JPH0529234B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

産業上の利用分野 本発明は新規ビスアシルホスフインオキサイド
およびその製造法並びにそれを光重合開始剤とし
て使用することに関する。 従来技術 従来光重合開始剤としてアシルホスフインをベ
ースとする一連の開始剤は公知である。たとえば
米国特許明細書第3668093号およびドイツ特許公
告明細書第3020092号には光重合開始剤としてア
シルホスフインが記載されている。又ヨーロツパ
特許公告明細書0073413、0007508、および
0057474には光重合開始剤としてモノアシルホス
フインオキサイドが記載されている。 発明が解決しようとする問題点 米国特許明細書3668093に記載の開始剤系によ
つて硬化される光重合性物質は色の安定性が悪
い。又米国特許明細書3668093、ドイツ特許公告
明細書3020092、およびヨーロツパ特許公告明細
書0073423、0007508、および0057474に記載の開
始剤系によつて硬化される光重合性物質は、硬化
速度がおそい上に硬化度も低く、さらに貯蔵安定
性が悪い。さらに又これらの化合物は可視光線の
範囲での、すなわち400mμ以上の波長においての
吸収が悪いために、この範囲においてはわずかの
収量しか望めない。しかしながら多くの使用目的
に対して、たとえば歯科分野においては、この範
囲の“無害”の光こそ絶対的に使用したい光であ
る。 そこで本発明は有用な新規アシルホスフインオ
キサイドを提供することを課題として出発した。 問題点を解決するための手段 しかして本発明は下記一般式であらわされる
ビスアシルホスフインオキサイドを対象とする。 （ここでR¹は直鎖あるいは分枝鎖のC_1〜18のア
ルキル基の内の一つ；シクロヘキシル基、シクロ
ペンチル基、フエニル基、ナフチル基、あるいは
ビフエニリル基の内の一つ；Ｆ、Cl、Br、Ｉ、
C₁〜₁₂のアルキル基および／あるいはC₁〜₁₂のア
ルコキシル基で置換されたシクロヘキシル基、シ
クロペンチル基、フエニル基、ナフチル基、ある
いはビフエニリル基の内の一つ；ＳあるいはＮを
含有する５員あるいは６員複素環式環の内の一
つ、あるいは下記一般式であらわされる基の内
の一つであり、 （ここでｎは１あるいは２であり、R⁴、R⁵、
R⁶およびR⁷はＨ、C₁〜₄のアルキル基、C₁〜₄の
アルコキシル基、Ｆ、Cl、あるいはBrである）、
R²およびR³は同一にあるいは別々にそれぞれシ
クロヘキシル基、シクロペンチル基、フエニル
基、ナフチル基、あるいはビフエニリル基の内の
一つ；Ｆ、Cl、Br、Ｉ、C₁〜₄のアルキル基およ
び／あるいはC₁〜₄のアルコキシル基で置換され
たシクロヘキシル基、シクロペンチル基、フエニ
ル基、ナフチル基、あるいはビフエニリル基の一
つ；あるいはＳあるいはＮを含有する５員あるい
は６員複素環式環の内の一つであるか、あるいは
R²およびR³は互に連結して４〜10個の炭素原子
を含む環を形成し、その場合はC₁〜₄のアルキル
基を置換基として１〜６個含有し得る。〕 本発明によるビスアシルホスフインオキサイド
はＣ−Ｃ多重結合を一個以上有する光重合性モノ
マーおよびそれら同志の混合物並びにそれらと公
知の添加物との混合物に対して光重合開始剤とし
て非常に良好な反応性を示す。本発明によるビス
アシルホスフインオキサイドは特に歯の充填物
質、Ｋ＋Ｂ−物質、シール溶液、およびボンド溶
液などの光重合歯科材料に対する光重合開始剤と
して非常にすぐれている。その他本発明による光
重合開始剤は型取りに使用する光重合性材料に対
しても用いられる。その他箔、フイルム、あるい
は被覆材にも用いられる。本発明によるビスアシ
ルホスフインオキサイドを用いた光重合性材料
は、色の安定性、貯蔵安定性、硬化速度、および
得られる硬化度に関して、従来公知の光重合開始
剤を用いた光重合性材料にくらべて、はるかにす
ぐれている。 さらに本発明によるビスアシルホスフインオキ
サイドによる光重合においては酸素による抑制が
少ないという利点がある。 R¹は特にデシル、フエニル、ナフチル、４−
ビフエニリル、２−メチルフエニル、１−メチル
ナフチル、２，５−ジメチルフエニル、４−プロ
ピルフエニル、４−オクチルフエニル、４−クロ
