JPH05289104A - 液晶表示パネル - Google Patents

液晶表示パネル

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JPH05289104A
JPH05289104A JP9050692A JP9050692A JPH05289104A JP H05289104 A JPH05289104 A JP H05289104A JP 9050692 A JP9050692 A JP 9050692A JP 9050692 A JP9050692 A JP 9050692A JP H05289104 A JPH05289104 A JP H05289104A
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liquid crystal
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electrode
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守 竹田
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 薄膜トランジスタ−(TFT)を使用した液
晶ディスプレイに関し、ゲ−ト配線からの信号ノイズを
軽減し、画像品位を向上させることを目的とする。 【構成】 アレイ状に配置された各々の表示画素C(i,
j)は、前段のゲ−ト線との間に補助容量を形成してい
る。その形成の方法として、画素電極である透明金属あ
るいは、TFTのドレイン電極となる金属で、該表示画
素のゲ−トに対し前段のゲ−ト線との間に形成した補助
容量として、前段のゲ−ト線の線幅の方向に対し完全に
覆いかぶしてしまう構成をとる。これにより、ゲ−ト線
からの洩れ電界による、表示画素信号の変動を小さく出
来る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、アクティブ素子を用い
た液晶表示パネルに関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来この目的に使われる液晶表示デバイ
スのためのトランジスタ−アレイとしては,例えば、エス
アイ テ゛ィー 89 タ゛イシ゛ェスト p114 "リアー-フ゜ロシ゛ェクション ティーウ゛ィー
ユーシ゛ンク゛ ハイ-レソ゛リュ-ション a-Si ティ-エフティ--エルシーテ゛ィー"(SID 8
9 DIGEST p114 "Rear-Projection TV Using High-Resol
ution a-Si TFT-LCD")に示されるように,(図2)およ
び(図3)のような構成が一般的である。即ち,走査線
X1〜XMはゲ−ト電極4を,信号線Y1〜YNはソ−ス電
極6をそれぞれ接続した薄膜トランジスタ−(以後TF
Tと呼ぶ)2をそなえ,そのドレイン電極7は画素電極
3に接続されている。TFTが形成されている基板1と
対向基板14との間に液晶13を挿入することにより、
画素電極3と対向ア−ス電極16の間で、独立した画素
を構成する。液晶13は等価的にコンデンサ−として働
くが、場合によっては信号電圧の保持をよくするため
に、並列に補助コンデンサ−12を追加することが多
い。構成として、最近は、マスク枚数を減らすために、
前段の走査線5Xi-1との間に補助容量12を形成して
いる。
【0003】しかしながら、液晶表示モ−ドを、電圧無
印加時には表示を黒、電圧印加時には表示を白にするノ
−マリ・ホワイトモ−ド(以下N.W.モ−ドと呼ぶ)
で駆動する場合、画素内の電界不均一が生じることによ
り、液晶の分子の配向方向に画面内で不均一が生じ、表
示のむらが見え表示品位を落とし問題となっている。
【0004】従来の前段補助容量12を形成した構成
は、表示画素電極3C(i、j)が前段の走査電極5X
i-1を線幅の方向に対し完全にカバ−していない。その
ために、画素電極3C(i,j)と前段の画素電極C(i
-1,j)との間から走査電極5Xi-1が平面的に絶縁体層
を介して見えており、電界的にみるとゲ−トの信号電位
が画素電位に漏れ出て来るため、上記に述べたような画
素内電位の不均一を生じ表示品位での低下が見られてい
た。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
に鑑み、特にTFTのゲ−ト電極が表示電位に悪影響を
及ばさないようにし、薄膜トランジスター液晶表示パネ
ル(以下TFT−LCDと呼ぶ。)で表示品位を高める
ことを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の液晶表示パネルは、前段の走査電極5Xi-
1との間に層間絶縁を介して形成している画素電極3C
(i,j)の構成を、前段ゲ−ト走査線5Xi−1の幅
の方向に関して完全に覆いかぶしたパタ−ン形状にする
ことを特徴としている。
【0007】
【作用】上記構成により、画素電極3C(i,j)が完
全に前段の走査電極5Xi-1を覆いかぶすことになるの
で、ゲ−ト電極5Xi-1が平面的に見て、画素電極C
(i,j)でかくされてしまうため、ゲ−ト電極4、5の
電位が画素電極3C(i,j)上に漏れ出ることが極力抑
えられる。従って、表示画素3C(i,j)内の表示電位
のゲ−ト電位の洩れ電界による不均一性を防止すること
が可能になる。さらに対向基板14上に設けるブラック
