JPH04325505A - 光学用樹脂 - Google Patents
光学用樹脂Info
- Publication number
- JPH04325505A JPH04325505A JP9563891A JP9563891A JPH04325505A JP H04325505 A JPH04325505 A JP H04325505A JP 9563891 A JP9563891 A JP 9563891A JP 9563891 A JP9563891 A JP 9563891A JP H04325505 A JPH04325505 A JP H04325505A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- monomer composition
- meth
- compound
- refractive index
- component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 18
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 17
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 21
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 abstract description 8
- 239000001294 propane Substances 0.000 abstract description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 6
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 abstract description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 abstract description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 abstract description 2
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 abstract 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 11
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- -1 for example Substances 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- ZODNDDPVCIAZIQ-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3-prop-2-enoyloxypropyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)COC(=O)C=C ZODNDDPVCIAZIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRNVQLOKVMWBFR-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzenedithiol Chemical compound SC1=CC=CC=C1S JRNVQLOKVMWBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWUWMCYKGHVNAV-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydrostilbene Chemical group C=1C=CC=CC=1CCC1=CC=CC=C1 QWUWMCYKGHVNAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRJNEUBECVAVAG-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(ethenyl)benzene Chemical compound C=CC1=CC=CC(C=C)=C1 PRJNEUBECVAVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940058015 1,3-butylene glycol Drugs 0.000 description 1
- WEERVPDNCOGWJF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(ethenyl)benzene Chemical compound C=CC1=CC=C(C=C)C=C1 WEERVPDNCOGWJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQJQPCJDKBKSLV-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-3-ethenylbenzene Chemical compound BrC1=CC=CC(C=C)=C1 KQJQPCJDKBKSLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGGLDBIZIQMEGH-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-4-ethenylbenzene Chemical compound BrC1=CC=C(C=C)C=C1 WGGLDBIZIQMEGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOVQCIDBZXNFEJ-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-3-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(C=C)=C1 BOVQCIDBZXNFEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHUZSRRCICJJCN-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC(C=C)=C1 XHUZSRRCICJJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVIDDMGBRCPGLJ-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(oxiran-2-ylmethoxy)propan-1-ol Chemical compound C1OC1COC(CO)COCC1CO1 IVIDDMGBRCPGLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSWYGACWGAICNM-UHFFFAOYSA-N 2-(prop-2-enoxymethyl)oxirane Chemical compound C=CCOCC1CO1 LSWYGACWGAICNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- PBGVMIDTGGTBFS-UHFFFAOYSA-N but-3-enylbenzene Chemical compound C=CCCC1=CC=CC=C1 PBGVMIDTGGTBFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 1
- FSRYENDEMMDKMT-UHFFFAOYSA-N butoxy ethaneperoxoate Chemical group CCCCOOOC(C)=O FSRYENDEMMDKMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTGWMJJKPLJKQD-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical group CCCCOOC(=O)C(C)(C)C DTGWMJJKPLJKQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- CPZVJYPXOWWFSW-VAWYXSNFSA-N dibenzyl (e)-but-2-enedioate Chemical compound C=1C=CC=CC=1COC(=O)/C=C/C(=O)OCC1=CC=CC=C1 CPZVJYPXOWWFSW-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- WZAPMKYCDNQBOC-UHFFFAOYSA-N dibenzyl 2-methylidenebutanedioate Chemical compound C=1C=CC=CC=1COC(=O)C(=C)CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 WZAPMKYCDNQBOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical class IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRDFRRGEGBBSRN-UHFFFAOYSA-N isobutyronitrile Chemical compound CC(C)C#N LRDFRRGEGBBSRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002898 organic sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229940059574 pentaerithrityl Drugs 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- BWJUFXUULUEGMA-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl propan-2-yloxycarbonyloxy carbonate Chemical compound CC(C)OC(=O)OOC(=O)OC(C)C BWJUFXUULUEGMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- WYKYCHHWIJXDAO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOC(C)(C)C WYKYCHHWIJXDAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は機械的特性及び屈折率、
色収差等の光学特性に優れる光学用樹脂に関する。
色収差等の光学特性に優れる光学用樹脂に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、軽量性、成形容易性、耐衝撃性お
よび染色性などに優れた合成樹脂材料が、無機硝子に代
わってプラスチックレンズ材料として使用されている。 該合成樹脂材料としては、例えば、ポリメチルメタクリ
レート、ポリジエチレングリコールビスアリルカーボネ
ート、ポリスチレン、ポリカーボネート等が知られてい
るが、前記ポリメチルメタクリレート、ポリジエチレン
グリコールビスアリルカーボネートでは、軽量性、耐衝
撃性に優れているものの、屈折率が1.49程度と低い
ためレンズとして用いる場合、無機硝子に比べて厚いレ
ンズが要求され、高倍率化、軽量化には適さないという
欠点がある。また、前記ポリスチレン、ポリカーボネー
トにおいては屈折率は、1.58〜1.59程度と高い
ものの、熱可塑性樹脂であるため、射出成形時に複屈折
による光学歪を生じやすいという問題があり、ほかにも
耐溶剤性、耐擦傷性に欠けるなどの欠点がある。
よび染色性などに優れた合成樹脂材料が、無機硝子に代
わってプラスチックレンズ材料として使用されている。 該合成樹脂材料としては、例えば、ポリメチルメタクリ
レート、ポリジエチレングリコールビスアリルカーボネ
ート、ポリスチレン、ポリカーボネート等が知られてい
るが、前記ポリメチルメタクリレート、ポリジエチレン
グリコールビスアリルカーボネートでは、軽量性、耐衝
撃性に優れているものの、屈折率が1.49程度と低い
ためレンズとして用いる場合、無機硝子に比べて厚いレ
ンズが要求され、高倍率化、軽量化には適さないという
欠点がある。また、前記ポリスチレン、ポリカーボネー
トにおいては屈折率は、1.58〜1.59程度と高い
ものの、熱可塑性樹脂であるため、射出成形時に複屈折
による光学歪を生じやすいという問題があり、ほかにも
耐溶剤性、耐擦傷性に欠けるなどの欠点がある。
【0003】そこで最近になって、高屈折率であって前
記従来の欠点を改善するためのいくつかの技術提案がな
