JPH05189712A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ラミネート層の膜厚が異なる広トラック用と
狭トラック用コアブロックを並置して一斉にスライスす
ることにある。 【構成】 磁気ヘッドの製造のスライス工程において、
ラミネート層（3a）の膜厚（Ta）が大きい接合一体化の
広トラック用コアブロック（6a）に対して、ラミネート
層（3b）の膜厚（Tb）が小さい接合一体化の狭トラック
用コアブロック（6b）について、非磁性体板（4）とラ
ミネート層（3b）との間に非磁性体材（7）を介在させ
る。即ち、広トラック用と狭トラック用コアブロック
（6a）（6b）での非磁性体板（4）の厚みを同一とし、
広トラック用コアブロック（6a）でのラミネート層（3
a）の膜厚（Ta）と、狭トラック用コアブロック（6b）
でのラミネート層（3b）の膜厚（Tb）及び非磁性体材
（7）の膜厚（D）の合計膜厚（L）とを一致させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気ヘッドの製造方法に
関し、詳しくは、ＶＴＲ装置に使用され、高飽和磁束密
度を有する金属磁性膜と絶縁薄膜とを交互に積層したラ
ミネート層を非磁性体板で挟み込んだ積層タイプの磁気
ヘッドの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、高密度記録用のＶＴＲ装置に使
用される磁気ヘッドには、高飽和磁束密度を有する金属
磁性膜と絶縁薄膜とを交互に積層したラミネート層を非
磁性体板で挟み込んだ積層タイプのものがある。

【０００３】この種の磁気ヘッドは、以下の工程を経て
製造されるのが一般的である。

【０００４】まず、図４に示すように高飽和磁束密度を
有するセンダスト等の金属磁性膜（1）とＡｌ₂Ｏ₃やＳ
ｉＯ₂等の絶縁薄膜（2）とを交互に積層したラミネート
層（3）をスパッタリングにより非磁性体板（4）上に被
着形成する。このラミネート層（3）が形成された非磁
性体板（4）を複数枚用意し、図５に示すように複数枚
の非磁性体板（4）を重ね合わせてガラス溶着により一
体化してコア母材（5）を製作する。そして、図中鎖線
で示すようにそのコア母材（5）を非磁性体板（4）の重
ね合わせ方向に沿って切断することにより図６に示す一
対のコアブロック（6）を切り出す。

【０００５】その後、図示しないが一方のコアブロック
（6）に巻線窓用溝を切削加工した上で、図７に示すよ
うに切り出された一対のコアブロック（6）をギャップ
スペーサとなるＳｉＯ₂等の非磁性体薄膜〔図示せず〕
を介して突き合わせてガラス溶着により接合一体化す
る。そして、図示しないが接合一体化されたコアブロッ
ク（6）に巻線係止用溝を切削加工すると共に曲面研磨
加工により媒体摺動面を形成した上で、図中鎖線で示す
ようにコアブロック（6）をその短手方向に沿って定ピ
ッチでコアチップごとにスライスする。これにより、金
属磁性膜（1）と絶縁薄膜（2）とを交互に積層したラミ
ネート層（3）を非磁性体板（4）で挟み込んだ構造の磁
気ヘッドが製造されることになる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記磁気ヘ
ッドには種々のものがあり、例えば、磁気ギャップのト
ラック幅が大きい広トラックのものと、トラック幅が小
さい狭トラックのものがある。このトラック幅がラミネ
ート層（3）の膜厚であるため、磁気ヘッドの製造で
は、図８に示すようにラミネート層（3）〔以下（3a）
と付す〕の膜厚（Ta）が大きい広トラック用コアブロッ
ク（6）〔以下（6a）と付す〕とラミネート層（3）〔以
下（3b）と付す〕の膜厚（Tb）が小さい狭トラック用コ
アブロック（6）〔以下（6b）と付す〕とを取り扱うこ
とになる。

【０００７】このようにラミネート層（3a）（3b）の膜
厚（Ta）（Tb）が異なるコアブロック（6a）（6b）で
は、同図に示すように同一厚みの非磁性体板（4）に対
してラミネート層（3a）（3b）の膜厚（Ta）（Tb）が異
なるため、広トラック用コアブロック（6a）よりも狭ト
ラック用コアブロック（6b）の方がその長手方向で短く
なる。