マトリックス15の幅を小さくできるため、画素の表示
開口率も向上させることが可能となる。
【0008】
【実施例】以下に、本発明の一実施例の液晶表示デバイ
スについて図面を参照しながら説明する。
【0009】(図1)は、本発明の一実施例のTFT−
液晶表示デバイス用アレイの平面構成図である。(図
2)は、従来から用いられてきた前段容量型のTFT−
LCDの平面図である。以下(図2)を用いて、従来の
平面構成図で生じる問題を説明する。この構成をとる
と、例えば画素3C(i、j)に入力されている信号が
4V、ゲ−ト電極4Xi、5Xi−1の電位が−9Vそ
して対向電極16の電位が0Vとすると、画素3C
(i,j)を形成している液晶13中の電位分布として
は(図3)のようになり、画素3C(i,j)内での電
界分布の不均一性が大きくなり、光の透過率特性に分布
が生じる。それに対し、(図1)のように、画素電極3
C(i,j)で、前段のゲ−ト電極5Xi-1を完全に覆う
構成を取ることにより、ゲ−ト電極5Xi-1からの電界
洩れをシ−ルドできれば、画素C(i,j)内電位の均
一性を向上させることが可能になる。
【0010】(図1)のような構成を得るためには、以
下に述べるようなプロセスを取れば可能である。第1の
工程として、(図4)に示すように、透明基板1上にゲ
−ト電極4Xi(i=1〜M)、P−CVD法等で形成し
たゲ−ト絶縁体層8、半導体層9そしてチャネル保護層
10を形成した基板を準備する。第2の工程として、
(図5)で示すように画素電極3C(i,j)になる透
明電極を形成するにあたり、前段のゲ−ト電極5Xi-1
を完全に覆いかぶす構成をとり、画素電極3C(i,
j)とその補助電極12Caddを形成する。さらに(図
6)で示すように、該基板上にソ−ス・ドレイン電極
6、7を形成し、マトリクス状にTFT2アレイを形成
する。さらにTFT2の信頼性を向上させるために、P
−CVD法等を用いたSiNx18を、該基板上に作成
する。
【0011】第2の実施例として、(図7)に断面図を
示すように、ソ−ス・ドレイン電極6、7を形成する時
に、ドレイン電極7でゲ−ト電極5Xi-1を完全に覆っ
てしまう。さらに、絶縁体層の上に形成したコンタクト
ホ−ル19を介して、画素電極3C(i,j)とドレイン
電極7と接続した構成をとる。
【0012】第3の実施例として、(図8)に断面構造
図を示すように、画素電極3C(i,j)上にパッシベ−
ション18としてのSiNx等を形成して、コンタクト
ホ−ル19を介して、ソ−ス6・ドレイン7をAl等の
金属で形成する。この時、画素電極3C(i,j)と接続
されるドレイン電極7で、前段のゲ−ト電極5Xi-1を
線幅の方向に対し完全に覆いかぶせる構成をとる。
【0013】さらに、いずれの実施例においても、ブラ
ックマトリクス15の形成方法であるが(図9)に示す
ように、TFTアレイ基板とで液晶13を挟持している
対向基板14に設けているブラックマトリクス15と、
補助容量電極12で覆われたゲ−ト電極Xi-1の一部と
を利用することにより、構成することが出来る。これに
より、対向基板14上のブラックマトリクス15がおお
っていないゲ−ト部分は、画素電極C(i,j)でおおわ
れているので、ゲ−ト電界の影響を受けない領域の画素
が見えることになる。したがって、均一な信号が入力さ
れる画素の開口率が広く取れる。
【0014】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の構成を取
ると、ゲ−ト電極を画素電極で覆いかぶすことによりT
FT−LCDの表示品位として問題であった画素内のに
不均一性及び開口率の低下を大幅に改善することがで
き,その実用効果は極めて大きい。しかも、補助容量を
走査線との間に形成するという簡単な構成を取っている
ため、TFTアレイを形成するマスク枚数を増やすこと
なしに、つくり込むことができる。したがってコストア
ップせずに表示品位を向上させることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例のTFT−LCDの平面図
【図2】従来例の前段容量を有したTFT−LCDの平
面図
【図3】従来例で一画素に生じる電圧の不均一性を示す
液晶内の等電位を示す液晶パネルの要部断面図
【図4】本発明の一実施例のTFTアレイを形成するた
めの第1の工程を示したTFTアレイの断面図
【図5】本発明の一実施例のTFTアレイを形成するた
めの第2の工程を示したTFTアレイの断面図
【図6】本発明の一実施例のTFTアレイを形成するた
めの第3の工程を示したTFTアレイの断面図
【図7】第2の本発明の実施例のTFTアレイの断面図
【図8】第3の本発明の実施例のTFTアレイの断面図
【図9】本発明の実施例に於けるTFT−LCDに形成
したブラックマトリクス
【符号の説明】
1 透明絶縁基板 2 TFT(i,j) 3 画素電極Cij 4 ゲ−ト電極Xi 5 前段のゲ−ト電極Xi−1 6 ソ−ス電極 7 ドレイン電極 8 ゲ−ト絶縁体層 9 半導体層 10 チャネル保護絶縁体層 12 補助容量 13 液晶 14 対向基板 15 対向基板に形成されたブラックマトリクス 16 対向ア−ス電極 17 表示画素 18 パッシベ−ション 19 コンタクトホ−ル

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数の信号線Yj(j=1〜N:総信号線
