JPS61168736A - クリ−ンル−ム - Google Patents
クリ−ンル−ムInfo
- Publication number
- JPS61168736A JPS61168736A JP60007525A JP752585A JPS61168736A JP S61168736 A JPS61168736 A JP S61168736A JP 60007525 A JP60007525 A JP 60007525A JP 752585 A JP752585 A JP 752585A JP S61168736 A JPS61168736 A JP S61168736A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- clean
- air
- room
- clean room
- ceiling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
- F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
- F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
- F24F3/167—Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Ventilation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本・発明は、半導体の製造などで必要とする清浄な作業
環境を作り出すためのクリーンルームに係り、特にクリ
ーンルーム内で発生した微粒子も室内に滞留することな
く、速やかに室外へ除去するのに好適なりリーンルーム
に関する。
環境を作り出すためのクリーンルームに係り、特にクリ
ーンルーム内で発生した微粒子も室内に滞留することな
く、速やかに室外へ除去するのに好適なりリーンルーム
に関する。
クリーンルーム内で発生した塵埃を製品から遠ざける方
法として１例えば特開昭５８−１２９１２５号公報に示
されるように、作業部の清浄気漣の平均風速を通路部の
清浄気流の平均流速以上に保ち、通路部で発生した塵埃
が作業部へ拡散しないような気流の分布とするものが知
られている。しかし。
法として１例えば特開昭５８−１２９１２５号公報に示
されるように、作業部の清浄気漣の平均風速を通路部の
清浄気流の平均流速以上に保ち、通路部で発生した塵埃
が作業部へ拡散しないような気流の分布とするものが知
られている。しかし。
この方法では作業部で発生した塵埃については、２九を
作業部から除去する手段について配慮されていなかった
。
作業部から除去する手段について配慮されていなかった
。
まず、従来半導体製造工程に用いられていたクリーンル
ームの代表的な例である全面ダウンフロ一方式クリーン
ルームを第１図に示す。１は建屋、２はクリーンルーム
室内、３は高性能フィルタ、４は照明灯、５は整流格子
、６は法条孔板、７は側壁、８は空調用給気ダクト、９
は空調用戻りダクト、１０は露光、エツチング、拡散、
メタライズ等の作業用機器、１１は作業用機器を設置し
た作業部である。図中矢印で示すように高性能フィルタ
３で処理された清浄空気は天井全面より室内２に吹き出
し、室内空気は床下を通って排出される。これにより、
室内全体をほぼ一様な清浄度に維持し、全工程の作業を
この清浄雰囲気中で行えるようにしている。
ームの代表的な例である全面ダウンフロ一方式クリーン
ルームを第１図に示す。１は建屋、２はクリーンルーム
室内、３は高性能フィルタ、４は照明灯、５は整流格子
、６は法条孔板、７は側壁、８は空調用給気ダクト、９
は空調用戻りダクト、１０は露光、エツチング、拡散、
メタライズ等の作業用機器、１１は作業用機器を設置し
た作業部である。図中矢印で示すように高性能フィルタ
３で処理された清浄空気は天井全面より室内２に吹き出
し、室内空気は床下を通って排出される。これにより、
室内全体をほぼ一様な清浄度に維持し、全工程の作業を
この清浄雰囲気中で行えるようにしている。
しかし、全面ダウンフロ一方式クリーンルームでは設備
費および維持費が高いので、最近クリーントンネル方式
と呼ばれるクリーンルームも用いられるようになってき
た。第２図はクリーントンネル方式のクリーンルームの
長手方向に垂直な断面図である。支柱１２と横梁１３と
で門形フレームを組み、これに天板１４と両側の側板１
５を張ってトンネル状覆いを構成し、このトンネル状覆
いとそれを設置する床１６とで囲まれたクリーンルーム
室内に作業用機器１ｏを設置する作業部１１と作業者が
通行する通路部１７とをトンネル状覆いの長手方向に連
