マーカを光学的に相違する第１の層上に設
け、次にこれらの上に光学的に相違する第２の層を被覆
するのが好ましい。これらの第１及び第２の層は例えば
金属層とすることができ又磁束案内部と同時に設けるこ
とができる。金属層は例えばNiFe合金又はFeSiAl合金か
ら形成することができる。
【００１５】本発明方法により設けるマーカは電着や、
真空堆積や、スパッタリングや、蒸着のような既知の薄
膜技術により得ることができる。
真空堆積や、スパッタリングや、蒸着のような既知の薄
膜技術により得ることができる。
【００１６】本発明は本発明方法により製造した磁気ヘ
ッドにも関するものである。磁気ヘッドの変換素子は誘
導型又は磁気抵抗型とすることができる。
ッドにも関するものである。磁気ヘッドの変換素子は誘
導型又は磁気抵抗型とすることができる。
【００１７】方形の研摩マーカを使用することは特開昭
５６−２９８３２号公報のみならず、特開昭５７−１６
２１１号公報及び特開昭５９−２２３９１９号公報から
も既知であることを銘記すべきである。
５６−２９８３２号公報のみならず、特開昭５７−１６
２１１号公報及び特開昭５９−２２３９１９号公報から
も既知であることを銘記すべきである。
【００１８】図１及び２に示す本発明の一例の薄膜磁気
ヘッドは非磁性基板１と、第１磁束案内部３と、第２磁
束案内部５と、変換素子７とを有する。領域９で相互連
結された第１磁束案内部３及び第２磁束案内部５は磁気
回路を構成し、この磁気回路内に変換素子７が存在す
る。変換素子７は誘導性素子、特に本例ではコイルであ
る。変換素子は磁気抵抗性素子とすることもできる。領
域９以外では第１磁束案内部３と第２磁束案内部５との
間に例えば酸化物より成る非磁性層１１を設け、この非
磁性層１１により磁束案内部３及び５の２つの自由端間
にギャップ１３を形成する。この非磁性層１１には第１
絶縁層１５を設け、この第１絶縁層１５上に変換素子７
を、次に第２絶縁層１７を設ける。これら絶縁層１５及
び１７はいわば変換素子７に対する収容室を形成する。
図示の構造の薄膜磁気ヘッドはマーカを有するパターン
１９をも具えている。このパターン１９は第１絶縁層１
５と同時に形成し、しかも第１磁束案内部３及び第２磁
束案内部５とそれぞれ同時に設けた第１金属層２３及び
第２金属層２５間に存在させる。図示の構造では、他の
絶縁層（図示せず）をも設けてあるがこれらは設けない
でもよい。この構造のものは既知の薄膜技術によって形
成しうる。金属層２３及び２５や磁束案内部３及び５に
対し適した材料は例えばNiFe合金やFeSiAl合金とする。
適切な絶縁材料は例えばAl2O3 およびSiO2 である。適
切な基板材料は例えばセラミック材料Al2O3/TiCである。
ヘッドは非磁性基板１と、第１磁束案内部３と、第２磁
束案内部５と、変換素子７とを有する。領域９で相互連
結された第１磁束案内部３及び第２磁束案内部５は磁気
回路を構成し、この磁気回路内に変換素子７が存在す
る。変換素子７は誘導性素子、特に本例ではコイルであ
る。変換素子は磁気抵抗性素子とすることもできる。領
域９以外では第１磁束案内部３と第２磁束案内部５との
間に例えば酸化物より成る非磁性層１１を設け、この非
磁性層１１により磁束案内部３及び５の２つの自由端間
にギャップ１３を形成する。この非磁性層１１には第１
絶縁層１５を設け、この第１絶縁層１５上に変換素子７
を、次に第２絶縁層１７を設ける。これら絶縁層１５及
び１７はいわば変換素子７に対する収容室を形成する。
図示の構造の薄膜磁気ヘッドはマーカを有するパターン
１９をも具えている。このパターン１９は第１絶縁層１
５と同時に形成し、しかも第１磁束案内部３及び第２磁
束案内部５とそれぞれ同時に設けた第１金属層２３及び
第２金属層２５間に存在させる。図示の構造では、他の
絶縁層（図示せず）をも設けてあるがこれらは設けない
でもよい。この構造のものは既知の薄膜技術によって形
成しうる。金属層２３及び２５や磁束案内部３及び５に
対し適した材料は例えばNiFe合金やFeSiAl合金とする。
適切な絶縁材料は例えばAl2O3 およびSiO2 である。適
切な基板材料は例えばセラミック材料Al2O3/TiCである。
【００１９】図３に詳細に示してあるこのパターン１９
は一列のマーカ２７Ａ〜２７Ｊを有し、これらマーカの