【０００８】その結果、磁気ヘッドの製造において、接
合一体化したコアブロック（6a）（6b）をコアチップご
とにスライスするに際して、両コアブロック（6a）（6
b）でスライス基準点（Sa）（Sb）〔図中黒丸〕がずれ
て相互にスライスピッチが異なってくるため、ラミネー
ト層（3a）（3b）の膜厚（Ta）（Tb）が異なるコアブロ
ック（6a）（6b）を並置して一斉にスライスすることが
不可能で、それぞれのコアブロック（6a）（6b）を別々
にスライスする以外にないという問題があった。

【０００９】そこで、本発明は上記問題点に鑑みて提案
されたもので、その目的とするところは、ラミネート層
の膜厚が異なる広トラック用と狭トラック用コアブロッ
クを並置して一斉にスライスし得る磁気ヘッドの製造方
法を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の技術的手段として、本発明は、高飽和磁束密度を有す
る金属磁性膜と絶縁薄膜とを交互に積層したラミネート
層を非磁性体板に形成し、その複数の非磁性体板をガラ
ス溶着により一体化してコア母材とし、そのコア母材か
ら一対の長尺なコアブロックを切り出した上で突き合わ
せて接合一体化する工程の後、ラミネート層の膜厚が異
なる複数種のコアブロックを並置した状態でその短手方
向に沿って定ピッチでコアチップごとにスライスするに
際して、ラミネート層の膜厚が小さいコアブロックでの
スライス基準点を、ラミネート層の膜厚が大きいコアブ
ロックでのスライス基準点に一致させるようにしたこと
を特徴とする。

【００１１】上記スライス基準点を一致させる具体的手
段として、第一に、ラミネート層の膜厚が小さいコアブ
ロックのラミネート層と非磁性体板との間に非磁性体材
を介在させ、そのラミネート層と非磁性体材との合計膜
厚を、ラミネート層の膜厚が大きいコアブロックのラミ
ネート層の膜厚と一致させる。

【００１２】第二に、ラミネート層の膜厚が大きいコア
ブロックのラミネート層の膜厚とラミネート層の膜厚が
小さいコアブロックのラミネート層との差の分だけ、ラ
ミネート層の膜厚が小さいコアブロックの非磁性体板の
厚みを大きくする。

【００１３】第三に、ラミネート層の膜厚が小さいコア
ブロックのコア母材からの切り出しを斜め方向とし、そ
のラミネート層を、ラミネート層の膜厚が大きいコアブ
ロックのラミネート層に対して傾斜配置する。

【００１４】

【作用】本発明方法では、ラミネート層の膜厚が小さい
コアブロックでのスライス基準点を、ラミネート層の膜
厚が大きいコアブロックでのスライス基準点に一致させ
るようにしたから、両コアブロックについてスライスピ
ッチを同一に設定することができるため、異種のコアブ
ロックを並置した状態で一斉にスライスすることが実現
可能となる。

【００１５】

【実施例】本発明方法の実施例を図１乃至図３に示して
説明する。尚、図４乃至図８と同一部分には同一参照符
号を付して重複説明は省略する。

【００１６】本発明方法の特徴は、図１に示すようにラ
ミネート層（3a）（3b）の膜厚（Ta）（Tb）が異なる広
トラック用と狭トラック用コアブロック（6a）（6b）を
並置した状態でその短手方向に沿って定ピッチでコアチ
ップごとにスライスするに際して、ラミネート層（3b）
の膜厚（Tb）が小さい狭トラック用コアブロック（6b）
でのスライス基準点（Sb）を、ラミネート層（3a）の膜
厚（Ta）が大きい広トラック用コアブロック（6a）での
スライス基準点（Sa）に一致させることにある。

