JPH05185735A - 光記録要素 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 本発明は、光記録要素におけるスルホンアミ
ドもしくはアミド置換フタロシアニン色素の使用に向け
られている。 【効果】 これらの色素は、記録可能なコンパクトディ
スクに特に有用である。これらの色素は、容易に製造で
きる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光記録材料に関する。
これらの材料は、記録可能なコンパクトディスク類を製
造する際に特に有用である。

【０００２】

【従来の技術】多種多様な既知光記録材料が存在する。
多くの材料では、操作モードは、記録されていない材料
が高い吸収性を有し、そして記録された領域（ピットと
称されることが多い）が低い光学濃度もしくは高い反射
性を有することを、必要とする。高反射性ピットは、高
吸収性記録材料を蒸発し、通常下にある反射基板を露出
することにより、形成される。

【０００３】情報の光記憶に関して一般的に普及してい
る形式の一つが、コンパクトディスクもしくはＣＤであ
る。ディジタル情報は、別の反射性バックグラウンドに
おける高い光学濃度マークもしくはピットの形で、上記
光記録材料とは正反対に記憶される。このフォーマット
では、ほとんどの場合に光情報は読み取り専用記憶装置
（read only memory) もしくはＲＯＭである。通常光情
報は実時間で記録される、というよりはむしろプレス成
形により生成される。典型的な処理方法では、光記録基
板をまずディジタル情報を含むマスターでプレス成形し
て再生させる。次いでこのように形成された情報を、反
射層でオーバーコートし、続いて保護層を塗布してもし
なくてもよい。これらの変形もしくはピットを有する領
域では、変形を有さない領域よりも光学濃度が高い。

【０００４】上記商業的に有用なタイプの材料は、厳重
な必要条件を有する。これらの必要条件の１つは、光安
定性である。ＣＤが消費製品であるため、極限環境に耐
性でなければならない。例えば、原稿画像をＣＤ上に記
録した時から次の画像を記録する時までの間、そのＣＤ
は強い日光の下に置かれるかもしれない。この目的に関
して、記録層は非常に光安定性であるべきである。

【０００５】記録層に好ましい色素は、インドジカルボ
シアニン色素類である。しかしながら、このタイプの色
素は、所望の光安定性を有するとはいえず、そして事
実、強い日光の下ではほんの数日で役に立たない状態ま
で褪色するであろう。また、これらの出願は、或るフタ
ロシアニン色素、すなわち、色素の芳香環上のβ位の１
つにtert−ブチル置換基を有するフタロシアニン色素を
開示している。同様に、上記カナダ出願は、多数のフタ
ロシアニン色素を記載する。しかしながら、これらのフ
タロシアニン色素すべてが、優れた安定性を有するとは
いえ、製造が困難でありそして経費がかかる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】実時間で記録した場合
に、読み出しの上で伝統的なＣＤを模倣する記録を生成
する光記録媒体を製造することが望ましい。この方法で
は、情報をＣＤに添加でき、そしてそのＣＤを伝統的な
ＣＤプレーヤーに使用できる。

【０００７】従って、従来使用されているフタロシアニ
ン色素ほど高価でなく、光安定性である光学記録材料
が、必要とされ続けている。本発明は、この課題の解決
手段に向けられている。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明に従って、透明な
基板及び上記基板の表面上にフタロシアニン色素含有記
録層並びに光反射層を担持する記録可能な光記録要素で
あって、上記フタロシアニン色素がスルホンアミド基も
しくはアミド基をその芳香環上のβ位に置換しているこ
とを特徴とする光学記録要素を提供する。本発明に有用
なフタロシアニン色素類は、次式により表される。