ルフエニル、あるいは４−エトキシフエニルであ
ることが望ましい。 R²およびR³はフエニル基、２位置および６位
置置換フエニル基、ナフチル基、あるいは２位置
置換ナフチル基であることが望ましいが、その中
でも特にフエニル基、ナフチル基、２，６−ジク
ロルフエニル基、２，６−ジメトキシフエニル
基、２−メチルナフチル基、２−メトキシナフチ
ル基、２，５−ジメチルフエニル基、あるいは
２，４，６−トリメチルフエニル基であることが
望ましい。 R¹がC₁〜₁₈のアルキル基である場合の例とし
て、メチル基、プロピル基、ｉ−ブチル基、ｔ−
ブチル基、ｉ−ペンチル基、オクチル基、および
デシル基が挙げられる。 R¹がアルキル置換あるいはアルコキシル置換
シクロペンチル基、シクロフエニル基、フエニル
基、ナフチル基、あるいはビフエニル基である場
合、その中にC₁〜₁₂のアルキル基としてメチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−、ｔ−、あ
るいはｎ−ブチル基、ペンチル基、オクチル基、
およびデシル基が挙げられる。 C₁〜₄のアルキル基としてメチル基、エチル基、
プロピル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｔ
−ブチル基、およびｎ−ブチル基が挙げられる。 本発明によるビスアシルホスフインオキサイド
としてビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−フ
エニルホスフインオキサイド、ビス（２，６−ジ
クロルベンゾイル）−２，５−ジメチルフエニル
ホスフインオキサイド、ビス（２，６−ジクロル
ベンゾイル）−４−エトキシフエニルホスフイン
オキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイ
ル）−４−ビフエニルホスフインオキサイド、ビ
ス（２，６−ジクロルベンゾイル）−４−プロピ
ルフエニルホスフインオキサイド、ビス（２，６
−ジクロルベンゾイル）−２−ナフチルホスフイ
ンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイ
ル）−１−ナフチルホスフインオキサイド、ビス
（２，６−ジクロルベンゾイル）−４−クロルフエ
ニルホスフインオキサイド、ビス（２，６−ジク
ロルベンゾイル）−２，４−ジメトキシフエニル
ホスフインオキサイド、ビス（２，６−ジクロル
ベンゾイル）−デシルホスフインオキサイド、ビ
ス（２，６−ジクロルベンゾイル）−４−オクチ
ルフエニルホスフインオキサイド、ビス（２，６
−ジメトキシベンゾイル）−２，５−ジメチルフ
エニルホスフインオキサイド、ビス（２，６−ジ
メトキシベンゾイル）−フエニルホスフインオキ
サイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイ
ル）−２，５−ジメチルフエニルホスフインオキ
サイド、ビス（２，６−ジクロル−３，４，５−
トリメトキシベンゾイル）−２，５−ジメチルフ
エニルホスフインオキサイド、ビス（２，６−ジ
クロル−３，４，５−トリメトキシベンゾイル）
−４−エトキシフエニルホスフインオキサイド、
ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−２，５−
ジメチルフエニルホスフインオキサイド、ビス
（２−メチル−１−ナフトイル）−フエニルホスフ
インオキサイド、ビス（２−メチル−１−ナフト
イル）−４−ビフエニリルホスフインオキサイド、
ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−４−エト
キシフエニルホスフインオキサイド、ビス（２−
メチル−１−ナフトイル）−２−ナフチルホスフ
インオキサイド、ビス（２−メチル−１−ナフト
イル）−４−プロピルフエニルホスフインオキサ
イド、ビス（２−メトキシ−１−ナフトイル）−
２，５−ジメチルホスフインオキサイド、ビス
（２−メトキシ−１−ナフトイル）−４−エトキシ
フエニルホスフインオキサイド、ビス（２−メト
キシ−１−ナフトイル）４−ビフエニリルホスフ
インオキサイド−ビス（２−メトキシ−１−ナフ
トイル）−２−ナフチルホスフインオキサイド、