【００１７】この両コアブロック（6a）と（6b）でのス
ライス基準点（Sa）と（Sb）を一致させる具体的手段と
して、以下の各実施例に基づいて詳述する。

【００１８】まず、第１の実施例では、図１（ａ）に示
すようにラミネート層（3a）の膜厚（Ta）が大きい接合
一体化の広トラック用コアブロック（6a）に対して、同
図（ｂ）に示すようにラミネート層（3b）の膜厚（Tb）
が小さい接合一体化の狭トラック用コアブロック（6b）
について、非磁性体板（4）とラミネート層（3b）との
間に非磁性体材（7）を介在させる。即ち、広トラック
用と狭トラック用コアブロック（6a）（6b）での非磁性
体板（4）の厚みを同一とし、広トラック用コアブロッ
ク（6a）でのラミネート層（3a）の膜厚（Ta）と、狭ト
ラック用コアブロック（6b）でのラミネート層（3b）の
膜厚（Tb）及び非磁性体材（7）の膜厚（D）の合計膜厚
（L）とを一致させる。

【００１９】尚、上記狭トラック用コアブロック（6b）
は、非磁性体板（4）上に非磁性体材（7）をスパッタリ
ングにより被着形成し、その上にラミネート層（3b）を
積層形成したコア母材（5）から切り出すことによって
製作される。この時、非磁性体材（7）の膜厚（D）は広
トラック用コアブロック（6a）のラミネート層（3a）の
膜厚（Ta）と狭トラック用コアブロック（6b）のラミネ
ート層（3b）の膜厚（Tb）との差に相当する。

【００２０】次に、第２の実施例では、図２（ａ）に示
すようにラミネート層（3a）の膜厚（Ta）が大きい広ト
ラック用コアブロック（6a）に対して、同図（ｂ）に示
すようにラミネート層（3b）の膜厚（Tb）が小さい狭ト
ラック用コアブロック（6b）について、非磁性体板
（4）〔以下（4b）と付す〕の厚み（Eb）を大きくす
る。即ち、広トラック用コアブロック（6a）での非磁性
体板（4）〔以下（4a）と付す〕の厚み（Ea）とラミネ
ート層（3a）の膜厚（Ta）との合計厚み（Fa）と、狭ト
ラック用コアブロック（6b）での非磁性体板（4b）の厚
み（Eb）とラミネート層（3b）の膜厚（Tb）との合計厚
み（Fb）とを同一とする。

【００２１】尚、上記狭トラック用コアブロック（6b）
は、広トラック用コアブロック（6a）で使用する非磁性
体板（4a）の厚み（Ea）よりも厚み（Eb）の大きい非磁
性体板（4b）を使用する。この時、狭トラック用と広ト
ラック用コアブロック（6b）（6a）での非磁性体板（4
b）（4a）の厚み（Eb）（Ea）の差は、両コアブロック
（6a）（6b）でのラミネート層（3a）（3b）の膜厚（T
a）（Tb）の差に相当する。

【００２２】最後に、第３の実施例では、図３（ａ）に
示すようにラミネート層（3a）の膜厚（Ta）が大きい広
トラック用コアブロック（6a）に対して、同図（ｂ）に
示すようにラミネート層（3a）の膜厚（Tb）が小さい狭
トラック用コアブロック（6b）について、ラミネート層
（3a）（3b）が非平行状態で、広トラック用コアブロッ
ク（6a）のラミネート層（3a）に対して狭トラック用コ
アブロック（6b）のラミネート層（3b）を傾斜配置す
る。

【００２３】尚、上記狭トラック用コアブロック（6b）
は、広トラック用コアブロック（6a）の非磁性体板
（4）と同一厚みの非磁性体板（4）上にラミネート層
（3b）を形成したコア母材（5）から切り出す際に成膜
方向に対して所定の角度斜め方向に沿って切断すること
により得られる。この時、ラミネート層（3b）の傾斜角
度は、広トラック用コアブロック（6a）のラミネート層
（3a）の膜厚（Ta）と狭トラック用コアブロック（6b）
のラミネート層（3b）の膜厚（Tb）との差に対応させて
設定される。

【００２４】以上、説明した第１乃至第３の各実施例で
は、広トラック用と狭トラック用コアブロック（6a）
（6b）とでそれぞれのスライス基準点（Sa）と（Sb）と
が一致することになり、両コアブロック（6a）（6b）に
ついてスライスピッチを同一に設定することができて広
トラック用と狭トラック用コアブロック（6a）（6b）と
を並置した状態で一斉にスライスすることが可能とな
る。