【０００９】

【化１】

【００１０】上式中、Ｘ基はβ位に存在し、そしてｎ
は、各々独立して０，１及び２より選ばれ、例えば、少
なくとも１つのＸ基が、

【００１１】

【化２】

【００１２】〔上式中、Ｒ及びＲ′は、独立して水素；
炭素原子数１〜２５個のアルキル基（例えば、エチル、
ヘキシル及びデシル）；シクロアルキル基（例えば、シ
クロペンチル、シクロヘキシル及びシクロヘプチル）；
芳香族もしくは置換芳香族基（ここで置換基は、例えば
メチル及びデシルを初めとする炭素原子数１〜２０個の
アルキルのような基より選択できる）；複素環（例え
ば、２−ピリジル、２−キノイル及びチオフィル）；炭
素原子数２〜２０個のアルコール基（例えば、２−ヒド
ロキシエチル、２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチ
ル、３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピル）；炭
素原子数２〜２０個のエーテル基（例えば、２−メトキ
シエチル、５−メトキシペンチル及び３−メトキシヘプ
チル）；炭素原子数２〜２０個の酸基（例えば、２−カ
ルボキシエチル、９−カルボキシオクチル及び７−カル
ボキシヘキシル）；並びに炭素原子数２〜２０個のアル
キルチオ基（例えば、２−メルカプトプロピル、メチル
チオペンチル及び１０−メルカプトデシル）；からなる
群より選ばれる〕より選ばれる。別のＸ基は、水素もし
くは下記Ｙについて定義されるいずれかの基又は未反応
カルボキシル基もしくはスルホニル基であってもよい。

【００１３】炭化水素溶剤への色素の溶解性を改良する
ので、特に好ましいＸ基は長鎖アルキル基である。溶剤
がアルコールであることが所望される場合には、アルコ
ール基が好ましい。反射層に好ましい金属（金）に対す
る粘着性を改良するので硫黄含有基が好ましい。

【００１４】Ｙは、各々α位に存在し、そして水素；ハ
ロゲン（例えば臭素、フッ素及び塩素）；炭素原子数２
〜２０個のアルキル（例えば、エチル、イソプロピル及
びデシル）；アリールアルキル（ここで、アルキル部分
は、炭素原子数２〜２０個を有する)(例えば、トリル、
デシルフェニル及びイソブチルフェニル）；アルコキシ
（ここで、アルキル部分は、炭素原子数２〜２０個を有
する)(例えば、エトキシ、プロポキシ及びシクロヘキソ
キシ）；アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、ｐ−
エチルフェノキシ及びｐ−デシルフェノキシ）；並びに
アルキルチオ基（例えば、エチルチオ、メルカプトプロ
ピル及びフェニルチオ）から成る群より個別に選択でき
る。各々ｍの価は、０，１もしくは２でありうる。

【００１５】Ｙについての好ましい基としては、有枝ア
ルコキシ基、例えば、イソプロピルオキシ、５−エチル
オクチルオキシ、１−エチル−１−シクロヘキシルオキ
シ及び１，１−ジメチルプロピルオキシが挙げられる。

【００１６】上式中Ｍｅｔは、２Ｈ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｐ
ｔ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｕ、Ｔｉ、Ｂ
ｅ、Ｃａ、Ｂａ、Ｃｄ、Ｈｇ、ＰｂもしくはＳｎである
ことができる。また、Ｍｅｔは、ＡＩ−Ｘ、ＧａＸ、Ｔ
ｉＸ、ＩｎＸ、−ＴｉＸ、ＸＳｉＸ、ＸＧｅＸもしくは
ＸＳｎＸ、（ここで、ＸはＣｌ、Ｂｒ、Ｆ、Ｉ、ＯＨ、
Ｏ−アルキル基、ＯＣ₆ Ｈ₆ 、ＯＣ₆ Ｆ₆ 、もしくはＯ
−置換アリール基である）であることができる。

【００１７】本発明の光記録要素に用いられるフタロシ
アニン色素類は、定量的に判読可能である完全なフタロ
シアニン構造を用いて出発する方法により製造できる。
このような出発化合物の一つが、銅フタロシアニンテト
ラカルボキシアミドである。この化合物の典型的な製造
方法を以下に示すが、それは、数多くの会社より購入で
きる。それは、高収率で製造できる、例えば、下記製造
工程では、収率９１％で所望の化合物が得られた。