幅をｂで示してある。又、これらマーカ間の距離をｄで
示してあり、本例ではこの距離は幅ｂに等しい。一般に
細長状とするこれらマーカは第１端部２７Ａ１〜２７Ｊ
１と第２端部２７Ａ２〜２７Ｊ２とを有している。これ
らマーカは基準平面２９を検出するのに用いられる。基
準平面２９は、形成すべきテープ接触面部分３１（図５
及び６参照）を規定するものであり、従ってギャップ高
さ又は磁極高さｈを規定するものである。本発明による
磁気ヘッドのテープ接触面の一部分を構成するテープ接
触面部分３１は例えば研摩により材料を除去することに
より形成する。研摩方向を図に矢印Ａで示してある。種
々の長さのマーカ２７Ａ〜２７Ｊを、第２端部２７Ａ２
〜２７Ｊ２が基準平面２９に対して傾斜するように形成
する。第２端部も、２つの並置された第２端部、例えば
第２端部２７Ａ２及び２７Ｂ２が段差が付かないで互い
に隣接するように形成する。従って、例えば顕微鏡によ
りマーカのパターンを規則的に検査することにより、材
料が除去されている位置を正確に決定することができ
る。研摩方向Ａとは反対方向に向いているマーカの第１
端部２７Ａ１〜２７Ｊ１は互いに段状に配置する。本例
では、第１端部２７Ｉ１の位置は、基準平面２９からこ
の位置までの距離が第２端部２７Ａ２と基準平面２９と
の間の最大距離に等しくなるように定める。
は一列のマーカ２７Ａ〜２７Ｊを有し、これらマーカの
幅をｂで示してある。又、これらマーカ間の距離をｄで
示してあり、本例ではこの距離は幅ｂに等しい。一般に
細長状とするこれらマーカは第１端部２７Ａ１〜２７Ｊ
１と第２端部２７Ａ２〜２７Ｊ２とを有している。これ
らマーカは基準平面２９を検出するのに用いられる。基
準平面２９は、形成すべきテープ接触面部分３１（図５
及び６参照）を規定するものであり、従ってギャップ高
さ又は磁極高さｈを規定するものである。本発明による
磁気ヘッドのテープ接触面の一部分を構成するテープ接
触面部分３１は例えば研摩により材料を除去することに
より形成する。研摩方向を図に矢印Ａで示してある。種
々の長さのマーカ２７Ａ〜２７Ｊを、第２端部２７Ａ２
〜２７Ｊ２が基準平面２９に対して傾斜するように形成
する。第２端部も、２つの並置された第２端部、例えば
第２端部２７Ａ２及び２７Ｂ２が段差が付かないで互い
に隣接するように形成する。従って、例えば顕微鏡によ
りマーカのパターンを規則的に検査することにより、材
料が除去されている位置を正確に決定することができ
る。研摩方向Ａとは反対方向に向いているマーカの第１
端部２７Ａ１〜２７Ｊ１は互いに段状に配置する。本例
では、第１端部２７Ｉ１の位置は、基準平面２９からこ
の位置までの距離が第２端部２７Ａ２と基準平面２９と
の間の最大距離に等しくなるように定める。
【００２０】層２３及び２５間に囲まれたマーカ２７Ａ
の長手方向断面を図４に示してある。
の長手方向断面を図４に示してある。
【００２１】図５は前述したように本発明による方法に
より製造した磁気ヘッドのテープ接触面部分３１の正面
図である。テープ接触面部分３１、一般にはテープ接触
面は図２及び３に矢印Ａにより示す方向で基準平面２９
に達するまで材料を除去することにより得る。依然とし
て残存するマーカ２７Ｈ，２７Ｉ及び２７Ｊの部分はテ
ープ接触面にみられる。
より製造した磁気ヘッドのテープ接触面部分３１の正面
図である。テープ接触面部分３１、一般にはテープ接触
面は図２及び３に矢印Ａにより示す方向で基準平面２９
に達するまで材料を除去することにより得る。依然とし
て残存するマーカ２７Ｈ，２７Ｉ及び２７Ｊの部分はテ
ープ接触面にみられる。
【００２２】図６は本発明による磁気ヘッドの断面図で
ある。磁気ヘッドは２つの磁束案内部３及び５間にギャ
ップ１３を有し、このギャップは巻線（コイル）孔１８
からテープ接触面３０まで延在している。この巻線孔１
８は変換素子７を収容する。ギャップの高さは図２に示
す所望の高さｈに正確に一致する高さＨで示してある。
ある。磁気ヘッドは２つの磁束案内部３及び５間にギャ
ップ１３を有し、このギャップは巻線（コイル）孔１８
からテープ接触面３０まで延在している。この巻線孔１
８は変換素子７を収容する。ギャップの高さは図２に示
す所望の高さｈに正確に一致する高さＨで示してある。
【００２３】本発明は上述した実施例に限定されるもの
