JPH0517603B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0517603B2 JPH0517603B2 JP58217346A JP21734683A JPH0517603B2 JP H0517603 B2 JPH0517603 B2 JP H0517603B2 JP 58217346 A JP58217346 A JP 58217346A JP 21734683 A JP21734683 A JP 21734683A JP H0517603 B2 JPH0517603 B2 JP H0517603B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- track
- coil
- width
- film magnetic
- pitch
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/29—Structure or manufacture of unitary devices formed of plural heads for more than one track
- G11B5/295—Manufacture
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/3116—Shaping of layers, poles or gaps for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. for shielding, contour effect, equalizing, side flux fringing, cross talk reduction between heads or between heads and information tracks
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
(イ) 産業上の利用分野
本発明は、トラツクピツチの狭小化を比較的簡
単に行なうことが出来るマルチトラツク型薄膜磁
気ヘツドの製造方法に関するものである。 (ロ) 従来技術 例えば、コンパクト・カセツト用PCM録音機
の記録用として使用されるマルチトラツク型薄膜
磁気ヘツドでは、高密度記録を行なうためにその
トラツクピツチを狭小化して限られたスペース内
に多くのトラツクを形成する必要がある。ところ
が、従来の薄膜磁気ヘツドではそのヘツドパター
ンとコイルパターンとが同一平面上にトラツク数
に見合つた数だけ一連に並べて形成されるため、
そのトラツクピツチの狭小化には自ずと限度があ
り、特に斯る薄膜磁気ヘツドの起磁力を高めるべ
くコイルパターンを多数巻きに、例えば多数巻き
の構造としてスパイラル型にした場合にはその巻
き数が増えるに従つてトラツクピツチの狭小化に
大きな制限を受けるものであつた。尚、多数巻き
の構造としてスパイラル型のようにコイルパター
ンがヘツドパターン両側に広がらないヘリカル型
やジグザグ型等があるが、斯る構造のものはコイ
ルパターンに段差部分が生じるため、該段差部分
での絶縁不良並びに電流密度の増大等の問題があ
り、信頼性に欠けるものであつた。また、多数巻
きにすることなくコイルに大電流を流すことで起
磁力を大きくする方法もあるが、斯る方法では電
流密度の増大により斯る薄膜磁気ヘツドのドライ
ブ用ICの負担が大きくなると共に発熱量が大き
くなる等の問題がある。 (ハ) 発明の目的 本発明は斯る点に鑑み成されたもので、トラツ
クピツチの狭小化を比較的簡単に行なうことが出
来るマルチトラツク型薄膜磁気ヘツドの製造方法
を提供しようとするものであり、特にコイルパタ
ーンがスパイラル型になつたマルチトラツク型薄
膜磁気ヘツドに適用して好適なるものである。 (ニ) 発明の構成 即ち、本発明は基板の上面側に、逆二等辺三角
形状の切溝をその頂角が90゜〜120゜になるように
複数個連続して設けると共に、該各切溝の一方の
斜面にヘツドパターンを夫々形成して、切溝のピ
ツチがトラツクピツチとなるようにしたものであ
る。 (ホ) 実施例 以下、本発明の具体的な製造方法について図面
と共に説明する。 先ず、下部コアとしての基板１にはNi−Znフ
エライト等のフエライト材を用い、この基板の上
面側に逆二等辺三角形状の切溝２を基板１のテー
プ対接面側である側面に対して直交する方向で且
つその頂角が90゜〜120゜になるように複数個連続
して設ける（第１図参照）。ここで、切溝２は直
接ダイアモンドホイールにて研削すると刃先のブ
レによつて直線性の不良や溝ピツチの精度が悪く
なるので、一旦熱リン酸等のエツチングにて大ま
かな断面形状を作成した後、所定の角度にドレツ
シングしたダイアモンドホイールにて整形するこ
とで形成される。そして、その後該各切溝２の一
方の斜面にマスク蒸着等の工程によりパターン化