    数N)と複数の走査線Xi(i=1〜M)をN×Mのマ
    トリックス状に配列し、各交点に対応して、表示画素電
    極C(i,j)と信号配線Yj間で信号入力をスイッチ
    する薄膜トランジスタ−が配置されている液晶表示パネ
    ルにおいて、前記表示画素賀祖電極C(i,j)と並列
    に形成されている補助容量Caddの形成の方法として、
    前記表示画素電極C(i,j)の前段の表示画素電極C
    (i−1,j)を制御している前段の走査線Xi-1と前
    記表示画素電極C(i,j)との間で補助容量Caddを
    形成し、尚かつ前記前段の走査線Xi-1の線幅の方向に
    対し完全に覆いかぶせるように前記表示画素電極C
    (i,j)を形成した補助容量Caddを有する構成を特
    徴とした液晶表示パネル。
  2. 【請求項2】透過光を決定するのに、対向基板上に形成
    されたブラックマトリックスと、画素電極で覆われてい
    る、TFTアレイ側のゲ−ト電極の一部を用いて透過光
    をしゃへいするブラックマトリクスを構成することによ
    り行うことを特徴とした請求項1記載の液晶表示パネ
    ル。
  3. 【請求項3】液晶表示パネルにおける表示画素電極C
    (i,j)の形成方法が、薄膜トランジスタ−のドレイン
    電極で前段の走査線Xi-1の線幅の方向に対し完全に覆
    い補助容量を形成し、且つ前記ドレイン電極上に絶縁体
    層を形成し、前記絶縁体層に形成したコンタクトホ−ル
    を介して前記ドレイン電極に透明電極で接続した表示画
    素電極とする構成を有することを特徴とした液晶表示パ
    ネル。
  4. 【請求項4】液晶表示パネルにおいて、薄膜トランジス
    タ−のドレイン電極で前段の走査線Xi-1の線幅の方向
    に対し完全に覆い補助容量を形成し、且つ前記ドレイン
    電極は、前記表示画素電極上の絶縁体層に形成したコン
    タクトホ−ルを介して前記表示画素電極と前記ドレイン
    電極とを接続することを特徴とした液晶表示パネル。
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DE69313496T DE69313496T2 (de) 1992-04-10 1993-04-13 Flüssigkristall-Anzeigetafel
EP93105927A EP0565125B1 (en) 1992-04-10 1993-04-13 Liquid crystal display panel
US08/443,663 US5574582A (en) 1992-04-10 1995-05-18 Active matrix liquid crystal display panel with scanning electrodes acting as capacitor electrode and black matrix

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10665610B2 (en) 2000-12-11 2020-05-26 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device, and manufacturing method thereof

Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5610739A (en) * 1994-05-31 1997-03-11 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Liquid crystal display unit with a plurality of subpixels
US5563727A (en) * 1994-06-30 1996-10-08 Honeywell Inc. High aperture AMLCD with nonparallel alignment of addressing lines to the pixel edges or with distributed analog processing at the pixel level
US5657101A (en) * 1995-12-15 1997-08-12 Industrial Technology Research Institute LCD having a thin film capacitor with two lower capacitor electrodes and a pixel electrode serving as an upper electrode
JP3037886B2 (ja) * 1995-12-18 2000-05-08 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション 液晶表示装置の駆動方法
KR100247493B1 (ko) * 1996-10-18 2000-03-15 구본준, 론 위라하디락사 액티브매트릭스기판의 구조
KR100225097B1 (ko) * 1996-10-29 1999-10-15 구자홍 액정표시장치 및 그 제조방법
