JPH04295608A - 薄膜磁気ヘッド素材の製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッド素材の製造方法Info
- Publication number
- JPH04295608A JPH04295608A JP3060025A JP6002591A JPH04295608A JP H04295608 A JPH04295608 A JP H04295608A JP 3060025 A JP3060025 A JP 3060025A JP 6002591 A JP6002591 A JP 6002591A JP H04295608 A JPH04295608 A JP H04295608A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic head
- monitor
- film magnetic
- thin film
- head material
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、多数の薄膜磁気ヘッド
とギャップ深さ寸法測定モニター（以下モニターと略す
）を含む、薄膜磁気ヘッド素材の製造方法に関する。
とギャップ深さ寸法測定モニター（以下モニターと略す
）を含む、薄膜磁気ヘッド素材の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】図２において、５は非磁性フェライトな
どの材質の基板である。基板５の上に後に説明する方法
で多数の薄膜磁気ヘッドが作られる。その一列分を切り
出したのが薄膜磁気ヘッド素材１１で、基板５の上に絶
縁層または保護膜などの樹脂６に埋まって薄膜磁気ヘッ
ドの端面１２とモニターの端面１３が見えている。この
磁気ヘッド素材１１をさらに細断して個々の磁気ヘッド
が得られる。磁気ヘッドの部分の断面を概略で示すと図
３の通りである。１は下部磁性層、２は上部磁性層、７
はコイルである。１０はエイペックス部で、エイペック
ス部１０と端面１２の間の寸法Ｇがギャップ深さ寸法で
ある。磁気ヘッド素材１１は端面１２をラップ加工など
で研削して所定のギャップ深さ寸法に仕上げられるので
あるが、その際エイペックス部１０は外部からは見えな
いのでギャップ深さ寸法を直接に測定することはできな
い。ギャップ深さ寸法は、磁気ヘッド素材１１中に、磁
気ヘッドと同時に作りこまれたモニターの端面１３の形
状から間接的に判断される。
どの材質の基板である。基板５の上に後に説明する方法
で多数の薄膜磁気ヘッドが作られる。その一列分を切り
出したのが薄膜磁気ヘッド素材１１で、基板５の上に絶
縁層または保護膜などの樹脂６に埋まって薄膜磁気ヘッ
ドの端面１２とモニターの端面１３が見えている。この
磁気ヘッド素材１１をさらに細断して個々の磁気ヘッド
が得られる。磁気ヘッドの部分の断面を概略で示すと図
３の通りである。１は下部磁性層、２は上部磁性層、７
はコイルである。１０はエイペックス部で、エイペック
ス部１０と端面１２の間の寸法Ｇがギャップ深さ寸法で
ある。磁気ヘッド素材１１は端面１２をラップ加工など
で研削して所定のギャップ深さ寸法に仕上げられるので
あるが、その際エイペックス部１０は外部からは見えな
いのでギャップ深さ寸法を直接に測定することはできな
い。ギャップ深さ寸法は、磁気ヘッド素材１１中に、磁
気ヘッドと同時に作りこまれたモニターの端面１３の形
状から間接的に判断される。
【０００３】図４はモニター３とその端面１３を示す。
モニター３は図示のように階段状または鋸歯状をしてい
るので、研削につれてあらわれる端面１３の形状が変化
する。その形状を見てギャップ深さ寸法を間接的に知る
のである。
るので、研削につれてあらわれる端面１３の形状が変化
する。その形状を見てギャップ深さ寸法を間接的に知る
のである。
【０００４】以下従来の薄膜磁気ヘッドおよびモニター
を含む磁気ヘッド素材の製造工程を図５で説明する。
を含む磁気ヘッド素材の製造工程を図５で説明する。
【０００５】（５−１）基板５（図示せず）上にスパッ
タまたは蒸着などで磁性材料を付着させ、それをフォト
エッチングなどして下部磁性層１を形成する。同時に多
数の下部磁性層を形成するのであるが説明を簡単にする
ために１個のみを図示している。
タまたは蒸着などで磁性材料を付着させ、それをフォト
エッチングなどして下部磁性層１を形成する。同時に多
数の下部磁性層を形成するのであるが説明を簡単にする
ために１個のみを図示している。
【０００６】（５−２）上記（５−１）と同じ工程をく
り返してモニター３を形成する。 （５−３）フォトレジストを塗布，感光硬化，現像して
下部磁性層１上に絶縁膜１４を形成する。窓１５は後に
上部磁性層２と下部磁性層１をつき合わせるためにフォ
トレジストを除去している部分である。４は後に上部磁