続して設ける０作業部１１の天井部には空気浄化要素で
ある送風機１８゜１９、送風チャンバ２０，２１、高性
能フィルタ２２．２３と照明灯４を収納し、その下部の
清浄空気吹き出し口に整流格子５を設置する。また、通
路部１７の天井部空間には照明灯４を収納し、その下部
の清浄空気吹き出し口に整流格子５を設置する。
費および維持費が高いので、最近クリーントンネル方式
と呼ばれるクリーンルームも用いられるようになってき
た。第２図はクリーントンネル方式のクリーンルームの
長手方向に垂直な断面図である。支柱１２と横梁１３と
で門形フレームを組み、これに天板１４と両側の側板１
５を張ってトンネル状覆いを構成し、このトンネル状覆
いとそれを設置する床１６とで囲まれたクリーンルーム
室内に作業用機器１ｏを設置する作業部１１と作業者が
通行する通路部１７とをトンネル状覆いの長手方向に連
続して設ける０作業部１１の天井部には空気浄化要素で
ある送風機１８゜１９、送風チャンバ２０，２１、高性
能フィルタ２２．２３と照明灯４を収納し、その下部の
清浄空気吹き出し口に整流格子５を設置する。また、通
路部１７の天井部空間には照明灯４を収納し、その下部
の清浄空気吹き出し口に整流格子５を設置する。
送風機１８．１９の運転により、外部空気はプレフィル
タ２４を通して空気吸込み口２５から吸込まれる０作業
部用送風機１８から送風チャンバ２０へ送り出された空
気は作業部用高性能フィルタ２２により清浄化された後
、作業部天井から室内め作業部１１へ吹き出し、また、
通路部用送風機１９から送風チャンバ２１へ送り出され
た空気は通路部用高性能フィルタ２３により清浄化され
た後、通路部天井から室内の通路部１７へ吹き出す、整
流格子５は清浄気流の整流と照明の散光のために設けら
れたものである。
タ２４を通して空気吸込み口２５から吸込まれる０作業
部用送風機１８から送風チャンバ２０へ送り出された空
気は作業部用高性能フィルタ２２により清浄化された後
、作業部天井から室内め作業部１１へ吹き出し、また、
通路部用送風機１９から送風チャンバ２１へ送り出され
た空気は通路部用高性能フィルタ２３により清浄化され
た後、通路部天井から室内の通路部１７へ吹き出す、整
流格子５は清浄気流の整流と照明の散光のために設けら
れたものである。
天井面から吹き出された清浄気流は図の矢印で示すよう
に室内を流れ、両側の側板１５の下部に設けた側面排気
口２６から外部の保全域２７へ排出される。室内圧力は
保全域２７の圧力より高く保たれているため、保全域２
７からの汚染空気が室内へ流入しない。
に室内を流れ、両側の側板１５の下部に設けた側面排気
口２６から外部の保全域２７へ排出される。室内圧力は
保全域２７の圧力より高く保たれているため、保全域２
７からの汚染空気が室内へ流入しない。
第３図にはモジュール化したクリーントンネルを多数連
結したクリーンルームの外観を示す。
結したクリーンルームの外観を示す。
しかし、これらの方式によるクリーンルームの共通な欠
点は、天井部に取り付けた高性能フィルタ３，２２．２
３間および高性能フィルタ３゜２２．２３と側壁７ある
いは側板１５との間には′清浄空気を吹き出さない天井
部分が生じることである。この部分では空気が滞留して
おり、もし。
点は、天井部に取り付けた高性能フィルタ３，２２．２
３間および高性能フィルタ３゜２２．２３と側壁７ある
いは側板１５との間には′清浄空気を吹き出さない天井
部分が生じることである。この部分では空気が滞留して
おり、もし。
作業者がクリーンルーム内において発塵した場合には塵
埃がこの空気が滞留した部分に入り、ある時間の後に重
力沈降あるいは外乱のために塵埃は作業部１１へ流れ込
み、製品に付着し、不良品を発生させる原因となる。そ
こで、クリーンルームを清浄に保つ手段である清浄空気
の流れに乱れが生じ難く、また、外乱のため乱れが生じ
た場合にも速やかに定常状態の気流に戻るような気流を
実現させる必要がある。このような気流を得るためには
前述した従来のクリーンルームの空気が滞留した部分を
除かなければならない。
埃がこの空気が滞留した部分に入り、ある時間の後に重
力沈降あるいは外乱のために塵埃は作業部１１へ流れ込
み、製品に付着し、不良品を発生させる原因となる。そ
こで、クリーンルームを清浄に保つ手段である清浄空気
の流れに乱れが生じ難く、また、外乱のため乱れが生じ
た場合にも速やかに定常状態の気流に戻るような気流を
実現させる必要がある。このような気流を得るためには
前述した従来のクリーンルームの空気が滞留した部分を
除かなければならない。
従って、本発明の目的は作業者が作業部において、気流
を乱し、発塵した場合にもクリーンルーム内の気流が速
