JPH05128607A - 光磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
光磁気記録媒体及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH05128607A JPH05128607A JP28787691A JP28787691A JPH05128607A JP H05128607 A JPH05128607 A JP H05128607A JP 28787691 A JP28787691 A JP 28787691A JP 28787691 A JP28787691 A JP 28787691A JP H05128607 A JPH05128607 A JP H05128607A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dielectric layer
- magneto
- sin
- recording medium
- layer made
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐食性に優れた光磁気記録媒体及びその製造
方法を提供する。 【構成】 基板（１）上に少くとも、ＳｉＮから成る第
１の誘電体層（２）、ＴｂＦｅＣｏＴｉ合金膜から成る
記録層（３）、ＳｉＮから成る第２の誘電体層（４）、
ＡｌＴｉ合金から成る金属反射層（５）、ＳｉＮから成
る第３の誘電体層（６）の順に成膜された光磁気記録媒
体。
方法を提供する。 【構成】 基板（１）上に少くとも、ＳｉＮから成る第
１の誘電体層（２）、ＴｂＦｅＣｏＴｉ合金膜から成る
記録層（３）、ＳｉＮから成る第２の誘電体層（４）、
ＡｌＴｉ合金から成る金属反射層（５）、ＳｉＮから成
る第３の誘電体層（６）の順に成膜された光磁気記録媒
体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光磁気ディスクに用いら
れる記録媒体に関するものであり、特に耐環境性と長期
保存に優れた信頼性の高い光磁気記録媒体及びその製造
方法に関するものである。
れる記録媒体に関するものであり、特に耐環境性と長期
保存に優れた信頼性の高い光磁気記録媒体及びその製造
方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光ディスクは、大容量ファイルメモリの
１つとして注目されている。中でも光磁気ディスクは、
記録情報の書換えが可能であると言う利点をもっている
ことから、コードデータファイルメモリを始め、画像フ
ァイルメモリ等広範囲な応用が各所で盛んに研究されて
いる。
１つとして注目されている。中でも光磁気ディスクは、
記録情報の書換えが可能であると言う利点をもっている
ことから、コードデータファイルメモリを始め、画像フ
ァイルメモリ等広範囲な応用が各所で盛んに研究されて
いる。
【０００３】記録媒体として、当初、ポリカーボネイト
等の樹脂基体上に、ＳｉＮから成る第一の誘電体層、希
土類金属と鉄族遷移金属との組合せによって作成される
ＴｂＦｅＣｏの様な非晶質磁性合金膜から成る記録膜
層、ＳｉＮから成る第二の誘電体層の順に成膜された三
層構造が提案されていた。しかし、近年では、記録再生
特性を向上させるために第２の誘電体層の上にさらに金
属反射膜を形成した四層構成が主流となっている。
等の樹脂基体上に、ＳｉＮから成る第一の誘電体層、希
土類金属と鉄族遷移金属との組合せによって作成される
ＴｂＦｅＣｏの様な非晶質磁性合金膜から成る記録膜
層、ＳｉＮから成る第二の誘電体層の順に成膜された三
層構造が提案されていた。しかし、近年では、記録再生
特性を向上させるために第２の誘電体層の上にさらに金
属反射膜を形成した四層構成が主流となっている。
【０００４】これらを用いた光磁気ディスクは、パソコ
ンのコードデータファイルメモリ分野を始めとして、既
に、実用レベルにあり、用途拡大が期待されている。用
途の拡大に伴い、更に苛酷な環境下に於いても安定に動
作する高い信頼性が要求されている。
ンのコードデータファイルメモリ分野を始めとして、既
に、実用レベルにあり、用途拡大が期待されている。用
途の拡大に伴い、更に苛酷な環境下に於いても安定に動
作する高い信頼性が要求されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した四層