ビス（２−クロル−１−ナフトイル）−２，５−
ジメチルフエニルシクロオキサイドを挙げること
ができる。 ビスアシルホスフインオキサイドは本発明に従
つてビスアシルホスフイン（一部はすでに公知で
ある）を酸化することによつて製造することがで
きる。酸化剤としてはたとえばO₂、NO₂、
H₂O₂、および専門家の間で周知のその他の酸化
剤が用いられる。 所望のビスホスフインはたとえば一般式
R¹PH₂であらわされる単一置換ホスフインと
R²COCl、R³COClであらわされる塩化アシルを
化学量反応させることによつて得ることができる
（R₁、R₂、およびR₃は特許請求の範囲第１項に記
載の通りである。）。この場合望ましくは補助塩
基、たとえば第三アミン、の存在下に、それ自体
は公知の方式に従つてHClが放出される。 光重合性モノマーとしては、望ましくはたとえ
ばアリール基、カルボニル基、エステル基、カル
ボキシ基、あるいはシアニツド基によつて活性化
されている、重合可能なＣ−Ｃ多重結合を備えた
化合物ないしは物質が適する。たとえばアクリル
酸およびメタアクリル残並びにそれらと１〜20個
の炭素原子を有する一価ないしは多価アルコール
によるエステル、たとえばメチルメタアクリレー
ト、エチルメタアクリレーート、トリエチレング
リコール−ジメタアクリレートを挙げることがで
きる。さらに、たとえばドイツ特許明細書
1921869および米国特許明細書3066112に記載のモ
ノマー、すなわちビスフエノールＡのアクリル−
あるいはメタアクリル誘導体も使用することがで
きる。 その他１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）ア
クリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）
アクリレート、トリ−あるいはテトラエチレング
リコールジ（メタ）アクリレートおよびドイツ特
許明細書2816823に記載のビス−ヒドロキシメチ
ルトリシクロ〔５，２，１，０，２，６〕デカン
のジアクリル酸−およびジメタアクリル酸−エス
テルのような、アルカンジオールジアクリレート
およびアルカンジオールジメタアクリレートも使
用することができる。さらに又たとえばドイツ特
許公告明細書2312559に生成物のジイソシアネー
トとヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートの
反応生成物、米国特許明細書3629187に記載のジ
イソシアネートと２，２−プロパン−ビス−３−
（４−フエノキシ）−１，２−ヒドロキシプロパン
−１−メタアクリレートの付加生成物、並びにた
とえばヨーロツパ特許公告明細書44352に記載の
イソシアネートとメタアクロイルアルキルエーテ
ル、−アルコキシベンゼン、あるいは−アルコキ
シシクロアルカンの付加生成物も使用することが
できる。 もちろん適当なモノマー混合物も使用すること
ができる。 さらにスチレンおよびその誘導体、たとえばα
−メチルスチレンのようなスチレンのα−アルキ
ル誘導体やビニルトルエンなどの芳香族ビニル混
合物も使用することができる。 重合可能な高分子量化合物としては、たとえば
α，β−不飽和ジカルボン酸−必要に応じて飽和
ジカルボン酸との混合物−とアルカンジオールの
反応によつて得られる不飽和ポリエステルが適当
である。 光重合材料の組成は使用目的に応じてそれぞれ
専門家には周知のことであるが、光重合性化合物
には公知の様式に従つて飽和および／あるいは不
飽和ポリマー並びにその他の添加物、たとえば熱
重合禁止剤、顔料、染料、過酸化物および充填な
どを添加することができる。これらの混合物につ
いては専門家の間で周知である。添加物の種類お
よび量は目的に応じて選択することができる。本
発明によるビスアシルホスフインオキサイドは通
常光重合物質に対して0.01ないし15重量％、望ま
しくは0.05ないし５重量％使用される。本発明に
よるビスアシルホスフインオキサイドは、必要な
場合には助触媒および／あるいは他の光重合開始
剤と組合せて使用することができる。助触媒とし
てたとえば第二および／あるいは第三アミン、亜
リン酸塩、スルフイン酸誘導体およびバルビター
ル酸誘導体が専問家の間で知られている。ビスア
シルホスフインオキサイドは、必要な場合には上