【００１８】本発明に有用なフタロシアニンテトラカル
ボキシアミドの誘導体類を下記表Ｉに示す。これらの誘
導体は、フタロシアニンテトラカルボキシアミドを加水
分解して対応する酸を生成し、その酸をスルホニルクロ
リドと反応させて酸塩化物を生成し、次いでその酸塩化
物を式ＨＮＲＲ′のアミンと反応させることにより、高
収率及び高純度で製造できる。

【００１９】本明細書を通して、速記表示法が、フタロ
シアニン色素類を描写するのに用いられるであろう。第
一に、Ｍｅｔが提供され、続いて塩基フタロシアニン核
を示すＰｃが、さらにフタロシアニン色素のβ位におけ
る置換基が提供される。従って、例えば、ＣｕＰｃ（Ｃ
ＯＮＨ₂)₄ は、銅フタロシアニンテトラカルボキシアミ
ドについての表示である。

【００２０】

【表１】

【００２１】

【表２】

【００２２】スルホンアミドの製造は、同様に直接的で
ある。典型的には、フタロシアニンスルホニルクロリド
は市販されており、そしてスルホンアミド類は、単にス
ルホニルクロリドを式ＨＮＲＲ′のアミンと反応させる
ことにより製造される。表IIは、有用なスルホンアミド
置換フタロシアニン色素を具体的に示している。

【００２３】

【表３】

【００２４】

【表４】

【００２５】本発明に有用な更なるスルホンアミド置換
フタロシアニン色素類を、下記表III に列挙する。

【００２６】

【表５】

【００２７】

【表６】

【００２８】

【表７】

【００２９】

【表８】

【００３０】

【表９】

【００３１】

【表１０】

【００３２】また、上記色素類の混合物が使用できる。
本発明の光記録要素の製造は、近赤外色素を、単独で又
は別の色素もしくは複数の色素と共に、あるいは適する
溶剤からの添加剤と共に、透明な支持体上に回転塗布
（spin corting) することにより達成される。塗布の
際、添加剤と共にもしくは添加剤を含まない赤外色素を
適当な溶剤に溶解して、色素が、溶剤の容量当り２０重
量部以下から１００重量部までとなるようにした。次い
で要素の色素記録層を、減圧下、抵抗加熱もしくはスパ
ッター法により金属反射層でオーバーコートし、最終的
に保護樹脂でオーバーコートした。

【００３３】基体は、光学的に透明な樹脂から、表面処
理を伴ってもしくは表面処理を行うことなく、製造でき
る。好ましい樹脂は、ポリカーボネート類及びポリアク
リレート類である。

【００３４】色素記録層用塗布溶剤は、基体へのそれら
の作用が最小限となるように選ばれる。有用な溶剤とし
ては、アルコール類、エーテル類、炭化水素類、ハロゲ
ン化炭化水素類、セロソルブ類及びケトン類が挙げられ
る。溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール、
プロパノール、ペンタノール、２，２，３，３−テトラ
フルオロプロパノール、テトラクロロエタン、ジクロロ
メタン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブ
チルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、
１−メトキシ−２−プロパノール、メチルエチルケト
ン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、ヘ
キサン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、オク
タン、ベンゼン、トルエン及びキシレンが挙げられる。
別のあまり望ましくない溶剤としては、水、ジメチルス
ルホキシド、硫酸が挙げられる。炭化水素溶剤類及びア
ルコール溶剤類は、好ましいポリカーボネート基板類に
最小限の影響しか及ぼさないので、好ましい溶剤であ
る。

【００３５】記録層に有用な添加剤としては、安定剤
類、界面活性剤類、バインダー類及び希釈剤類などが挙
げられる。

【００３６】反射層は、光記録材料に常用されるいずれ
かの材料でありうる。有用な金属は、真空蒸発もしくは
スパッターすることができ、それらとしては、金、銀、
アルミニウム及び銅並びにそれらの合金が挙げられる。