構成の媒体は、金属反射膜が最表層となっているため金
属反射膜の組成によっては金属反射膜が酸化されて記録
再生特性が劣化する場合があった。
構成の媒体は、金属反射膜が最表層となっているため金
属反射膜の組成によっては金属反射膜が酸化されて記録
再生特性が劣化する場合があった。
【０００６】また、誘電体層であるＳｉＮ膜の内部応力
が高い場合には、ポリカーボネイト基板を含む光磁気デ
ィスク媒体に大きな反りが生じる。単板状態で使用する
場合には上述した光磁気ディスク媒体の大きな反りのた
めに記録再生動作が不能となる場合があった。
が高い場合には、ポリカーボネイト基板を含む光磁気デ
ィスク媒体に大きな反りが生じる。単板状態で使用する
場合には上述した光磁気ディスク媒体の大きな反りのた
めに記録再生動作が不能となる場合があった。
【０００７】さらに、両面媒体とするため、この様に大
きな反りを有した媒体をホットメルト密着貼合わせを行
うと、記録媒体に剥離やクラックが生じるという欠点が
あった。
きな反りを有した媒体をホットメルト密着貼合わせを行
うと、記録媒体に剥離やクラックが生じるという欠点が
あった。
【０００８】本発明者等の実験によれば上述した四層構
成の媒体のトータルの膜内部応力は−５×１０9 〜−８
×１０9 （dyn/cm2 ）（圧縮応力）であり、その時の基
板の反りは約１５０μmであった。
成の媒体のトータルの膜内部応力は−５×１０9 〜−８
×１０9 （dyn/cm2 ）（圧縮応力）であり、その時の基
板の反りは約１５０μmであった。
【０００９】本発明の課題は媒体の反りが小さく耐食性
に優れた記録媒体及びその製造方法を提供する事にあ
る。
に優れた記録媒体及びその製造方法を提供する事にあ
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明による光磁気記録
媒体は、有機樹脂基板上に少なくとも、ＳｉＮからなる
第１の誘電体層、ＴｂＦｅＣｏＴｉ合金膜からなる記録
膜層、ＳｉＮからなる第２の誘電体層、ＡｌＴｉ合金膜
からなる金属反射層、ＳｉＮからなる第３の誘電体層の
順に成膜されている事を特徴とする。
媒体は、有機樹脂基板上に少なくとも、ＳｉＮからなる
第１の誘電体層、ＴｂＦｅＣｏＴｉ合金膜からなる記録
膜層、ＳｉＮからなる第２の誘電体層、ＡｌＴｉ合金膜
からなる金属反射層、ＳｉＮからなる第３の誘電体層の
順に成膜されている事を特徴とする。
【００１１】上記光磁気記録媒体において、第３の誘電
体層の屈折率及び内部応力は、各々２．０〜２．２及び
＋５．０×１０9 〜＋８．０×１０9 （dyn/cm2 ）（引
っ張り応力）の範囲にある様に形成される。
体層の屈折率及び内部応力は、各々２．０〜２．２及び
＋５．０×１０9 〜＋８．０×１０9 （dyn/cm2 ）（引
っ張り応力）の範囲にある様に形成される。
【００１２】本発明による光磁気媒体の製造方法におい
ては、前記第３の誘電体層は、Ｓｉターゲットを用い、
スパッタ雰囲気として用いるＡｒとＮ2 の混合ガス中の
Ｎ2 の混合比及びスパッタガス圧が各々３３％〜４２％
及び０．１５Pa〜０．２５Paの範囲にある条件において
反応性スパッタ法により形成される事を特徴とする。
ては、前記第３の誘電体層は、Ｓｉターゲットを用い、
スパッタ雰囲気として用いるＡｒとＮ2 の混合ガス中の
Ｎ2 の混合比及びスパッタガス圧が各々３３％〜４２％
及び０．１５Pa〜０．２５Paの範囲にある条件において
反応性スパッタ法により形成される事を特徴とする。
【００１３】
【作用】金属反射膜上に、四層構成の媒体の有する内部
応力と逆符号の内部応力を有するように内部応力を調整
した第３のＳｉＮから成る誘電体層を設ける事により、
記録媒体の反りが相殺され、耐食性に優れた記録媒体が
得られる。
応力と逆符号の内部応力を有するように内部応力を調整
した第３のＳｉＮから成る誘電体層を設ける事により、
記録媒体の反りが相殺され、耐食性に優れた記録媒体が
得られる。
【００１４】
【実施例】図１は本発明に係る光磁気記録媒体の断面構
成図を示す。厚さ１．２mm、直径１３０mmのポリカーボ
ネイト基板１上にＳｉＮから成る厚さ１１００オングス
トロームの第１の誘電体層２、ＴｂＦｅＣｏＴｉから成
る厚さ２００オングストロームの記録膜層３、ＳｉＮか
ら成る厚さ３００オングストロームの第２の誘電体層
４、ＡｉＴｉ合金から成る厚さ３００オングストローム
の金属反射層５、ＳｉＮから成る厚さ１９００オングス
