JPH05189740A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ＣｏＣｒＰｔＮｉ系磁性膜を設けた磁気記録
媒体において、その保磁力を向上し、ノイズを低減し、
さらに飽和磁化を好ましいものにした。 【構成】 磁気記録媒体の磁性膜を、原子％でＮｉ５〜
１５％、Ｃｒ１〜１５％、Ｐｔ１〜１２％、残部Ｃｏか
らなる合金によって形成した。また前記磁性膜合金にＲ
ｕやＴｉを添加してもよい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば磁気ヘッドとの
間において情報の記録および再生を行なうための磁気記
録媒体に関し、特にノイズを低減し、かつ保磁力を向上
したものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスク装置では、磁気記録媒体に
微小間隔で磁気ヘッドを対向させ、磁気記録媒体に記録
された磁気情報を磁気ヘッドが読みとったり、磁気ヘッ
ドから磁気記録媒体に磁気的に記録するようになってい
る。磁気記録媒体は、基板材料にＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、Ｃ
ｏ−Ｃｒ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ等の合金からなる磁
性膜を被着して形成されており、最近では磁気記録媒体
を高記録密度にするため、磁性膜の保磁力を大きくする
ことが種々提案されている。

【０００３】例えば特開平１−２５６０１７号公報に
は、磁性膜をＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ−Ｐｔの四元系合金で作
成した磁気記録媒体が開示されている。そしてＰｔ添加
量１〜１５ａｔ％で保磁力が約１２００Ｏｅより大き
く、また角形比が０．８以上になるとしている。また外
国専門誌Magnetism and Magnetic Materials. 86 (199
0) 159-168.には、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ磁性膜においてＰ
ｔの含有量により磁気特性がどのような影響を受けるか
を記載している。そして図１（ｂ）に示すようにＰｔ１
２ａｔ％で保磁力が１０００Ｏｅ以上になり、角形比は
Ｐｔ６〜１８％で０．７〜０．９になり、また残留磁化
及び飽和磁化についても図１（ａ）に示す傾向があると
している。

【０００４】さらに特開平１−２３２５２２号公報に
は、磁気記録媒体の磁性膜として、Ｎｉの添加量が３０
％以下のＣｏＮｉ系合金で作成したものが開示されてい
る。そしてＮｉの添加量を３０％以下にしたのは、それ
以上に添加すると磁性膜の残留磁化が大幅に低下し、電
磁変換特性が劣化するためであると記載している。また
ＣｏＮｉ系合金で作成した磁性膜は、保磁力が７００〜
１５００Ｏｅとなり、飽和磁化が８０００〜１３９００
ガウスになるとしており、さらに耐食性が向上すると記
載している。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術に記載し
たように、Ｃｏ系合金を使用した磁性膜が種々作成され
ているが、保磁力、残留磁化、Ｓ／Ｎ比の全てが十分に
好ましいものは得られていない。またＣｏ系合金にＮｉ
を添加した材料により作成した磁性膜は、保磁力と飽和
磁化の点において満足できるが、Ｓ／Ｎ比が小さくノイ
ズを十分に低減できないものがあった。これは、Ｎｉを
３０％以下の添加量としていて、Ｓ／Ｎ比の向上を考慮
していないためである。そこで本発明は、磁気記録媒体
の保磁力を向上するとともに、ノイズを低減しさらに飽
和磁化を好ましいものにすることを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、ＣｏＣｒ
ＰｔにＮｉを種々の割合で添加した合金により磁性膜を
作成し、保磁力、Ｓ／Ｎ比、飽和磁化の全てにおいて望
ましい磁性膜を完成した。すなわち本発明の磁気記録媒
体は、その磁性膜を、原子％でＮｉ５〜１５％、Ｃｒ１
〜１５％、Ｐｔ１〜１２％、残部Ｃｏからなる合金によ
って作成した。また本発明は、磁性膜を前記組成に対し
てＲｕを０．１〜５％添加して作成したり、あるいはさ
らにＴｉを０．１〜５％添加して作成したものを含む。
上記においてＮｉを５〜１５％とし、Ｃｒを１〜１５％
とし、Ｐｔを１〜１２％としたのは、それら範囲外では
Ｓ／Ｎ比が劣るためである。またＲｕとＴｉの添加量を
前記範囲にしたのは、それ以外では耐食性が劣るからで
ある。

【０００７】

【作用】上記の磁気記録媒体は、磁性膜がＣｏＮｉＣｒ
Ｐｔの四元系元素からなり、Ｎｉは５〜１５原子％含有
するようにしたので、保磁力が１２００Ｏｅ以上と大き
く、Ｓ／Ｎ比は３０ｄＢ以上となってノイズの低減を図
ることができ、さらに飽和磁化が１０Ｋガウス以上にな
るので電磁変換特性を好ましいものにすることができ
る。