した磁性体層よりなる上部コア３を形成せしめる
ようにしたものである。 尚、第２図に示すようにパターン化した導電体
層よりなるコイル部４については、上部コア３と
同様にマスク蒸着で形成することは精度上不可能
であるため、フオトレジストを使用したエツチン
グ法かリフトオフ法を用いなければならない。但
し、フオトエツチングの場合、回転塗布方式によ
つてフオトレジストを塗布すると溝部にレジスト
がたまるのでこれについては高粘度レジストを静
電塗布方式により行い、また露光についても通常
のマスクアライメントでは溝外面の位置によりフ
オトマスクのパターンにボケが生じるので電子線
描画装置を用いて行なう必要がある。 具体的には、切溝形成後、基板−コイル間絶縁
層形成→コイル部形成→上部コア−コイル間絶縁
層形成→ギヤツプ層形成→上部コア形成等の工程
を行ない、その上面にカバーガラスを溶着して切
断等の外形処理を施して工程を完了する。 尚、第２図では切溝の一方の斜面の幅全体をト
ラツク幅としているが、ヘツド出力が充分得られ
る場合には切溝の一方の斜面の幅全体をトラツク
幅とする必要はない。 次に、トラツクピツチ並びにトラツク幅が同じ
でそのコイル部をスパイラル型にした、本発明製
造方法によるマルチトラツク型薄膜磁気ヘツドと
従来製造方法によるマルチトラツク薄膜磁気ヘツ
ドとを比較する。 即ち、スパイラル型のコイル部を一層のみとし
て形成し、そのコイル部の幅を5μm、コイル部間
の幅を3μmにすると共に、そのトラツクピツチを
各々120μm、160μmとしトラツク幅をその1/2と
した場合、本発明のものと従来例のものとではそ
のコイル巻回数の差が下表のようになる。
単に行なうことが出来るマルチトラツク型薄膜磁
気ヘツドの製造方法に関するものである。 (ロ) 従来技術 例えば、コンパクト・カセツト用PCM録音機
の記録用として使用されるマルチトラツク型薄膜
磁気ヘツドでは、高密度記録を行なうためにその
トラツクピツチを狭小化して限られたスペース内
に多くのトラツクを形成する必要がある。ところ
が、従来の薄膜磁気ヘツドではそのヘツドパター
ンとコイルパターンとが同一平面上にトラツク数
に見合つた数だけ一連に並べて形成されるため、
そのトラツクピツチの狭小化には自ずと限度があ
り、特に斯る薄膜磁気ヘツドの起磁力を高めるべ
くコイルパターンを多数巻きに、例えば多数巻き
の構造としてスパイラル型にした場合にはその巻
き数が増えるに従つてトラツクピツチの狭小化に
大きな制限を受けるものであつた。尚、多数巻き
の構造としてスパイラル型のようにコイルパター
ンがヘツドパターン両側に広がらないヘリカル型
やジグザグ型等があるが、斯る構造のものはコイ
ルパターンに段差部分が生じるため、該段差部分
での絶縁不良並びに電流密度の増大等の問題があ
り、信頼性に欠けるものであつた。また、多数巻
きにすることなくコイルに大電流を流すことで起
磁力を大きくする方法もあるが、斯る方法では電
流密度の増大により斯る薄膜磁気ヘツドのドライ
ブ用ICの負担が大きくなると共に発熱量が大き
くなる等の問題がある。 (ハ) 発明の目的 本発明は斯る点に鑑み成されたもので、トラツ
クピツチの狭小化を比較的簡単に行なうことが出
来るマルチトラツク型薄膜磁気ヘツドの製造方法
を提供しようとするものであり、特にコイルパタ
ーンがスパイラル型になつたマルチトラツク型薄
膜磁気ヘツドに適用して好適なるものである。 (ニ) 発明の構成 即ち、本発明は基板の上面側に、逆二等辺三角
形状の切溝をその頂角が90゜〜120゜になるように
複数個連続して設けると共に、該各切溝の一方の
斜面にヘツドパターンを夫々形成して、切溝のピ
ツチがトラツクピツチとなるようにしたものであ
る。 (ホ) 実施例 以下、本発明の具体的な製造方法について図面
と共に説明する。 先ず、下部コアとしての基板１にはNi−Znフ
エライト等のフエライト材を用い、この基板の上
面側に逆二等辺三角形状の切溝２を基板１のテー
プ対接面側である側面に対して直交する方向で且
つその頂角が90゜〜120゜になるように複数個連続
して設ける（第１図参照）。ここで、切溝２は直
接ダイアモンドホイールにて研削すると刃先のブ
レによつて直線性の不良や溝ピツチの精度が悪く
なるので、一旦熱リン酸等のエツチングにて大ま
かな断面形状を作成した後、所定の角度にドレツ
シングしたダイアモンドホイールにて整形するこ
とで形成される。そして、その後該各切溝２の一
方の斜面にマスク蒸着等の工程によりパターン化
した磁性体層よりなる上部コア３を形成せしめる
ようにしたものである。 尚、第２図に示すようにパターン化した導電体
層よりなるコイル部４については、上部コア３と
同様にマスク蒸着で形成することは精度上不可能
であるため、フオトレジストを使用したエツチン
グ法かリフトオフ法を用いなければならない。但
し、フオトエツチングの場合、回転塗布方式によ
つてフオトレジストを塗布すると溝部にレジスト
がたまるのでこれについては高粘度レジストを静