【００３７】反射層上の保護層は、同様に当該技術分野
で既知のものである。有用な材料としては、ＵＶ硬化性
アクリレート類が挙げられる。また、酸化から金属層を
守るために、中間層を存在させることができる。

【００３８】本発明の要素は、米国特許第４，９４０，
６１８号明細書に記載のあらかじめ記録させたＲＯＭ領
域を有することができる。基板の表面は、米国特許第
４，９９０，３８８号明細書に記載の分離加熱変形性層
を有することができる。これらの特許は、両方共Ｔａｉ
ｙｏ Ｙｕｄｅｎに譲渡されている。

【００３９】以下の予備例は、本発明に用いられる色素
類の製造を、具体的に説明するものである。多くの出発
材料が市販されているが（例えば、銅フタロシアニンテ
トラカルボン酸）、その製造は、完成を目的として本明
細書に含まれる。

【００４０】銅フタロシアニンテトラカルボキシアミド トリメリット酸無水物（１２３ｇ、０．６４モル）、尿
素（３０７ｇ、５．１モル）、無水塩化第二銅（２２．
３ｇ、０．１６モル、ＣｕＣｌ ２Ｈ₂ Ｏ、１０００で
減圧下一晩乾燥）、モリブデン酸アンモニウム（１．０
ｇ）及び１−クロロナフタレン（５００mL）の混合物
を、１時間に亘り１２０℃まで加熱したところ、この時
それは緑色に発色し、そして若干成形を生じた。続く１
時間に亘り１７０℃まで温度を上昇させて成形を静め
た。最終温度２００℃まで総経過時間２０時間、加熱を
続けた。クロロナフタレンを冷却した反応混合物よりデ
カンテーションし、そして水を添加した。柔らかい生成
物を分解し、そして吸引濾過し、水及びエタノールで洗
浄した。濾過ケークを１０％水性塩酸１０００mL中で一
晩攪拌し、次いで濾過して水洗して湿気を含んだケーク
を得た。そのケークを、ＤＭＦ２０００mL中１００℃で
２日間攪拌し、吸引濾過しながらＤＭＦ及びアセトンで
洗浄し、そして１２５℃減圧下、一定質量になるまで乾
燥した。赤茶けた青色の固体の収量は、１０９ｇ（９１
％）であった。Ｃ₃₆Ｈ₂ ＯＣｕＮ₁₂Ｏ₄ についての計算
値：Ｃ，５７．７９；Ｈ，２．６９；Ｃｕ，８．４９；
Ｎ，２２．４７；Ｏ，８．４９。実験値：Ｃ，５４．
０；Ｈ，３．２；Ｎ，２２．１。フィールドディソープ
ション質量分析：ｍ／ｅ ７４８−７５１。

【００４１】銅フタロシアニンテトラカルボン酸 銅フタロシアニンテトラカルボキシアミド４５．０ｇ、
５０％水性水酸化ナトリウム溶液４７５mL及び水２２０
mLの混合物を７５℃で７２時間加熱し、冷却しながら２
４時間攪拌し、水で２５００mLまで希釈し、６Ｎ塩酸１
５００mLを添加して酸性化し、そして一晩放置した。上
清を吸い取り、そして沈澱を吸引濾過しながら水で洗浄
した。さらに、風乾した濾過ケークを濃硫酸４００mL中
で１８時間攪拌し、水２５００mL中に濾過し、そして遠
心分離にかけた。沈殿を水中に再分散し、そして再度遠
心分離し、水性エタノール２０００mL中で３日間攪拌
し、そして吸引濾過した。減圧乾燥（１１５℃）した青
色粉末の収量は、３９．５ｇ（８７％）であった。Ｃ₃₆
Ｈ₁₆ＣｕＮ₈ Ｏ₈ についての計算値：Ｃ，５７．５；
Ｈ，２．１；Ｎ，１４．９。実験値：Ｃ，５７．２；
Ｈ，２．２；Ｎ，１４．８。フィールドディソープショ
ン質量分析：ｍ／ｅ ７５１−７５４。