US6014189A (en) * 1996-11-15 2000-01-11 International Business Machines Corporation Transmissive liquid crystal cell with trench capacitor
US6774966B1 (en) 1997-06-10 2004-08-10 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal display with wide viewing angle and method for making it
KR19990003712A (ko) * 1997-06-26 1999-01-15 김영환 초고개구율 액정 표시 소자 및 그의 제조방법
JP3050191B2 (ja) 1997-11-12 2000-06-12 日本電気株式会社 液晶表示装置
US6215541B1 (en) * 1997-11-20 2001-04-10 Samsung Electronics Co., Ltd. Liquid crystal displays and manufacturing methods thereof
FR2772499A1 (fr) * 1997-12-15 1999-06-18 Thomson Lcd Perfectionnement aux ecrans matriciels
US6335776B1 (en) 1998-05-30 2002-01-01 Lg. Philips Lcd Co., Ltd. Multi-domain liquid crystal display device having an auxiliary electrode formed on the same layer as the pixel electrode
KR20000003318A (ko) * 1998-06-27 2000-01-15 김영환 개구율이 개선된 액정 표시 장치
KR100357213B1 (ko) 1998-07-23 2002-10-18 엘지.필립스 엘시디 주식회사 멀티도메인 액정표시소자
AU9247398A (en) 1998-08-06 2000-02-28 Victor A. Konovalov Liquid-cristal display and the method of its fabrication
US6654090B1 (en) 1998-09-18 2003-11-25 Lg. Philips Lcd Co., Ltd. Multi-domain liquid crystal display device and method of manufacturing thereof
US6525794B1 (en) 1998-10-19 2003-02-25 Lg. Philips Lcd Co., Ltd. Multi-domain liquid crystal display device having a dielectric frame controlling alignment of the liquid crystal molecules
KR100313949B1 (ko) 1998-11-11 2002-09-17 엘지.필립스 엘시디 주식회사 멀티도메인액정표시소자
KR100288772B1 (ko) * 1998-11-12 2001-05-02 윤종용 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
US6900869B1 (en) 1998-11-25 2005-05-31 Lg. Philips Lcd Co., Ltd. Multi-domain liquid crystal display device with particular dielectric structures
US6809787B1 (en) * 1998-12-11 2004-10-26 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Multi-domain liquid crystal display device
KR100339332B1 (ko) 1999-02-08 2002-06-03 구본준, 론 위라하디락사 멀티도메인 액정표시소자
US6791647B1 (en) 1999-02-24 2004-09-14 Lg Philips Lcd Co., Ltd. Multi-domain liquid crystal display device
KR100357216B1 (ko) 1999-03-09 2002-10-18 엘지.필립스 엘시디 주식회사 멀티도메인 액정표시소자
KR100519366B1 (ko) * 1999-04-03 2005-10-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 멀티도메인 액정표시소자
KR100308161B1 (ko) * 1999-05-07 2001-09-26 구본준, 론 위라하디락사 멀티도메인 액정표시소자
JP3766563B2 (ja) 1999-05-17 2006-04-12 株式会社日立製作所 液晶表示装置
NL1015202C2 (nl) * 1999-05-20 2002-03-26 Nec Corp Actieve matrixvormige vloeiend-kristal displayinrichting.