電塗布方式により行い、また露光についても通常
のマスクアライメントでは溝外面の位置によりフ
オトマスクのパターンにボケが生じるので電子線
描画装置を用いて行なう必要がある。 具体的には、切溝形成後、基板−コイル間絶縁
層形成→コイル部形成→上部コア−コイル間絶縁
層形成→ギヤツプ層形成→上部コア形成等の工程
を行ない、その上面にカバーガラスを溶着して切
断等の外形処理を施して工程を完了する。 尚、第２図では切溝の一方の斜面の幅全体をト
ラツク幅としているが、ヘツド出力が充分得られ
る場合には切溝の一方の斜面の幅全体をトラツク
幅とする必要はない。 次に、トラツクピツチ並びにトラツク幅が同じ
でそのコイル部をスパイラル型にした、本発明製
造方法によるマルチトラツク型薄膜磁気ヘツドと
従来製造方法によるマルチトラツク薄膜磁気ヘツ
ドとを比較する。 即ち、スパイラル型のコイル部を一層のみとし
て形成し、そのコイル部の幅を5μm、コイル部間
の幅を3μmにすると共に、そのトラツクピツチを
各々120μm、160μmとしトラツク幅をその1/2と
した場合、本発明のものと従来例のものとではそ
のコイル巻回数の差が下表のようになる。
【表】
尚、第３図はそのトラツクピツチT0が160μm、
トラツク幅T1が80μmで、切溝頂角が90゜の場合と
本発明ヘツド（同図ａ）を従来例（同図ｂ）のも
のと比較した模式図で、コイル部が形成されるス
ペース幅S1が従来例のスペース幅S2よりも大きく
なつていることが判る。尚、（H1）（H2）は上部
コアである。 以上の様に、本発明製造方法に依れば、限定さ
れたトラツクピツチ内にてスパイラル型コイル部
一層に付き、１〜２ターン巻回数を増やすことが
出来るので、同トラツクピツチ、同トラツク幅の
従来製造方法によるマルチトラツク型薄膜磁気ヘ
ツドよりも高い起磁力を得ることが出来る。即
ち、同起磁力であれば、従来例のものよりもその
トラツクピツチの狭小化を計ることが出来る。 次に、本発明で用いる切溝が逆二等辺三角形状
である必要性について、第４図ａ，ｂを用いて説
明する。 先ず、第４図ａに示すような形状に切溝を形成
し、一方の斜面に上部コア（H3）を形成した場
合、確かにトラツク幅T2を大きくとることが出
来るが、反対のスペース幅S3が小さくなるため、
本発明の目的であるスパイラル型のコイル部を形
成する余地が小さくなる。更に、基板の傾斜角度
が急になるので、コイル部を形成することがパタ
ーン精度上困難である。また、仮りにトラツク幅
をT2′と小さくした場合、スパイラル型のコイル
部を形成するスペース幅が広くなるが、鋭角状に
なつた基板の頂上部を跨ぐ構造になるため、斯る
頂上部でパターン切れを起こす（即ち、頂上部で
は導電体膜が堆積されにくいため）可能性があ
る。尚、（T0′））はトラツクピツチである。 次に、第４図ｂに示すような形状に切溝を形成
した場合には、コイル部が形成されるスペース幅
S4を広く取ることが出来るが、反対に上部コア
（H4）のトラツク幅T3が図示の如く小さくなり、
十分なヘツド出力を得ることが出来ない。更に、
上部コア側の基板傾斜角度が急になるので、上部
コアとしての磁性体膜の形成とそのパターン化が
困難になる。 以上の理由から、本発明ではその切溝を逆二等
辺形状とし、且つその頂角を90゜〜120゜にしたも
のである。 (ヘ) 発明の効果 上述した如く本発明のマルチトラツク型薄膜磁
気ヘツドは、基板の上面側に、逆二等辺三角形状
の切溝をその頂角が90゜〜120゜になるように複数
個連続して設けると共に、該各切溝の一方の斜面
にヘツドパターンを夫々形成して、切溝のピツチ
がトラツクピツチとなるようにしたので、同トラ
ツクピツチの従来製造方法によるマルチトラツク
型薄膜磁気ヘツドに比較して、コイル部の巻回数
を多くすることが出来、そのトラツクピツチを狭
小化しても十分な起磁力を得ることが出来る。
トラツク幅T1が80μmで、切溝頂角が90゜の場合と
本発明ヘツド（同図ａ）を従来例（同図ｂ）のも
のと比較した模式図で、コイル部が形成されるス
ペース幅S1が従来例のスペース幅S2よりも大きく
なつていることが判る。尚、（H1）（H2）は上部
コアである。 以上の様に、本発明製造方法に依れば、限定さ
れたトラツクピツチ内にてスパイラル型コイル部
一層に付き、１〜２ターン巻回数を増やすことが
出来るので、同トラツクピツチ、同トラツク幅の
従来製造方法によるマルチトラツク型薄膜磁気ヘ
ツドよりも高い起磁力を得ることが出来る。即
ち、同起磁力であれば、従来例のものよりもその
トラツクピツチの狭小化を計ることが出来る。 次に、本発明で用いる切溝が逆二等辺三角形状
である必要性について、第４図ａ，ｂを用いて説
明する。 先ず、第４図ａに示すような形状に切溝を形成
し、一方の斜面に上部コア（H3）を形成した場
合、確かにトラツク幅T2を大きくとることが出
来るが、反対のスペース幅S3が小さくなるため、
本発明の目的であるスパイラル型のコイル部を形