【００４２】銅フタロシアニンテトラカルボン酸四塩化
物 銅フタロシアニンテトラカルボン酸２０．０ｇ（０．０
２７モル）及び塩化チオニル１００mLの混合物を、窒素
下で２２時間還流した。減圧下、塩化チオニルを除去
し、そして生成物をトルエンで処理して減圧デシケータ
ー中で乾燥した。暗色固体の収量は２０ｇ（９１％）で
あった。更に精製もしくは分析することなく、その物質
を用いた。赤外スペクトルは、５．７２ｐｍで中心とな
るブロードカルボニルストレッチを特徴とした。

【００４３】銅Ｎ，Ｎ′，Ｎ″，Ｎ″′−テトラフェニ
ルフタロシアニンテトラカルボキシアミド 酸塩化物４．５ｇ（０．００５６モル）及びアニリン１
００mLの混合物を２６時間還流した。冷却した反応混合
物をエチルエーテル２００mLで希釈し、吸引濾過しなが
らエチルエーテル及びエタノールで洗浄し、エタノール
１００mLで再度スラリーにし、濾過してエタノールで洗
浄し、粉砕し、そして減圧下約１００℃で乾燥させた。
収量は５．２５ｇ（８９％）であった。Ｃ₆₀Ｈ₃₆ＣｕＮ
₁₂Ｏ₄ についての計算値：Ｃ，６８．５；Ｈ，３．４；
Ｎ，１６．０。実験値：Ｃ，６５．８；Ｈ，３．７；
Ｎ，１６．１４。ＦＤＭＳ：ｍ／ｅ １０５１−１０５
４。

【００４４】Ｎ−置換銅フタロシアニンスルホンアミド
類の合成 銅フタロシアニンスルホン酸四塩化物 クロロスルホン酸（７０mL）を氷浴中で冷却し、そして
銅フタロシアニン１３．７ｇ（０．０２４モル）で荷電
させた。その混合物を２５分間に亘り１４０℃まで加熱
し、そしてその温度を５時間維持した。混合物を４５分
間に亘り約５０℃まで冷却した。次いで塩化チオニル
（３０mL）を３０分間に亘り添加した。反応混合物を
２．５時間、８０〜８５℃まで再加熱し、次いで一晩冷
却するために放置した。冷却した溶液を、水８００mL及
び氷１６００ｇの混合物にゆっくりと添加した。スルホ
クロリド化を停止する間に必要とされる氷を追加した。
吸引濾過しながら水洗して、暗青色固体２５．２ｇを得
た。減圧乾燥して残った２１ｇ（９０％）は、更なる精
製を行うことなく用いた。Ｃ₃₂Ｈ₁₂Ｃｌ₄ ＣｕＮ₈ Ｏ₈
Ｓ₄ についての計算値：Ｃ，３９．６２；Ｈ，１．２
５；Ｃｌ，１４．６２；Ｃｕ，６．５５；Ｎ，１１．５
５；Ｏ，１３．２０；Ｓ，１３．２２。実験値：Ｃ，３
６．９；Ｈ，１．５；Ｃｌ，１０．９；Ｃｕ，５．６；
Ｎ，１０．５；Ｓ，１３．８。燃焼分析は構造ＣｕＰｃ
（ＳＯ₂ Ｃｌ)₃（ＳＯ₃ Ｈ）と一致した。