ではないことに注意すべきである。例えば、磁気回路の
両側にマーカのパターンを設けることができる。本発明
による方法は複数個の変換素子を有する磁気ヘッドを製
造するのにも好適に用いうる。
ではないことに注意すべきである。例えば、磁気回路の
両側にマーカのパターンを設けることができる。本発明
による方法は複数個の変換素子を有する磁気ヘッドを製
造するのにも好適に用いうる。
【図１】本発明による方法の一工程を示す線図であ。
【図２】図１のII−II線上を断面とする断面図である。
【図３】図１の一部を示す詳細拡大図である。
【図４】図３のIV−IV線上を断面とする断面図である。
【図５】本発明による磁気ヘッドの部分的正面図であ
る。
る。
【図６】図５のVI−VI線上を断面とする断面図である。
１ 非磁性基板 ３ 第１磁束案内部 ５ 第２磁束案内部 ７ 変換素子 １１ 非磁性層 １３ ギャップ １５ 第１絶縁層 １７ 第２絶縁層 １９ パターン ２３ 第１金属層 ２５ 第２金属層 ２７Ａ〜２７Ｊ マーカ ２９ 基準平面 ３１ テープ接触面部分
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヨハネス フランシスカス デ プロース ト オランダ国 5621 ベーアー アインドー フエンフルーネバウツウエツハ １ (72)発明者 ヘラルダス ヘンリカス ヨハネス ソメ ルス オランダ国 5621 ベーアー アインドー フエンフルーネバウツウエツハ １ (72)発明者 フサンシスカス アントニウス プロンク オランダ国 5621 ベーアー アインドー フエンフルーネバウツウエツハ １ (72)発明者 フイクター ジーレン オランダ国 5621 ベーアー アインドー フエンフルーネバウツウエツハ １ (72)発明者 ヘルムト ヨハネス ハツセン オランダ国 5621 ベーアー アインドー フエンフルーネバウツウエツハ １ (72)発明者 ヨハネス ヘンリカス コルネリス フラ ンセン オランダ国 5621 ベーアー アインドー フエンフルーネバウツウエツハ １ (72)発明者 ルドルフ アレクサンダー フアン ドー ルン オランダ国 5621 ベーアー アインドー フエンフルーネバウツウエツハ １
Claims (7)
- 【請求項１】 少なくとも１つの変換素子を有する薄膜
磁気ヘッドを製造する方法であって、 −薄膜磁気ヘッドを順次の層を以って構成し、 −テープ接触面を形成するために、このテープ接触面の
テープ接触面部分に相当する基準平面を前記のテープ接
触面部分に対し交差する方向に延在する層状で並置され
た複数のマーカにより検出し、これらマーカは同一の一
方向に向いた第１端部と、この方向とは逆の方向に向き
空間的に分離された第２端部とを有しており互いに隣接
する第２端部が前記の基準平面から異なる距離で位置し
ており、 −前記のテープ接触面を材料の除去により形成する 薄膜磁気ヘッドの製造方法において、 前記の第２端部が前記の基準平面に対し傾斜していると
ともに並置された第２端部が互いに段差が付かないで隣
接するように前記のマーカを形成することを特徴とする
薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項２】 請求項１に記載の薄膜磁気ヘッドの製造
方法において、前記の第１端部が互いに段差があるよう
に配置され且つ材料の除去中第１端部に最初に到達する
ように前記のマーカを形成することを特徴とする薄膜磁
気ヘッドの製造方法。 - 【請求項３】 請求項１又は２に記載の薄膜磁気ヘッド
の製造方法において、少なくとも１つの第１端部と少な
くとも１つの第２端部とが前記の基準平面から等距離に
なるように前記のマーカを形成することを特徴とする薄
膜磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項４】 請求項１〜３のいずれか一項に記載の薄
膜磁気ヘッドの製造方法において、２つの外側マーカ
を、これらの第１端部が前記の基準平面から最大距離で
位置するように形成することを特徴とする薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法。 - 【請求項５】 請求項１〜４のいずれか一項に記載の薄