トロームの第３の誘導体層６の順に形成されている。
成図を示す。厚さ１．２mm、直径１３０mmのポリカーボ
ネイト基板１上にＳｉＮから成る厚さ１１００オングス
トロームの第１の誘電体層２、ＴｂＦｅＣｏＴｉから成
る厚さ２００オングストロームの記録膜層３、ＳｉＮか
ら成る厚さ３００オングストロームの第２の誘電体層
４、ＡｉＴｉ合金から成る厚さ３００オングストローム
の金属反射層５、ＳｉＮから成る厚さ１９００オングス
トロームの第３の誘導体層６の順に形成されている。
【００１５】上記各層は、インライン式スパッタ装置を
用いて次のようにして基板上に連続に成膜される。まず
ＳｉＮから成る厚さ１１００オングストロームの第１の
誘電体層２は、Ｓｉターゲットを用い、ターゲットと基
板間距離１５cm、パワー密度８（Ｗ／cm2 ）、ＡｒとＮ
2 のガス流量Ａｒ／Ｎ2 ＝１００／５５（ＳＣＣＭ）、
スパッタガス圧０．３Paで成膜される。
用いて次のようにして基板上に連続に成膜される。まず
ＳｉＮから成る厚さ１１００オングストロームの第１の
誘電体層２は、Ｓｉターゲットを用い、ターゲットと基
板間距離１５cm、パワー密度８（Ｗ／cm2 ）、ＡｒとＮ
2 のガス流量Ａｒ／Ｎ2 ＝１００／５５（ＳＣＣＭ）、
スパッタガス圧０．３Paで成膜される。
【００１６】ＴｂＦｅＣｏＴｉから成る厚さ２００オン
グストロームの記録膜層３は、ＴｂターゲットとＦｅＣ
ｏＴｉ合金ターゲット（Ｆｅ84Ｃｏ12Ｔｉ4 atm ％）を
用いた２元ＤＣマグネトロンスパッタ法により、基板を
回転しながら、ターゲットと基板間距離１０cm、Ｔｂタ
ーゲット及びＦｅＣｏＴｉ合金ターゲットのパワー密
度、各々１．５（Ｗ／cm2 ）及び３．０（Ｗ／cm2 ）、
Ａｒガス圧０．０８Paで成膜される。
グストロームの記録膜層３は、ＴｂターゲットとＦｅＣ
ｏＴｉ合金ターゲット（Ｆｅ84Ｃｏ12Ｔｉ4 atm ％）を
用いた２元ＤＣマグネトロンスパッタ法により、基板を
回転しながら、ターゲットと基板間距離１０cm、Ｔｂタ
ーゲット及びＦｅＣｏＴｉ合金ターゲットのパワー密
度、各々１．５（Ｗ／cm2 ）及び３．０（Ｗ／cm2 ）、
Ａｒガス圧０．０８Paで成膜される。
【００１７】また、ＳｉＮから成る厚さ３００オングス
トロームの第２の誘電体層４は、第１の誘電体層２と同
じ条件で成膜される。
トロームの第２の誘電体層４は、第１の誘電体層２と同
じ条件で成膜される。
【００１８】ＡｌＴｉ合金膜から成る厚さ３００オング
ストロームの金属反射層５は、Ｔｉを１wt％含有するＡ
ｌＴｉ合金ターゲットを用い、Ａｒガスをスパッタガス
としてターゲットと基板間距離１５cm、パワー密度３．
０（Ｗ／cm2 ）、Ａｒガス圧０．１Paで成膜される。
ストロームの金属反射層５は、Ｔｉを１wt％含有するＡ
ｌＴｉ合金ターゲットを用い、Ａｒガスをスパッタガス
としてターゲットと基板間距離１５cm、パワー密度３．
０（Ｗ／cm2 ）、Ａｒガス圧０．１Paで成膜される。
【００１９】上述したＳｉＮから成る第１の誘電体層２
からＡｌＴｉ合金膜から成る金属反射層５までのトータ
ルの膜内部応力は−６．２×１０9 （dyn/cm2 ）（圧縮
応力）であった。
からＡｌＴｉ合金膜から成る金属反射層５までのトータ
ルの膜内部応力は−６．２×１０9 （dyn/cm2 ）（圧縮
応力）であった。
【００２０】次に、ＳｉＮから成る厚さ１９００オング
ストロームの第３の誘電体層６にはＳｉターゲットを用
い、ターゲットと基板間の距離１５cm、パワー密度８
（Ｗ／cm2 ）、ＡｒとＮ2 のガス流量Ａｒ／Ｎ2 ＝１０
０／３５（ＳＣＣＭ）、スパッタガス圧０．２Paで成膜
される。この第３の誘電体層６のみの内部応力は＋６．
０×１０9（dyn/cm2 ）（引っ張り応力）であった。
ストロームの第３の誘電体層６にはＳｉターゲットを用
い、ターゲットと基板間の距離１５cm、パワー密度８
（Ｗ／cm2 ）、ＡｒとＮ2 のガス流量Ａｒ／Ｎ2 ＝１０
０／３５（ＳＣＣＭ）、スパッタガス圧０．２Paで成膜
される。この第３の誘電体層６のみの内部応力は＋６．
０×１０9（dyn/cm2 ）（引っ張り応力）であった。
【００２１】上述した媒体を３２個作製し、各媒体の反
り量ｄを測定したところ平均値は１５μm であった。図
２に反り量ｄの測定場所を示す。
り量ｄを測定したところ平均値は１５μm であった。図
２に反り量ｄの測定場所を示す。
【００２２】図３は比較のため、第３の誘電体層６のみ
がない従来媒体を３２個作製した。これらの媒体の反り