【００４５】銅Ｎ，Ｎ′，Ｎ″，Ｎ″′−テトラピリジ
ルテトラスルホンアミドフタロシアニン 水６０mL中、銅フタロシアニンテトラスルホン酸四塩化
物（４．８５ｇ、０．００２８モル）、２−アミノピリ
ジン（２．３５ｇ、０．０２５モル）及び重炭酸ナトリ
ウム（１．３５ｇ）のスラリーを、７０℃で２４時間加
熱した。冷却した混合物を水１００mLで希釈し、そして
吸引濾過して暗青色固体１．８６ｇを得た。分析値は、
タイトルの化合物と一致した。

【００４６】ＣｕＰｃ〔ＳＯ₂ ＮＨＣＨ₂ Ｃ（ＣＨ₂ Ｏ
Ｈ）〕_2.5 の製造 １分子当り平均約２．５のスルホニルクロリドを含む水
−湿性銅フタロシアニンスルホニルクロリドの試料（３
００ｇ、３０固体−乾量基準１００ｇ）を、反応を促進
するために溶液をよく攪拌し、０〜５℃に外部氷−水冷
却しながら、テトラヒドロフラン（５００mL）及び３−
アミノ−２，２−ジメチルプロピル（１００mL）を含む
ビーカーに添加した。その反応混合物を徐々に室温まで
温ため、そして１２時間攪拌し続け、次いで希塩酸（pH
＜５〜６）２Ｌ中に注ぎ入れた。青色固体を濾取し、湿
性濾過ケークを５％塩酸２Ｌ中で再びスラリーにし、減
圧濾過した。水分のほとんどを減圧濾過により取り除
き、そして風乾し、次いでまだ幾分湿った濾過ケーク
を、テトラヒドロフラン（２５０mL）に添加し、そして
減圧下、テトラヒドロフランと水を除去してすっかり乾
燥した生成物にした。この生成物を薄層クロマトグラフ
ィーにかけたところ、スルホン酸誘導体のどれかである
と推測される、少量の極めて極性の副生成物を示した。
この化合物は、更に精製することなく使用できる。

【００４７】スルホン酸誘導体のほとんどを除去するた
めに、粗物質の一部（２５ｇ）をテトラヒドロフラン
（１００mL）に溶解し、次いで塩化メチレンを用いた粗
いガラス濾過器でのクロマトグラフィーにかけ、続いて
これ以上青色物質が溶出されなくなるまで、塩化メチレ
ン：テトラヒドロフラン（５０：５０ｖ／ｖ）で溶出す
ることによって、更なる精製を達成させた。流出液を合
わせ、そして減圧下で溶剤を除去して、実質的にいかな
るスルホン酸誘導体も含まないシアン生成物（１８．８
ｇ）を得た。その化合物は、式ＣｕＰｃ〔ＳＯ₂ ＮＨＣ
Ｈ₂ Ｃ（ＣＨ₂ ＯＨ）〕_2.5 で示される。

【００４８】ＣｕＰｃ〔ＳＯ₂ ＮＨＣ（ＣＨ₃)₂ ＣＨ₂
ＯＨ〕_2.5 の製造 １分子当り平均約２．５のスルホニルクロリド基を含む
水−湿性銅フタロシアニンスルホニルクロリドの試料
（３００ｇ、３０％固体−乾量基準１００ｇ）を、２−
アミノ−２−メチル−１−プロパノール（１００mL）と
反応させ、そしてその生成物をクロマトグラフィーにか
けたところ、式ＣｕＰｃ〔ＳＯ₂ ＮＨＣ（ＣＨ₃)₂ ＣＨ
₂ ＯＨ〕_2.5 により表されるスルホンアミド誘導体が得
られた。

【００４９】

【実施例】以下の例は、本発明を更に理解するために提
供する。

【００５０】例１ 厚さ１．２mm、外径１２０mm及び内径１５mmを有し、そ
して幅０．４μｍ、深さ０．１４μｍ及びピッチ１．６
μｍでその表面上にあらかじめ形成されたスパイラル状
の溝を有するポリカーボネートディスク基板を、射出成
形した。