KR100627107B1 (ko) 1999-07-31 2006-09-25 엘지.필립스 엘시디 주식회사 멀티 도메인 액정표시소자 및 그 제조방법
US6545291B1 (en) * 1999-08-31 2003-04-08 E Ink Corporation Transistor design for use in the construction of an electronically driven display
US6639641B1 (en) 1999-11-25 2003-10-28 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Multi-domain liquid crystal display device
JP3792485B2 (ja) * 2000-06-02 2006-07-05 Nec液晶テクノロジー株式会社 アクティブマトリクス型液晶表示装置
KR100595295B1 (ko) * 2000-06-27 2006-07-03 엘지.필립스 엘시디 주식회사 멀티 도메인 액정표시장치 및 그 제조방법
KR100595296B1 (ko) 2000-06-27 2006-07-03 엘지.필립스 엘시디 주식회사 멀티 도메인 액정표시소자 및 그 제조방법
US7072017B1 (en) 2000-06-29 2006-07-04 Lg. Philips Lcd Co., Ltd. Multi-domain liquid crystal display device having a common-auxiliary electrode and dielectric structures
US7088323B2 (en) * 2000-12-21 2006-08-08 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal display device and method for fabricating the same
EP1378015A4 (en) 2001-04-10 2005-08-03 Sarnoff Corp METHOD AND DEVICE FOR PROVIDING AN ACTIVE MATRIX PIXEL WITH HIGH EFFICIENCY USING ORGANIC THIN FILM TRANSISTORS
WO2003074970A2 (en) * 2002-03-01 2003-09-12 American Tool Companies, Inc. Manual leveling rotating laser with swivel head
US20120299074A1 (en) * 2011-05-24 2012-11-29 Sharp Kabushiki Kaisha Semiconductor device
CN107295982B (zh) 2017-02-28 2023-10-24 深圳市酷伴科技有限公司 宠物玩耍球自动发射器

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6476036A (en) * 1987-09-17 1989-03-22 Casio Computer Co Ltd Thin film transistor panel
JPH0251128A (ja) * 1988-08-12 1990-02-21 Seikosha Co Ltd シリコン薄膜トランジスタアレイの保持容量
JPH02228632A (ja) * 1989-03-01 1990-09-11 Seiko Instr Inc 電気光学装置及びその製造方法
JPH0396923A (ja) * 1989-09-08 1991-04-22 Mitsubishi Electric Corp 液晶表示装置
JPH0469623A (ja) * 1990-07-10 1992-03-04 Hitachi Ltd 液晶表示装置

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2081018B (en) * 1980-07-31 1985-06-26 Suwa Seikosha Kk Active matrix assembly for display device
JPS58125084A (ja) * 1982-01-21 1983-07-25 株式会社東芝 液晶表示装置およびその製造方法
JPS6054478A (ja) * 1983-09-06 1985-03-28 Toshiba Corp 表示装置用駆動回路基板の製造方法
JPS61170724A (ja) * 1985-01-25 1986-08-01 Seiko Instr & Electronics Ltd アクテイブマトリクス表示装置用基板
DE3851557T2 (de) * 1987-03-18 1995-01-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Videoprojektor.