記の助触媒の存在下に、他の光重合開始剤と組合
せて使用することができる。この様な光重合開始
剤として、たとえばペンチルケタール、ベンゾイ
ンエーテル、ベンゾインエステル、チオキサント
ンおよび１，２−ジケトンなどの芳香族ケトン、
カンフルキノンを挙げることができる。 上記混合物の重合を惹起する光線源としては、
一般的に本発明による化合物の吸収範囲の光線、
すなわち200ないし500nmの光線を放射する光線
源を使用することが望ましい。歯科材料の硬化に
対しては特に400ないし500nmの波長の光線が適
当である。これに対して水銀−低圧−、中圧−、
および高圧−放射体、強力な化学作用を有する螢
光管、パルス放射体並びに白熱電球、たとえばハ
ロゲンランプが適当である。 本発明によるビスアシルホスフインオキサイド
の特にすぐれている点は、光重合開始剤として非
常にすぐれており、これを用いることによつて螢
光管のような長波長の、すなわち無害の光源によ
る光重合が可能であるという点、および太陽光線
による硬化が可能であるという点である。 実施例 １（製造例） ａ ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−２，
５−ジメチルフエニルホスフイン トルエン60mlに２，６−ジクロルベンゾイルク
ロライド46.6ｇを混合し、20℃においてこれに
２，５−ジメチルフエニルホスフイン13.8ｇを添
加する。この混合物を90℃に加熱し、５分以内に
乾燥トリエチルアミン22.2ｇを添加し、同じ温度
においてさらに５時間撹拌し、完全に置換反応さ
せる。反応混合物を希釈した後、水および重炭酸
塩の希薄溶液で二回洗浄し、有機相を脱水し、減
圧下に乾燥させる。これによつて標記の化合物が
黄色の結晶として得られる。純度は95％以上
（HPLC）であり、収量は50ｇである。 ｂ ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−２，
５−ジメチルフエニルホスフインオキサイド 未精製のビス（２，６−ジクロルベンゾイル）
−２，５−ジメチルフエニルホスフイン（50ｇ）
をアセトニトリル１に溶解し、これに30％の過
酸化水素150mlを添加し、１時間60℃に加熱した。
濃色化の下にホスフインオキサイドが得られる。
水を添加し、冷却することによつて結晶が沈下す
る。アセトニトリル／水を用いて再結晶させるこ
とによつて標記の化合物が37ｇ得られる。 凝固点：172℃ 紫外吸収スペクトル：λ_nax＝366nm（εmol＝
1065） 31P−NMR：δ＝＋9.1ppm（外部標準：H₃PO₄） 1H−NMR：δ＝2.3ppm（Ｓ；3H） 2.6ppm（ｄ、Ｊ（PCCCH）＝１Hz；3H） 7.05〜7.35ppm（ｍ；8H） 7.26ppm（ｄ、Ｊ（PCCH） ＝13Hz；1H） 赤外吸収スペクトル：γ（Ｃ＝Ｏ）＝1703cm^-1 γ（Ｐ＝Ｏ）＝1200cm^-1 元素分析：C₂₂H₁₅Cl₄O₃P（500.14） 理論値：Ｃ＝52.83％、Ｈ＝3.02％、 Cl＝28.36％ 実験値：Ｃ＝52.72％、Ｈ＝3.07％、 Cl＝28.04％ 同様にして表１に記載の化合物が得られる。

【表】 インオキサイド

【表】 ＊ 軟化点
実施例 ２（使用例） ビス−アクリロキシメチル−トリシクロ−〔５，
２，１，０，２，６〕−デカン70重量部および２，
２−ビス−４−（３−メタアクリロキシ−２−ヒ
ドロキシロポキシ）−フエニルプロパン（ビス−
GMA）30重量部を注意深く加熱しながら透明溶
液となるまで撹拌する。溶液を室温まで冷却
した後これに光重合アルコキシル開始剤を0.5重
量パーセント加えて撹拌し、透明溶液とする。 得られた溶液をシリンダー（直径５mm、長さ約
８mm、厚い層に対しては20mm）中に充填する。次
いで市販の歯科用照射装置（Eli−par−Visio／
EsPe）を用いて20秒間露光した後、重合物をシ
リンダーから取り出し、柔かいあるいはゲル状
の、未重合成分をプラスチツクのへらで取り除
く、層の厚さを測定する。この場合溶液は重合前
に光を遮断した場所において１日ないし１ケ月保
存したものを使用する。この結果は表２の通りで
ある。

【表】 本発明よるビスアシルホスフインオキサイドは
公知のモノアシルホスフインオキサイドに比べて