量の平均値は１３０μm であった。
がない従来媒体を３２個作製した。これらの媒体の反り
量の平均値は１３０μm であった。
【００２３】上述した２種類の媒体を表１に示すように
単板状態及びホットメルト（ＨＭ）を用いて２個づつ密
着貼合わせた状態にして８０℃、９０％ＲＨの温湿度条
件で環境試験を行った。
単板状態及びホットメルト（ＨＭ）を用いて２個づつ密
着貼合わせた状態にして８０℃、９０％ＲＨの温湿度条
件で環境試験を行った。
【００２４】
【表１】
【００２５】なお、各媒体には、保護膜として第３の誘
電体層６上に厚さ１０μm の紫外線硬化樹脂が形成され
ている。
電体層６上に厚さ１０μm の紫外線硬化樹脂が形成され
ている。
【００２６】８０℃、９０％ＲＨの環境試験によりグル
ープ名Ｂｓの媒体は６００時間経過後、８個中２個に局
所的に酸化欠陥が発生し、Ｂｗの媒体は１０００時間経
過後までは異常は認められないが、１５００時間経過
後、１２個中３個に局所的に酸化欠陥及び線形剥離が発
生した。
ープ名Ｂｓの媒体は６００時間経過後、８個中２個に局
所的に酸化欠陥が発生し、Ｂｗの媒体は１０００時間経
過後までは異常は認められないが、１５００時間経過
後、１２個中３個に局所的に酸化欠陥及び線形剥離が発
生した。
【００２７】一方、金属反射膜上にＳｉＮからなる誘電
体層６を設けたグループ名Ａｓ及びＡｗの媒体は、２０
００時間経過後も酸化欠陥及び剥離欠陥は全く認められ
なかった。
体層６を設けたグループ名Ａｓ及びＡｗの媒体は、２０
００時間経過後も酸化欠陥及び剥離欠陥は全く認められ
なかった。
【００２８】なお記録膜の組成やＡｌ合金の組成及び媒
体の各々の層厚は上述のものに限定されるものではな
く、所望の記録再生特性に応じて適宜選択され、これら
に対しても同様の効果があることは言うまでもない。
体の各々の層厚は上述のものに限定されるものではな
く、所望の記録再生特性に応じて適宜選択され、これら
に対しても同様の効果があることは言うまでもない。
【００２９】
【発明の効果】以上に述べたように、本発明によれば、
従来より反り量が小さく、耐食性に優れた信頼性の高い
光磁気記録媒体を提供できる。
従来より反り量が小さく、耐食性に優れた信頼性の高い
光磁気記録媒体を提供できる。
【図１】本発明の実施例を示す光磁気記録媒体の断面図
である。
である。
【図２】媒体の反り量ｄの測定位置を示すものである。
１ ポリカーボネイト基板 ２，４，６ ＳｉＮから成る第１、第２、第３の誘電
体層 ３ ＴｂＦｅＣｏＴｉ合金膜から成る記録膜層 ５ ＡｌＴｉ合金膜から成る金属反射層
体層 ３ ＴｂＦｅＣｏＴｉ合金膜から成る記録膜層 ５ ＡｌＴｉ合金膜から成る金属反射層
Claims (3)
- 【請求項１】 有機樹脂基板上に少なくとも、ＳｉＮか
らなる第１の誘電体層、ＴｂＦｅＣｏＴｉ合金膜からな
る記録膜層、ＳｉＮからなる第２の誘電体層、ＡｌＴｉ
合金膜からなる金属反射層、ＳｉＮからなる第３の誘電
体層の順に成膜された光磁気記録媒体。 - 【請求項２】 請求項１記載の光磁気記録媒体におい
て、前記第３の誘電体層の屈折率及び内部応力が各々
２．０〜２．２及び＋５．０×１０9 〜＋８．０×１０
9 （dyn/cm2 ）（引っ張り応力）の範囲にある事を特徴
とする光磁気記録媒体。 - 【請求項３】 有機樹脂基板上に少なくとも、ＳｉＮか
らなる第１の誘電体層、ＴｂＦｅＣｏＴｉ合金膜からな
る記録膜層、ＳｉＮからなる第２の誘電体層、ＡｌＴｉ
合金膜からなる金属反射層、ＳｉＮからなる第３の誘電
体層の順に成膜される光磁気記録媒体の製造方法であっ
て、前記第３の誘電体層は、Ｓｉターゲットを用い、ス
パッタ雰囲気として用いるＡｒとＮ2 の混合ガス中のＮ
2 の混合比及びスパッタガス圧が各々３３％〜４２％及
び０．１５Pa〜０．２５Paの範囲にある条件において反
応性スパッタ法により形成される事を特徴とする光磁気
記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28787691A JPH05128607A (ja) | 1991-11-01 | 1991-11-01 | 光磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28787691A JPH05128607A (ja) | 1991-11-01 | 1991-11-01 | 光磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05128607A true JPH05128607A (ja) | 1993-05-25 |
Family
ID=17722880
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28787691A Pending JPH05128607A (ja) | 1991-11-01 | 1991-11-01 | 光磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05128607A (ja) |
-
1991
- 1991-11-01 JP JP28787691A patent/JPH05128607A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS63160011A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6122458A (ja) | 光磁気記録素子 | |
| JPH03248338A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JP2637777B2 (ja) | 光磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| EP0352333A1 (en) | Data recording medium | |
| JP2521713B2 (ja) | 光磁気記録用媒体 | |
| JP2507592B2 (ja) | 光記録媒体 | |
| JP2523180B2 (ja) | 光記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH0528557A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP2707808B2 (ja) | 光磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2943607B2 (ja) | 光磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS60131659A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH03273543A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| EP0388852B1 (en) | Magneto-optical recording medium and process for production of the same | |
| JPH05159373A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| EP0484945A2 (en) | Magneto-optical recording medium | |
| JPH03134834A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPS63291234A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPS6358641A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH04263144A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH04162233A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH04358334A (ja) | 光学的情報記録用媒体 | |
| JPH04364245A (ja) | 光磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH07287881A (ja) | 光磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPS63311643A (ja) | 光磁気記録媒体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20000419 |