性層が形成された時にエイペックス部の位置となる線で
ある。本工程をエイペックス位置規定工程と呼ぶ。
り返してモニター３を形成する。 （５−３）フォトレジストを塗布，感光硬化，現像して
下部磁性層１上に絶縁膜１４を形成する。窓１５は後に
上部磁性層２と下部磁性層１をつき合わせるためにフォ
トレジストを除去している部分である。４は後に上部磁
性層が形成された時にエイペックス部の位置となる線で
ある。本工程をエイペックス位置規定工程と呼ぶ。
【０００７】（５−４）銅蒸着とフォトエッチングによ
りコイル７を形成する。 （５−５）コイル７を絶縁層でおおい、その上に上部磁
性層２を形成する。その上に保護膜を重ねた後、線１６
で切り出して図２に示した薄膜磁気ヘッド素材１１とす
る。
りコイル７を形成する。 （５−５）コイル７を絶縁層でおおい、その上に上部磁
性層２を形成する。その上に保護膜を重ねた後、線１６
で切り出して図２に示した薄膜磁気ヘッド素材１１とす
る。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の方法では、図５のようにモニター形成（５−２）と
ギャップの深さを決定するエイペックス位置の形成（５
−３）が別々に行なわれるので、その際相互位置的な誤
差が生じる。また、モニター形成（５−２）とギャップ
の深さを決定するエイペックス位置４の規定（５−３）
の使用材料が異なることから、薄膜形成プロセスにおけ
る複雑な作業の繰り返しによる作用（電気メッキ電極膜
のスパッタエッチング，パターンを露光する場合の露光
条件のばらつき，露光後の現像，洗浄，ベーキング，ク
リーニングのためのスパッタエッチング等の各作業によ
る作用）を受けてフォトレジスト膜１４の摩耗などでさ
らに寸法誤差が発生し、累積されるので、モニターの寸
法精度が低くなってくる。
来の方法では、図５のようにモニター形成（５−２）と
ギャップの深さを決定するエイペックス位置の形成（５
−３）が別々に行なわれるので、その際相互位置的な誤
差が生じる。また、モニター形成（５−２）とギャップ
の深さを決定するエイペックス位置４の規定（５−３）
の使用材料が異なることから、薄膜形成プロセスにおけ
る複雑な作業の繰り返しによる作用（電気メッキ電極膜
のスパッタエッチング，パターンを露光する場合の露光
条件のばらつき，露光後の現像，洗浄，ベーキング，ク
リーニングのためのスパッタエッチング等の各作業によ
る作用）を受けてフォトレジスト膜１４の摩耗などでさ
らに寸法誤差が発生し、累積されるので、モニターの寸
法精度が低くなってくる。
【０００９】本発明は上記課題を解決するもので、モニ
ターの寸法精度にすぐれた、かつ製造工数も少ない薄膜
磁気ヘッド素材の製造方法を提供することを目的として
いる。
ターの寸法精度にすぐれた、かつ製造工数も少ない薄膜
磁気ヘッド素材の製造方法を提供することを目的として
いる。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の薄膜磁気ヘッド素材の製造方法においては
、モニターはエイペックス規定工程と同じ工程で、同じ
材料を用いて行われる。
に、本発明の薄膜磁気ヘッド素材の製造方法においては
、モニターはエイペックス規定工程と同じ工程で、同じ
材料を用いて行われる。
【００１１】
【作用】本発明は、上記した構成により、エイペックス
位置規定工程と同じ工程で、同じ材料を使用して、モニ
ターを形成することによって、エイペックスとモニター
の相対的な位置と、その変化量を同じにすることができ
、モニターの寸法精度が高まる。
位置規定工程と同じ工程で、同じ材料を使用して、モニ
ターを形成することによって、エイペックスとモニター
の相対的な位置と、その変化量を同じにすることができ
、モニターの寸法精度が高まる。
【００１２】
【実施例】図１に本発明による薄膜磁気ヘッド素材の製
造方法を示す。従来例と共通する部分は同番号を付し、
説明を省略または簡略化する。
造方法を示す。従来例と共通する部分は同番号を付し、
説明を省略または簡略化する。
【００１３】（１−１）基板５（図示せず）上にスパッ
タまたは蒸着などで磁性材料を付着させ、それをフォト
エッチングなどして下部磁性層１を形成する。
タまたは蒸着などで磁性材料を付着させ、それをフォト
エッチングなどして下部磁性層１を形成する。
【００１４】（１−２）フォトレジストを塗布，感光硬
化，現像してモニター３および下部磁性層１上に絶縁膜
１４を形成する。窓１５は後に上部磁性層２と下部磁性
層１をつき合わせるためにフォトレジストを除去してい
る部分である。４は後に上部磁性層が形成された時にエ
イペックスの位置となる線である。
化，現像してモニター３および下部磁性層１上に絶縁膜
１４を形成する。窓１５は後に上部磁性層２と下部磁性
層１をつき合わせるためにフォトレジストを除去してい
る部分である。４は後に上部磁性層が形成された時にエ