【００２５】

【発明の効果】本発明方法によれば、ラミネート層の膜
厚が小さいコアブロックでのスライス基準点を、ラミネ
ート層の膜厚が大きいコアブロックでのスライス基準点
に一致させるようにしたから、両コアブロックについて
スライスピッチを同一に設定することができるため、異
種のコアブロックを並置した状態で一斉にスライスする
ことが実現可能となるので、磁気ヘッドの製造、特に、
コアブロックのスライス工程において作業性が大幅に向
上し、生産性に優れた実用的価値大なる磁気ヘッドの製
造方法を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明方法の第１の実施例を説明するためのも
ので、（ａ）は広トラック用コアブロックを示す平面
図、（ｂ）は狭トラック用コアブロックを示す平面図

【図２】本発明方法の第２の実施例を説明するためのも
ので、（ａ）は広トラック用コアブロックを示す平面
図、（ｂ）は狭トラック用コアブロックを示す平面図

【図３】本発明方法の第３の実施例を説明するためのも
ので、（ａ）は広トラック用コアブロックを示す平面
図、（ｂ）は狭トラック用コアブロックを示す平面図

【図４】非磁性体板上にラミネート層を形成した状態を
示す斜視図

【図５】ラミネート層が形成された非磁性体板を複数重
ね合わせたコア母材を示す斜視図

【図６】コア母材から切り出された一対のコアブロック
を示す斜視図

【図７】一対のコアブロックを突き合わせて接合一体化
した状態を示す斜視図

【図８】スライス工程での問題を説明するためのもの
で、（ａ）は広トラック用コアブロックを示す平面図、
（ｂ）は狭トラック用コアブロックを示す平面図

【符号の説明】

1 金属磁性膜 2 絶縁薄膜 3(3a、3b) ラミネート層 4(4a、4b) 非磁性体板 5 コア母材 6(6a、6b) コアブロック 7 非磁性体材 Sa、Sb スライス基準点 Ta、Tb ラミネート層の膜厚 L ラミネート層と非磁性体材との合計膜厚 Ea、Eb 非磁性体板の厚み

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 高飽和磁束密度を有する金属磁性膜と絶
   縁薄膜とを交互に積層したラミネート層を非磁性体板に
   形成し、その複数の非磁性体板をガラス溶着により一体
   化してコア母材とし、そのコア母材から一対の長尺なコ
   アブロックを切り出した上で突き合わせて接合一体化す
   る工程の後、ラミネート層の膜厚が異なる複数種のコア
   ブロックを並置した状態でその短手方向に沿って定ピッ
   チでコアチップごとにスライスするに際して、 ラミネート層の膜厚が小さいコアブロックでのスライス
   基準点を、ラミネート層の膜厚が大きいコアブロックで
   のスライス基準点に一致させるようにしたことを特徴と
   する磁気ヘッドの製造方法。
2. 【請求項２】 請求項１記載のラミネート層の膜厚が異
   なる複数種のコアブロックでのスライス基準点を一致さ
   せるに際して、 ラミネート層の膜厚が小さいコアブロックのラミネート
   層と非磁性体板との間に非磁性体材を介在させ、そのラ
   ミネート層と非磁性体材との合計膜厚を、ラミネート層
   の膜厚が大きいコアブロックのラミネート層の膜厚と一
   致させるようにしたことを特徴とする磁気ヘッドの製造
   方法。
3. 【請求項３】 請求項１記載のラミネート層の膜厚が異
   なる複数種のコアブロックでのスライス基準点を一致さ
   せるに際して、 ラミネート層の膜厚が大きいコアブロックのラミネート
   層の膜厚とラミネート層の膜厚が小さいコアブロックの
   ラミネート層との差の分だけ、ラミネート層の膜厚が小
   さいコアブロックの非磁性体板の厚みを大きくすること
   を特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
4. 【請求項４】 請求項１記載のラミネート層の膜厚が異
   なる複数種のコアブロックでのスライス基準点を一致さ
   せるに際して、 ラミネート層の膜厚が小さいコアブロックのコア母材か
   らの切り出しを斜め方向とし、そのラミネート層を、ラ
   ミネート層の膜厚が大きいコアブロックのラミネート層
   に対して傾斜配置するようにしたことを特徴とする磁気
   ヘッドの製造方法。