成する余地が小さくなる。更に、基板の傾斜角度
が急になるので、コイル部を形成することがパタ
ーン精度上困難である。また、仮りにトラツク幅
をT2′と小さくした場合、スパイラル型のコイル
部を形成するスペース幅が広くなるが、鋭角状に
なつた基板の頂上部を跨ぐ構造になるため、斯る
頂上部でパターン切れを起こす（即ち、頂上部で
は導電体膜が堆積されにくいため）可能性があ
る。尚、（T0′））はトラツクピツチである。 次に、第４図ｂに示すような形状に切溝を形成
した場合には、コイル部が形成されるスペース幅
S4を広く取ることが出来るが、反対に上部コア
（H4）のトラツク幅T3が図示の如く小さくなり、
十分なヘツド出力を得ることが出来ない。更に、
上部コア側の基板傾斜角度が急になるので、上部
コアとしての磁性体膜の形成とそのパターン化が
困難になる。 以上の理由から、本発明ではその切溝を逆二等
辺形状とし、且つその頂角を90゜〜120゜にしたも
のである。 (ヘ) 発明の効果 上述した如く本発明のマルチトラツク型薄膜磁
気ヘツドは、基板の上面側に、逆二等辺三角形状
の切溝をその頂角が90゜〜120゜になるように複数
個連続して設けると共に、該各切溝の一方の斜面
にヘツドパターンを夫々形成して、切溝のピツチ
がトラツクピツチとなるようにしたので、同トラ
ツクピツチの従来製造方法によるマルチトラツク
型薄膜磁気ヘツドに比較して、コイル部の巻回数
を多くすることが出来、そのトラツクピツチを狭
小化しても十分な起磁力を得ることが出来る。
第１図は本発明で用いる基板を示す図、第２図
は本発明によるマルチトラツク型薄膜磁気ヘツド
を示す斜視図、第３図ａ，ｂは夫々本発明による
ものと従来方法によるものとを比較するための模
式図、第４図ａ，ｂは夫々切溝の形状を変えた場
合の模式図である。 １…下部コアとしての基板、２…切溝、３…上
部コア、４…コイル部。
は本発明によるマルチトラツク型薄膜磁気ヘツド
を示す斜視図、第３図ａ，ｂは夫々本発明による
ものと従来方法によるものとを比較するための模
式図、第４図ａ，ｂは夫々切溝の形状を変えた場
合の模式図である。 １…下部コアとしての基板、２…切溝、３…上
部コア、４…コイル部。
Claims (1)
- １ 基板の上面側に、逆二等辺三角形状の切溝を
その頂角が90゜〜120゜になるように複数個連続し
て設けると共に、該各切溝の一方の斜面にヘツド
パターンを夫々形成して、切溝のピツチがトラツ
クピツチとなるようにした事を特徴とするマルチ
トラツク型薄膜磁気ヘツドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21734683A JPS60109009A (ja) | 1983-11-17 | 1983-11-17 | マルチトラック型薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21734683A JPS60109009A (ja) | 1983-11-17 | 1983-11-17 | マルチトラック型薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60109009A JPS60109009A (ja) | 1985-06-14 |
| JPH0517603B2 true JPH0517603B2 (ja) | 1993-03-09 |
Family
ID=16702732
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21734683A Granted JPS60109009A (ja) | 1983-11-17 | 1983-11-17 | マルチトラック型薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60109009A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3776359D1 (en) * | 1986-02-13 | 1992-03-12 | Sony Corp | Duennschichtmagnetkopf. |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5358219A (en) * | 1976-11-06 | 1978-05-26 | Fujitsu Ltd | Thin film magnetic head assembly |
-
1983
- 1983-11-17 JP JP21734683A patent/JPS60109009A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60109009A (ja) | 1985-06-14 |
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