やかにその定常状態に戻り、塵埃が滞留することなく速
やかに作業部から除去されるような気流を実現するクリ
ーンルームを提供することにある。
を乱し、発塵した場合にもクリーンルーム内の気流が速
やかにその定常状態に戻り、塵埃が滞留することなく速
やかに作業部から除去されるような気流を実現するクリ
ーンルームを提供することにある。
本発明は側壁と、空気浄化要素を内蔵する天井と゛、こ
れらを設置する床面とで囲まれた室内に作業用機器を設
置する作業部と作業者が通行する通路部を備え、空気浄
化要素を通して天井より清浄空気を吹き出し、室内を浄
化するようにしたクリーンルームにおいて、空気浄化要
素を内蔵する天井の清浄空気の吹き出し部にこの清浄空
気を整流する整流体を設けたもので、従来のクリーンル
ームにおいて滞留の生じない気流とし、同時にクリーン
ルーム内の清浄空気の流れを乱れの生じ灘いものとする
ことにより、作業部で発生した塵埃も速やかに作業部か
ら除去し、高清浄度を保つクリーンルームを実現するよ
うにしたものである。
れらを設置する床面とで囲まれた室内に作業用機器を設
置する作業部と作業者が通行する通路部を備え、空気浄
化要素を通して天井より清浄空気を吹き出し、室内を浄
化するようにしたクリーンルームにおいて、空気浄化要
素を内蔵する天井の清浄空気の吹き出し部にこの清浄空
気を整流する整流体を設けたもので、従来のクリーンル
ームにおいて滞留の生じない気流とし、同時にクリーン
ルーム内の清浄空気の流れを乱れの生じ灘いものとする
ことにより、作業部で発生した塵埃も速やかに作業部か
ら除去し、高清浄度を保つクリーンルームを実現するよ
うにしたものである。
以下、本発明の一実施例を第４図により説明する。第４
図は、第１図に示した全面ダウンフロ一方式クリーンル
ームに本発明を実施した例である。
図は、第１図に示した全面ダウンフロ一方式クリーンル
ームに本発明を実施した例である。
本発明の整流体２８を空気清浄要素である高性能フィル
タ３間に相当する位置の整流格子５に取り付ける。第５
図は本発明の整流体２８を含む清浄空気吹き出し部の詳
細図である。第５図に示すように高性能フィルタ３間で
は本発明の整流体２８を２枚向い合わせた構造とし、高
性能フィルタ３と側壁７との間では整流体２８を１枚図
示のように設置する。このとき、整流格子５上での本発
明の整流体２８の幅は、大略、高性能フィルタ３間では
その間隔、また、高性能フィルタ３と側壁７との間では
その間隔とする。整流体２８をこのように配置すれば、
整流体２８は流体機械におけるディフューザと同じ作用
をし、高性能フィルタ３から吹き出した清浄空気をうす
を生じることなく滑らかにクリーンルーム全体に一様に
広げることができる。
タ３間に相当する位置の整流格子５に取り付ける。第５
図は本発明の整流体２８を含む清浄空気吹き出し部の詳
細図である。第５図に示すように高性能フィルタ３間で
は本発明の整流体２８を２枚向い合わせた構造とし、高
性能フィルタ３と側壁７との間では整流体２８を１枚図
示のように設置する。このとき、整流格子５上での本発
明の整流体２８の幅は、大略、高性能フィルタ３間では
その間隔、また、高性能フィルタ３と側壁７との間では
その間隔とする。整流体２８をこのように配置すれば、
整流体２８は流体機械におけるディフューザと同じ作用
をし、高性能フィルタ３から吹き出した清浄空気をうす
を生じることなく滑らかにクリーンルーム全体に一様に
広げることができる。
本発明の整流体２８を用いれば、整流格子５から吹き出
された清浄空気の流れは第４図および第５図の矢印のよ
うになり、従来のクリーンルームの清浄空気吹き出し部
で生じる空気滞留部をなくすことができる。したがって
、室内で発生した塵埃を室内に留めることなく、塵埃を
気流とともに速やかに作業用機器１０あるいは製品から
遠ざけることができる。また、室内に空気の滞留する部
分がないので、作業者の移動などにより気流が乱された
場合でも速やかに定常の気流状態に復帰でき、乱れの生
じ難い気流を実現できる。
された清浄空気の流れは第４図および第５図の矢印のよ
うになり、従来のクリーンルームの清浄空気吹き出し部
で生じる空気滞留部をなくすことができる。したがって
、室内で発生した塵埃を室内に留めることなく、塵埃を
気流とともに速やかに作業用機器１０あるいは製品から
遠ざけることができる。また、室内に空気の滞留する部
分がないので、作業者の移動などにより気流が乱された
場合でも速やかに定常の気流状態に復帰でき、乱れの生
じ難い気流を実現できる。
第５図は、また、第２図および第３図に示したクリーン
トンネル方式のクリーンルームに本発明を実施した例と
も考えることができる。すなわち、第３図において長手
方向の断面をとると１作業部１１の高性能フィルタ２２