【０００８】

【実施例】３．５インチ径のアルミニウム合金基板（外
径９５ｍｍ、内径２５ｍｍ、厚さ１．２７ｍｍ）の表面
にＮｉＰ無電解メッキ膜を５〜１５μｍの厚さに形成
し、表面を鏡面加工してディスクを作成した。このディ
スクを洗浄後、表面にテクスチャー加工をし、表面の面
粗さをＲａ７ｎｍとした。再びディスクを洗浄後、ＤＣ
マグネトロンスパッター装置を用い、スパッタ室内を１
×１−^-5Ｔｏｒｒ以下に排気後、Ａｒガスを導入し、室
内の圧力を５ｍｍＴｏｒｒに保持し、投入圧力２０００
Ｗ、成膜速度４０ｎｍ／分の条件で下地Ｃｒ層を５０ｎ
ｍの厚さに成膜した。この時、ディスクの温度は２００
℃であった。さらにこの下地膜の上に磁性膜を成膜し
た。なお磁性膜はＣｏＮｉＣｒＰｔ合金（表１に示す）
と、それにＲｕを添加した合金（表２に示す）、さらに
Ｔｉを添加した合金（表２に示す）で作成した。磁性膜
のスパッタ時の投入電力は２００Ｗ、成膜速度１００ｎ
ｍ／分で膜厚を５０ｎｍとした。この全工程中における
ディスク温度は、ほぼ２００℃に保った。さらに磁性膜
上に保護膜としてカーボン膜を成膜し、その成膜条件は
投入電力１０００Ｗ、成膜速度８ｎｍ／分で厚さを３０
ｎｍとした。

【０００９】上記のようにして作成した磁気記録媒体に
ついて、保磁力Ｈｃ、飽和磁化４πＭｓおよび残留磁化
４πＭｒをＶＳＭを用い印加磁場１０Ｋガウスで測定し
た。測定に使用した磁気ヘッドは、ＣａＴｉＯ₃ をスラ
イダー材とし、ＭｎＺｎフェライトにセンダストの薄膜
をスパッターで成膜したＭＩＧヘッドを用いた。また磁
気ヘッドのトラック幅は１３μｍ、スライダー幅は６０
０μｍ、ジンバルバネ圧９．５ｇで、ディスクの半径は
２４ｍｍの位置でディスク回転数３６００ｒｐｍの条件
で測定した。

【００１０】まずディスクに線記録密度３０ＫＦｃｌで
書き込み、０〜２０ＭＨｚの帯材でノイズを含まない再
生信号をスペクトロアナライザーにより測定する。次に
使用した測定機器の磁気ヘッドを含むノイズを同一条件
で測定し、さらにｒｍｓ電圧側を使用してノイズ電力を
測定し、更生用データとする。媒体ノイズは、再生時の
ノイズより測定機器ノイズを差し引いた値を、ｒｍｓ値
更生用データと比較参照し、算出した。このような方法
で磁気記録媒体のＳ／Ｎ比を用いた。そして得られた測
定結果を下記の表１に示した。表１よりＰｔ含有量が１
％未満および１５％より大きいとＳ／Ｎ比が劣る。また
Ｃｒは含有させない場合、および１８％以上ではＳ／Ｎ
比が劣り、Ｎｉは３％未満、および１８％以上ではＳ／
Ｎ比が劣ることがわかる。また表１より飽和磁化に関し
ては、Ｐｔ含有量が１５％と多くなると劣り、残留磁化
に関しては、Ｃｒ添加量が１８％と多くなると劣ってい
る。さらに保磁力に関しては、Ｐｔの添加量が０になる
と劣っている。以上より磁性膜を、原子％でＮｉ５〜１
５％、Ｃｒ１〜１５％、Ｐｔ１〜１２％、残部Ｃｏから
なる合金によって作成するのが望ましい。また表２から
Ｒｕは０．１〜５．０％、Ｔｉは０．１〜５．０％にす
るのがＳ／Ｎの点から望ましい。

【００１１】

【表１】

【００１２】

【表２】

【００１３】

【発明の効果】本発明の磁気記録媒体は、ＣｏＮｉＣｒ
Ｐｔの四元系元素でＮｉを５〜１５％にした合金で磁性
膜を作成しているので、Ｓ／Ｎ比が大きくなってノイズ
が低減され、しかも残留磁化がある程度大きいために電
磁変換特性が向上し、さらに保磁力も向上したものとな
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来例の磁性膜の残留磁化と飽和磁化とを示す
図（ａ）と、保磁力と角形比を示す図（ｂ）である。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性材料からなる基板の表面に、非磁
   性材料からなる下地膜を介して磁性材料からなる磁性膜
   を設けてなる磁気記録媒体において、磁性膜を原子％で
   Ｎｉ５〜１５％、Ｃｒ１〜１５％、Ｐｔ１〜１２％、残
   部Ｃｏからなる合金によって形成したことを特徴とする
   磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 非磁性材料からなる基板の表面に、非磁
   性材料からなる下地膜を介して磁性材料からなる磁性膜
   を設けてなる磁気記録媒体において、磁性膜を原子％で
   Ｎｉ５〜１５％、Ｃｒ１〜１５％、Ｐｔ１〜１２％、Ｒ
   ｕ０．１〜５％、残部Ｃｏからなる合金によって形成し
   たことを特徴とする磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 請求項２の磁気記録媒体において、磁性
   膜を形成する合金にさらにＴｉを原子％で０．１〜５％
   添加させた磁気記録媒体。