US4955697A (en) * 1987-04-20 1990-09-11 Hitachi, Ltd. Liquid crystal display device and method of driving the same
JPH01219824A (ja) * 1988-02-29 1989-09-01 Seikosha Co Ltd 非晶質シリコン薄膜トランジスタアレイ基板
JPH0814669B2 (ja) * 1988-04-20 1996-02-14 シャープ株式会社 マトリクス型表示装置
JPH0244316A (ja) * 1988-08-05 1990-02-14 Hitachi Ltd 補助容量付液晶表示装置
JPH0816756B2 (ja) * 1988-08-10 1996-02-21 シャープ株式会社 透過型アクティブマトリクス液晶表示装置
JPH0644625B2 (ja) * 1988-12-31 1994-06-08 三星電子株式会社 アクティブマトリックス液晶表示素子用薄膜トランジスタ
US5212574A (en) * 1989-07-05 1993-05-18 Sharp Kabushiki Kaisha Active matrix board having double-layer scan lines and capacity lines with discontinuous lower scan lines and lower capacity lines
JPH0396922A (ja) * 1989-09-09 1991-04-22 Mitsubishi Electric Corp マトリクス型表示装置
US5305128A (en) * 1989-12-22 1994-04-19 North American Philips Corporation Active matrix electro-optic display device with storage capacitors and projection color apparatus employing same
EP0456338B1 (en) * 1990-05-11 1996-09-18 Sharp Kabushiki Kaisha An active matrix display device and a method of manufacturing the same
US5162933A (en) * 1990-05-16 1992-11-10 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Active matrix structure for liquid crystal display elements wherein each of the gate/data lines includes at least a molybdenum-base alloy layer containing 0.5 to 10 wt. % of chromium
JP2616160B2 (ja) * 1990-06-25 1997-06-04 日本電気株式会社 薄膜電界効果型トランジスタ素子アレイ
JP3226223B2 (ja) * 1990-07-12 2001-11-05 株式会社東芝 薄膜トランジスタアレイ装置および液晶表示装置
US5402254B1 (en) * 1990-10-17 1998-09-22 Hitachi Ltd Liquid crystal display device with tfts in which pixel electrodes are formed in the same plane as the gate electrodes with anodized oxide films before the deposition of silicon
JP2650780B2 (ja) * 1990-11-30 1997-09-03 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板
US5414278A (en) * 1991-07-04 1995-05-09 Mitsushibi Denki Kabushiki Kaisha Active matrix liquid crystal display device
KR940004322B1 (ko) * 1991-09-05 1994-05-19 삼성전자 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
EP0569601B1 (en) * 1991-11-29 1999-10-13 Seiko Epson Corporation Liquid crystal display and method of manufacturing same
US5285302A (en) * 1992-03-30 1994-02-08 Industrial Technology Research Institute TFT matrix liquid crystal display with compensation capacitance plus TFT stray capacitance constant irrespective of mask misalignment during patterning

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6476036A (en) * 1987-09-17 1989-03-22 Casio Computer Co Ltd Thin film transistor panel
JPH0251128A (ja) * 1988-08-12 1990-02-21 Seikosha Co Ltd シリコン薄膜トランジスタアレイの保持容量
JPH02228632A (ja) * 1989-03-01 1990-09-11 Seiko Instr Inc 電気光学装置及びその製造方法
JPH0396923A (ja) * 1989-09-08 1991-04-22 Mitsubishi Electric Corp 液晶表示装置
JPH0469623A (ja) * 1990-07-10 1992-03-04 Hitachi Ltd 液晶表示装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10665610B2 (en) 2000-12-11 2020-05-26 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device, and manufacturing method thereof

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