あるいは通路部１７の高性能フィルタ２３にはそれぞれ
のフィルタ間に吹き出しのない部分があり、ここに、第
１図に示した全面ダウンフロ一方式クリーンルームに実
施したときと同じように本発明の整流体２８を適用でき
るからである。
トンネル方式のクリーンルームに本発明を実施した例と
も考えることができる。すなわち、第３図において長手
方向の断面をとると１作業部１１の高性能フィルタ２２
あるいは通路部１７の高性能フィルタ２３にはそれぞれ
のフィルタ間に吹き出しのない部分があり、ここに、第
１図に示した全面ダウンフロ一方式クリーンルームに実
施したときと同じように本発明の整流体２８を適用でき
るからである。
第６図は他の実施例を示す、この実施例では本発明によ
る整流体２８を曲線で構成し、先の実施例と同じく高性
能フィルタ３間あるいは高性能フィルタ３と側壁７との
間に適用している。この実施例では整流格子５を出た清
浄空気はまず整流体２８に沿って下方向へ流れ１次第に
横方向に一様に広がった後、隣接する高性能フィルタ３
からの清浄空気の流れと合流し、全面に一様な下方向の
気流を実現する。
る整流体２８を曲線で構成し、先の実施例と同じく高性
能フィルタ３間あるいは高性能フィルタ３と側壁７との
間に適用している。この実施例では整流格子５を出た清
浄空気はまず整流体２８に沿って下方向へ流れ１次第に
横方向に一様に広がった後、隣接する高性能フィルタ３
からの清浄空気の流れと合流し、全面に一様な下方向の
気流を実現する。
第７図はさらに他の実施例を示す、この実施例でも本発
明による整流体２８を曲線で構成しているが、第６図の
実施例とは異なり、整流格子５を出た清浄空気は整流体
２８の前半で横方向の拡散をほぼ終え、整流体２８を離
れるときには一様な下方向の気流を実現することができ
る。
明による整流体２８を曲線で構成しているが、第６図の
実施例とは異なり、整流格子５を出た清浄空気は整流体
２８の前半で横方向の拡散をほぼ終え、整流体２８を離
れるときには一様な下方向の気流を実現することができ
る。
第８図はさらに他の実施例を示す、この実施例では本発
明による整流体２８を高性能フィルタ３の清浄空気吹き
出し部に直接取り付け、高性能フィルタ３から吹き出し
た気流を直ちに下方向の一様流に整流している。
明による整流体２８を高性能フィルタ３の清浄空気吹き
出し部に直接取り付け、高性能フィルタ３から吹き出し
た気流を直ちに下方向の一様流に整流している。
本発明によれば、従来のクリーンルームでは高性能フィ
ルタから吹き出した空気が高性能フィルタ間の吹き出し
のない部分に巻き込むことで生じていたうずが生じなく
なるので、クリーンルーム内では滞留のない気流を得る
ことができ１作業部で発生した塵埃も速やかに作業部か
ら除去し、室内の高清浄度を保つことができる効果があ
る。
ルタから吹き出した空気が高性能フィルタ間の吹き出し
のない部分に巻き込むことで生じていたうずが生じなく
なるので、クリーンルーム内では滞留のない気流を得る
ことができ１作業部で発生した塵埃も速やかに作業部か
ら除去し、室内の高清浄度を保つことができる効果があ
る。
また、本発明は０．１μｍ粒子等の重力沈降が期待でき
ない超微粒子を除去対象とした超ＬＳＩの製造用クリー
ンルームなどの超クリーンな環境の清浄化に特に効果が
ある。
ない超微粒子を除去対象とした超ＬＳＩの製造用クリー
ンルームなどの超クリーンな環境の清浄化に特に効果が
ある。
第１図は従来の全面ダウンフロ一方式のクリーンルーム
の縦断面図、第２図はクリーントンネル方式のクリーン
ルームの断面図、第３図はクリーントンネル方式のクリ
ーンルームの外観斜視図。 第４図は本発明を第１図のクリーンルームに実施した一
例を示す縦断面図、第５１ｉ２Ｊは第４図の吹き出し部
の詳細断面図、第６図および第７図はそれぞれ本発明の
整流体を曲線で構成した一例を示す詳細断面図、第８図
は本発明を高性能フィルタの吹き出し部に直接実施した
例を示す詳細断面図である。 ３・・・高性能フィルタ、５・・・整流格子、６・・・
法条孔板、７・・・側壁、１０・・・作業用機器、１１
・・・作業部。 １４・・・天板、１５・・・側板、１６・・・床、１７
・・・通路部、１８．１９・・・送風機、２０．２１・
・・送風チャンバ、２２．２３・・・高性能フィルタ、
２４・・・プレフィルタ、２６・・・側面排気口、２８
・・・整流体。
の縦断面図、第２図はクリーントンネル方式のクリーン
ルームの断面図、第３図はクリーントンネル方式のクリ
ーンルームの外観斜視図。 第４図は本発明を第１図のクリーンルームに実施した一
例を示す縦断面図、第５１ｉ２Ｊは第４図の吹き出し部
の詳細断面図、第６図および第７図はそれぞれ本発明の