イペックスの位置となる線である。
【００１５】（１−３）銅蒸着とフォトエッチングによ
りコイル７を形成する。 （１−４）コイル７を絶縁層１４でおおい、その上に上
部磁性層２を形成する。その上に保護膜を重ねた後、線
１６で切り出して図２に示した薄膜磁気ヘッド素材１１
とする。すなわち本発明では工程（１−２）でエイペッ
クス位置を規定する工程と同時に同じ材料（フォトレジ
スト）を使用してモニター３を形成している。
りコイル７を形成する。 （１−４）コイル７を絶縁層１４でおおい、その上に上
部磁性層２を形成する。その上に保護膜を重ねた後、線
１６で切り出して図２に示した薄膜磁気ヘッド素材１１
とする。すなわち本発明では工程（１−２）でエイペッ
クス位置を規定する工程と同時に同じ材料（フォトレジ
スト）を使用してモニター３を形成している。
【００１６】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように本発明の薄
膜磁気ヘッド素材の製造方法では、同一フォトマスク上
にエイペックスパターンとモニターパターンの両者が形
成されている。このため、相対的な位置を高精度で形成
できる。すなわち、従来工法のように別々の工程で位置
合わせ時に生じる誤差が発生しない。
膜磁気ヘッド素材の製造方法では、同一フォトマスク上
にエイペックスパターンとモニターパターンの両者が形
成されている。このため、相対的な位置を高精度で形成
できる。すなわち、従来工法のように別々の工程で位置
合わせ時に生じる誤差が発生しない。
【００１７】また、両者をひとつにすることによって工
程数も少なくなる。さらにエイペックス位置を規定する
パターンとモニターを形成するパターンは同時に塗布形
成された膜であり、同じ材料を使用して同一厚みとなる
ために、これにより後工程でも同じ作用を受け、同じ変
化を起こす。
程数も少なくなる。さらにエイペックス位置を規定する
パターンとモニターを形成するパターンは同時に塗布形
成された膜であり、同じ材料を使用して同一厚みとなる
ために、これにより後工程でも同じ作用を受け、同じ変
化を起こす。
【００１８】すなわち、本発明では、製造プロセスの変
動やばらつきにより影響を受けてパターン寸法や位置が
設計上（目標）のものから変動する場合であっても、エ
イペックスを形成するパターンとモニターを形成するパ
ターンがまったく同じ影響を受け、同一値で変動するた
め、結果的に両者の相対的な位置関係は変化しない。す
なわち、モニター位置の誤差が発生しない。
動やばらつきにより影響を受けてパターン寸法や位置が
設計上（目標）のものから変動する場合であっても、エ
イペックスを形成するパターンとモニターを形成するパ
ターンがまったく同じ影響を受け、同一値で変動するた
め、結果的に両者の相対的な位置関係は変化しない。す
なわち、モニター位置の誤差が発生しない。
【図１】本発明の薄膜磁気ヘッド素材の製造工程を示す
図
図
【図２】薄膜磁気ヘッド素材の外観図
【図３】薄膜磁気ヘッド素材の断面図
【図４】モニター拡大図
【図５】従来の薄膜磁気ヘッド素材の製造工程を示す図
３ ギャップ深さ寸法測定モニター
４ エイペックス位置
１１ 薄膜磁気ヘッド素材
Claims (1)
- 【請求項１】ギャップ深さ寸法測定モニターを、エイペ
ックス部の位置を決定する塗膜を形成する時に、その塗
膜と同材料で形成する薄膜磁気ヘッド素材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3060025A JPH04295608A (ja) | 1991-03-25 | 1991-03-25 | 薄膜磁気ヘッド素材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3060025A JPH04295608A (ja) | 1991-03-25 | 1991-03-25 | 薄膜磁気ヘッド素材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04295608A true JPH04295608A (ja) | 1992-10-20 |
Family
ID=13130119
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3060025A Pending JPH04295608A (ja) | 1991-03-25 | 1991-03-25 | 薄膜磁気ヘッド素材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04295608A (ja) |
-
1991
- 1991-03-25 JP JP3060025A patent/JPH04295608A/ja active Pending
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