【００５１】光吸収層を形成するために、上記のように
製造したＣｕＰｃ〔ＣＨ₂ Ｃ（ＣＨ ₃)₂ ＣＨ₂ ＯＨ〕
_2.5 １重量部を、メチルセロソルブ（２−メトキシエタ
ノールとして既知である）５０容量部に、室温で２時間
溶液を攪拌することにより溶解した。次いで、その溶液
を０．２μフィルターを介して濾過し、そして回転塗布
により、６８０nmでの光学濃度０．８となるまで基板表
面上に塗布した。そのディスクを８２℃で１５分間乾燥
した。

【００５２】金反射層を、厚さ１０００Ａになるまでス
パッタリングにより、このディスクの表面全体に蒸着さ
せた。

【００５３】光ディスクを試験するために、レーザ７８
５nm、レンズＮＡ０．５、フェーズトラッキング及び開
口フォーカシング１／２を備えた光学ヘッドから成る試
験システムを用いた。レンズ等を用いて光を円形に偏光
し、レーザーフィードバック効果を低減した。読取りパ
ワーを０．６ｍＷに維持した。

【００５４】記録及び再生を、２．８ｍ／ｓで実施し
た。単一周波数を、マーク長１．５ミクロンで記録し
た。書込みパワー２０ｍＷを、３０ＫＨz フィルターを
介して測定し、ＣＮＲは５４dBであった。

【００５５】例２ ＣｕＰｃ〔ＳＯ₂ ＮＨＣ（ＣＨ₃)₂ ＣＨ₂ ＯＨ〕₃ の溶
液を、例１のように調製した。色素を、６８０nmでの光
学濃度０．６６となるまで、基板表面上に回転塗布し
た。それを８２℃で１５分間乾燥した。

【００５６】金反射層を、厚さ１０００Ａになるまでス
パッタリングにより、ディスク表面全体に蒸着させた。
例１と同様の試験方法を用いた。本例では、書込みパワ
ー２１ｍＷで、ＣＮＲが実測５１dBであった。

【００５７】例３ ＣｕＰｃ〔ＳＯ₂ ＮＨ−２−ピリジル〕₄ １重量部の
溶液を、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール
５０容量部を用いて調製した。その色素溶液を、６８０
nmでの光学濃度０．５となるまで回転塗布した。それを
８２℃で１５分間乾燥した。

【００５８】金反射層を、厚さ１０００Ａになるまでス
パッタリングにより、ディスク表面全体に蒸着させた。
例１と同様の試験方法を用いた。本例では、書込みパワ
ー１４ｍＷで、ＣＮＲが実測４８dBであった。

【００５９】例４ ＣｕＰｃ〔ＳＯ₂ ＮＨ−２−ピリジル〕₄ １重量部及
び２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール１００
容量部中色素添加剤ＣｕＰｃ〔ＣＨ₂ Ｎ（ＣＨ ₂ ＣＨ₂
ＣＨ₂ ＣＨ₃)₂ 〕₄ １重量部の溶液を調整した。

【００６０】金反射層を、厚さ１０００Ａになるまでス
パッタリングにより、ディスク表面全体に蒸着させた。
例１と同様の試験方法を用いた。本例では、書込みパワ
ー１８ｍＷで、ＣＮＲが実測５３dBであった。

【００６１】

【発明の効果】本発明は、記録可能であり、次いで伝統
的なＣＤ型読取り装置を用いて読取り可能である光記録
要素を提供する。本発明の光記録要素は、容易に製造さ
れ、それ由に経費のかからないフタロシアニン色素を使
用するものである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジェームズ ジョン クルタク アメリカ合衆国，テネシー 37663，キン グスポート，ブース コート 6305

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明な基板及び上記基板の表面上にフタ
   ロシアニン色素含有記録層並びに光反射層を担持する記
   録可能な光記録要素であって、上記フタロシアニン色素
   がスルホンアミド基もしくはアミド基をその芳香環上の
   β位に置換していることを特徴とする光記録要素。