整流体を曲線で構成した一例を示す詳細断面図、第８図
は本発明を高性能フィルタの吹き出し部に直接実施した
例を示す詳細断面図である。 ３・・・高性能フィルタ、５・・・整流格子、６・・・
法条孔板、７・・・側壁、１０・・・作業用機器、１１
・・・作業部。 １４・・・天板、１５・・・側板、１６・・・床、１７
・・・通路部、１８．１９・・・送風機、２０．２１・
・・送風チャンバ、２２．２３・・・高性能フィルタ、
２４・・・プレフィルタ、２６・・・側面排気口、２８
・・・整流体。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、側壁と、空気浄化要素を内蔵する天井と、これらを
設置する床面とで囲まれた室内に、作業用機器を設置す
る作業部と作業者が通行する通路部を備え、前記空気浄
化要素を通して天井より清浄空気を吹き出し、前記室内
を浄化するようにしたクリーンルームにおいて、前記空
気浄化要素を内蔵する天井の清浄空気の吹き出し部に該
清浄空気を整流する整流体を設けたことを特徴とするク
リーンルーム。 ２、特許請求の範囲第１項において、前記整流体は前記
空気浄化要素間の清浄空気の吹き出し部に設置すること
を特徴とするクリーンルーム。 ３、特許請求の範囲第１項において、前記整流体は前記
空気浄化要素を内蔵する天井と前記側壁との間の清浄空
気の吹き出し部に設置したことを特徴とするクリーンル
ーム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60007525A JPS61168736A (ja) | 1985-01-21 | 1985-01-21 | クリ−ンル−ム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60007525A JPS61168736A (ja) | 1985-01-21 | 1985-01-21 | クリ−ンル−ム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61168736A true JPS61168736A (ja) | 1986-07-30 |
Family
ID=11668193
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60007525A Pending JPS61168736A (ja) | 1985-01-21 | 1985-01-21 | クリ−ンル−ム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61168736A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6391441A (ja) * | 1986-10-02 | 1988-04-22 | Takenaka Komuten Co Ltd | 全面層流クリ−ンル−ム |
| JPH0972587A (ja) * | 1995-09-08 | 1997-03-18 | Shin Nippon Kucho Kk | クリーンルームにおける気流制御構造 |
| US6110244A (en) * | 1994-10-22 | 2000-08-29 | Howorth Airtech Limited | Clean air system |
| KR20180049289A (ko) * | 2016-10-31 | 2018-05-11 | 삼성전자주식회사 | 기판 이송 장치 |
-
1985
- 1985-01-21 JP JP60007525A patent/JPS61168736A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6391441A (ja) * | 1986-10-02 | 1988-04-22 | Takenaka Komuten Co Ltd | 全面層流クリ−ンル−ム |
| US6110244A (en) * | 1994-10-22 | 2000-08-29 | Howorth Airtech Limited | Clean air system |
| JPH0972587A (ja) * | 1995-09-08 | 1997-03-18 | Shin Nippon Kucho Kk | クリーンルームにおける気流制御構造 |
| KR20180049289A (ko) * | 2016-10-31 | 2018-05-11 | 삼성전자주식회사 | 기판 이송 장치 |
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