膜磁気ヘッドの製造方法において、前記のマーカと前記
の変換素子に隣接する絶縁層とを同一の１つのマスクを
用いて同時に形成することを特徴とする薄膜磁気ヘッド
の製造方法。 - 【請求項６】 請求項１〜５のいずれか一項に記載の薄
膜磁気ヘッドの製造方法において、前記のマーカを光学
的に相違する第１層上に設け、これらマーカに光学的に
相違する第２層を被覆することを特徴とする薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法。 - 【請求項７】 請求項１〜６のいずれか一項に記載した
方法により製造した薄膜磁気ヘッド。
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|---|---|---|---|
| US07/697140 | 1991-05-08 | ||
| US07/697,140 US5217819A (en) | 1991-05-08 | 1991-05-08 | Method of manufacturing a thin-film magnetic head and magnetic head |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05128445A true JPH05128445A (ja) | 1993-05-25 |
| JP2996562B2 JP2996562B2 (ja) | 2000-01-11 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4116220A Expired - Fee Related JP2996562B2 (ja) | 1991-05-08 | 1992-05-08 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
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|---|---|
| US (1) | US5217819A (ja) |
| EP (1) | EP0512617B1 (ja) |
| JP (1) | JP2996562B2 (ja) |
| KR (1) | KR100307084B1 (ja) |
| DE (1) | DE69221525T2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| US5916424A (en) * | 1996-04-19 | 1999-06-29 | Micrion Corporation | Thin film magnetic recording heads and systems and methods for manufacturing the same |
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-
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- 1991-05-08 US US07/697,140 patent/US5217819A/en not_active Expired - Fee Related
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- 1992-05-08 JP JP4116220A patent/JP2996562B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| DE69221525T2 (de) | 1998-02-19 |
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| EP0512617B1 (en) | 1997-08-13 |
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| KR100307084B1 (ko) | 2001-11-30 |
| DE69221525D1 (de) | 1997-09-18 |
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