400nm以上の波長範囲において格段に高い吸光度
を示し、二倍以上の層を形成する上に、１ケ月後
においてもその作用性は３％しか減少しないしこ
れに比べてモノアシルホスフインオキサイドは７
〜20％減少）。 実施例 ３（使用例） 光重合性歯科充填材（組成物）の製造 ビスアクリルオキシメチル−トリシクロ−〔５、
２、１、０、２，６〕−デカン35重量部、ビス−
GMA15重量部および熱性ケイ酸７重量部を混練
する。 この混練混合物1.84ｇおよび実施例２で得られ
る溶液1.66ｇを５分間撹拌して混合する。次い
で歯用顔料の石英（平均粒子径約6μm）を全体で
15ｇ混合し、一様な粘度の歯充填材を製造する。
このペーストを実施例２に記載の方法に従つて充
填し、20秒間露光する。これによつて５mmの重合
層が得られる。重合物の圧縮強度は300MPaであ
る。 実施例 ４（使用例） 表３に記載の光重合開始剤を使用して実施例３
と同様に製造した歯充填材をシリンダー（直径３
mm、高さ３mm）中に充填する。このシリンダーの
中央には温度探知器が備え付けられていて、重合
中の温度を測定することができるようになつてい
る。市販の歯科用照射装置（Ｅ−lipar−Visio−
Lampe／Espe）を用いて20秒間照射した後シリ
ンダーから取り出し、油状の層をトルエンを用い
て除去する。シリンダーの上面および下面におけ
る油状層の量（mg／cm²）をそれぞれ重量差から求
める。さらに時間に関する温度経過を温度探知器
およびそれに接続の測定器によつて追跡する。結
果は次の表３の通りである。

【表】 フインオキサイ
ド(本発明品)
これから従来の開始剤に比べて本発明によるビ
スアシルホスフインオキサイドが高い重合速度を
有すること、および酸素による抑制が小さいこと
が明らかである。

【特許請求の範囲】

１ 一般式（） （式中、R₁は炭素数１〜29のアルキル基を、
R₂は水素原子又はベンジル基を、R₃は水素原子
又はフエニル基を示す） で表わされるα，α−トレハロース誘導体。

Claims (1)

1. （ここでｎは１あるいは２であり、R⁴、R⁵、
   R⁶およびR⁷はＨ、C_1〜4のアルキル基、C_1〜4のア
   ルコキシル基、Ｆ、ClあるいはBrである）、R²お
   よびR³は同一である場合も異なつている場合も
   あるが、それぞれシクロヘキシル基、シクロペン
   チル基、フエニル基、ナフチル基あるいはビフエ
   ニリル基の内の一つ；Ｆ、Cl、Br、Ｉ、C_1〜4の
   アルキル基および／あるいはC_1〜4のアルコキシル
   基で置換されたシクロヘキシル基、シクロペンチ
   ル基、フエニル基、ナフチル基あるいはビフエニ
   リル基の内の一つ；あるいはＳあるいはＮを含有
   する５員あるいは６員複素環式環の一つである
   か、あるいはR²およびR³は互いに結合して、４
   〜10個の炭素原子を含む環を形成していて、その
   場合に環は置換基としてC_1〜4のアルキル基を１〜
   ６個含有し得る。〕 ２ R¹がデシル、フエニル、ナフチル、４−ビ
   フエニリル、２−メチルフエニル、１−メチルナ
   フチル、２，５−ジメチルフエニル、４−プロピ
   ルフエニル、４−オクチルフエニル、４−クロル
   フエニル、あるいは４−エトキシフエニル基であ
   ることを特徴とする、特許請求の範囲の第１項に
   記載の化合物。 ３ R²およびR³がフエニル基、２および６位置
   に置換基を有するフエニル基、ナフチル基、ある
   いは２位置に置換基を有するナフチル基であるこ
   とを特徴とする、特許請求の範囲の第１項あるい
   は第２項に記載の化合物。 ４ R²およびR³がフエニル基、ナフチル基、２，
   ６−ジクロルフエニル基、２，６−ジメトキシフ
   エニル基、２−メチルナフチル基、２−メトキシ
   ナフチル基、２，６−ジメチルフエニル基、ある
   いは２，４，６−トリメチルフエニル基であるこ
   とを特徴とする、特許請求の範囲第１項あるいは
   第２項記載の化合物。 ５ R²およびR³が同一であることを特徴とする、
   特許請求の範囲第１項ないし第４項いずれか１項
   に記載の化合物。 ６ ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−フエ
   ニルホスフインオキサイドである特許請求の範囲
   第１項記載の化合物。 ７ ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−２，
   ５−ジメチルフエニルホスフインオキサイドであ
   る特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ８ ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−４−
   ｎ−プロピルフエニルホスフインオキサイドであ
   る特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ９ 下記一般式であらわされるビスアシルホス
   フインを酸化することを特徴とする、下記一般式
   であらわされるビスアシルホスフインオキサイ
   ドの製造方法。 【式】【式】 （ここでR₁は直鎖あるいは分枝鎖のC_1〜18のア
   ルキル基の内の一つ；シクロヘキシル基、シクロ
   ペンチル基、フエニル基、ナフチル基あるいはビ
   フエニリル基の内の一つ；Ｆ、Cl、Br、Ｉ、
   C_1〜12のアルキル基および／あるいはC_1〜12のアル
   コキシル基で置換されたシクロヘキシル基、シク
   ロペンチル基、フエニル基、ナフチル基あるいは
   ビフエニリル基の内の一つ；ＳあるいはＮを含有
   する５員あるいは６員複素環式環の内の一つ；あ
   るいは下記一般式であらわされる基の内の一つ
   であり、 （ここでｎは１あるいは２であり、R⁴、R⁵、
   R⁶およびR⁷はＨ、C_1〜4のアルキル基、C_1〜4のア
   ルコキシル基、Ｆ、ClあるいはBrである）、R²お
   よびR³は同一である場合も異なつている場合も
   あるが、それぞれシクロヘキシル基、シクロペン
   チル基、フエニル基、ナフチル基あるいはビフエ
   ニリル基の内の一つ；Ｆ、Cl、Br、Ｉ、C_1〜4の
   アルキル基および／あるいはC_1〜4のアルコキシル
   基で置換されたシクロヘキシル基、シクロペンチ
   ル基、フエニル基、ナフチル基あるいはビフエニ
   リル基の内の一つ；あるいはＳあるいはＮを含有
   する５員あるいは６員複素環式環の一つである
   か、あるいはR²およびR³は互いに結合して、４
   〜10個の炭素原子を含む環を形成していて、その
   場合に環は置換基としてC_1〜4のアルキル基を１〜
   ６個含有し得る。〕 １０ 光重合可能な物質中において光重合開始剤
   として使用することを特徴とする、下記一般式
   であらわされるビスアシルホスフインオキサイド
   の使用法。 〔ここでR₁は直鎖あるいは分枝鎖のC_1〜18のア
   ルキル基の内の一つ；シクロヘキシル基、シクロ
   ペンチル基、フエニル基、ナフチル基あるいはビ
   フエニリル基の内の一つ；Ｆ、Cl、Br、Ｉ、
   C_1〜12のアルキル基および／あるいはC_1〜12のアル
   コキシル基で置換されたシクロヘキシル基、シク
   ロペンチル基、フエニル基、ナフチル基あるいは
   ビフエニリル基の内の一つ；ＳあるいはＮを含有
   する５員あるいは６員複素環式環の内の一つ；あ
   るいは下記一般式であらわされる基の内の一つ
   であり、 （ここでｎは１あるいは２であり、R⁴、R⁵、
   R⁶およびR⁷はＨ、C_1〜4のアルキル基、C_1〜4のア
   ルコキシル基、Ｆ、ClあるいはBrである）、R²お
   よびR³は同一である場合も異なつている場合も
   あるが、それぞれシクロヘキシル基、シクロペン
   チル基、フエニル基、ナフチル基あるいはビフエ
   ニリル基の内の一つ；Ｆ、Cl、Br、Ｉ、C_1〜4の
   アルキル基および／あるいはC_1〜4のアルコキシル
   基で置換されたシクロヘキシル基、シクロペンチ
   ル基、フエニル基、ナフチル基あるいはビフエニ
   リル基の内の一つ；あるいはＳあるいはＮを含有
   する５員あるいは６員複素環式環の一つである
   か、あるいはR²およびR³は互いに結合して、４
   〜10個の炭素原子を含む環を形成していて、その
   場合に環は置換基としてC_1〜4のアルキル基を１〜
   ６個含有し得る。〕