されている。例えば、特開平1−309002号公報に
は、ジスチリル型の有機硫黄化合物と、3又は4価のチ
オール化合物とを硬化させてなるプラスチックレンズが
、また特開平1−315701号公報には、分子内にビ
ニル基をモル平均で1.3個以上有する化合物と、チオ
ール基をモル平均で1.1個以上有する化合物とを特定
の割合で混合し硬化させてなる含硫黄プラスチックレン
ズが、更に、特開平2−58001号公報には、ジメル
カプトベンゼン核置換物と1分子あたり少なくとも2個
の反応性不飽和基を有する化合物とを反応させて得られ
る高屈折率光学用樹脂がそれぞれ提案されている。しか
しながら前述の硫黄含有光学用樹脂は、高屈折率を有し
ているものの加熱時に原料に用いる比較的低分子量のチ
オール化合物の悪臭が強く、作業環境的に問題があり、
また組成物の粘度が高いためにハンドリング性に劣ると
いう問題がある。さらに縮合重合系の組成物では、硬化
時の重合コントロ−ルが難しいために、歩止まりが悪い
などの問題がある。
記従来の欠点を改善するためのいくつかの技術提案がな
されている。例えば、特開平1−309002号公報に
は、ジスチリル型の有機硫黄化合物と、3又は4価のチ
オール化合物とを硬化させてなるプラスチックレンズが
、また特開平1−315701号公報には、分子内にビ
ニル基をモル平均で1.3個以上有する化合物と、チオ
ール基をモル平均で1.1個以上有する化合物とを特定
の割合で混合し硬化させてなる含硫黄プラスチックレン
ズが、更に、特開平2−58001号公報には、ジメル
カプトベンゼン核置換物と1分子あたり少なくとも2個
の反応性不飽和基を有する化合物とを反応させて得られ
る高屈折率光学用樹脂がそれぞれ提案されている。しか
しながら前述の硫黄含有光学用樹脂は、高屈折率を有し
ているものの加熱時に原料に用いる比較的低分子量のチ
オール化合物の悪臭が強く、作業環境的に問題があり、
また組成物の粘度が高いためにハンドリング性に劣ると
いう問題がある。さらに縮合重合系の組成物では、硬化
時の重合コントロ−ルが難しいために、歩止まりが悪い
などの問題がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】したがって本発明の目
的は、プラスチックレンズ用あるいはその他の光学用樹
脂として望ましい屈折率、色収差、透明度等を有し、種
々の機械的特性に優れ、また比重が小さく、更には低臭
性で硬化させる際のハンドリング性に優れた光学用樹脂
を提供することにある。
的は、プラスチックレンズ用あるいはその他の光学用樹
脂として望ましい屈折率、色収差、透明度等を有し、種
々の機械的特性に優れ、また比重が小さく、更には低臭
性で硬化させる際のハンドリング性に優れた光学用樹脂
を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記一
般式化3で表わされる化合物(以下成分Aと称す)と、
下記一般式化4で表わされる化合物(以下成分Bと称す
)とを必須成分として含む原料モノマ−組成物を重合硬
化して得られる光学用樹脂が提供される。
般式化3で表わされる化合物(以下成分Aと称す)と、
下記一般式化4で表わされる化合物(以下成分Bと称す
)とを必須成分として含む原料モノマ−組成物を重合硬
化して得られる光学用樹脂が提供される。
【0006】
【化3】
【0007】
【化4】
【0008】以下本発明を更に詳細に説明する。
【0009】本発明において原料モノマ−組成物として
用いる成分Aは、前記一般式化3で表わされる化合物で
あり、具体例としては、スチレン、α−メチルスチレン
、p−クロロスチレン、m−クロロスチレン、p−ブロ
モスチレン、m−ブロモスチレン及びこれらの混合物が
好ましく挙げられる。
用いる成分Aは、前記一般式化3で表わされる化合物で
あり、具体例としては、スチレン、α−メチルスチレン
、p−クロロスチレン、m−クロロスチレン、p−ブロ
モスチレン、m−ブロモスチレン及びこれらの混合物が
好ましく挙げられる。
【0010】また、本発明において原料モノマ−組成物
として用いる成分Bは、前記一般式化4で表わされる化
合物であり、2,2−ビス[4−(2’−ヒドロキシ−
3’−アクリロキシプロピレンオキシ)フェニル]プロ
パン、2,2−ビス[4−(2’−ヒドロキシ−3’−
メタクリロキシプロピレンオキシ)フェニル]プロパン
及びこれらの混合物である。
として用いる成分Bは、前記一般式化4で表わされる化
合物であり、2,2−ビス[4−(2’−ヒドロキシ−
3’−アクリロキシプロピレンオキシ)フェニル]プロ
パン、2,2−ビス[4−(2’−ヒドロキシ−3’−
メタクリロキシプロピレンオキシ)フェニル]プロパン
及びこれらの混合物である。
【0011】本発明における成分Aと成分Bの配合割合
は、他の原料モノマー成分との組み合わせにより一定し
ないが、成分A20〜80重量%、成分B5〜50重量
%が好ましい。この際、前記成分Aの配合割合が20重
量%未満では十分な屈折率が得られず、また80重量%
より多いと十分な機械的強度が得られないので、前記範
囲内とするのが好ましい。また、前記成分Bの配合割合
が5重量%未満では十分な耐熱性が得られず、また50
重量%より多いと充分な屈折率が得られないので、前記
範囲内とするのが好ましい。
は、他の原料モノマー成分との組み合わせにより一定し
ないが、成分A20〜80重量%、成分B5〜50重量
%が好ましい。この際、前記成分Aの配合割合が20重
量%未満では十分な屈折率が得られず、また80重量%
より多いと十分な機械的強度が得られないので、前記範
囲内とするのが好ましい。また、前記成分Bの配合割合
が5重量%未満では十分な耐熱性が得られず、また50
重量%より多いと充分な屈折率が得られないので、前記
範囲内とするのが好ましい。
【0012】さらに、本発明において必須成分である成
分A及び成分B以外に用いられる原料モノマー組成物成
分としては、具体的にはたとえば、2,2−ビス[4−
(メタ)アクリロキシエチレンオキシ)フェニル]プロ
パン、2,2−ビス[4−((メタ)アクリロキシジエ
チレンオキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4
−((メタ)アクリロキシポリエチレンオキシ)フェニ
ル]プロパン、2,2−ビス[3、5−ジブロモ−4−
(メタ)アクリロキシジエチレンオキシ)フェニル]プ
ロパン、p−ビニルエチルベンゼン、m−ビニルエチル
ベンゼン、p−ジビニルベンゼン、m−ジビニルベンゼ
ン、メチル(メタ)アクリレート、エチレングリコ−ル
ジ(メタ)アクリレ−ト、ジエチレングリコ−ルジ(メ
タ)アクリレ−ト、トリエチレングリコ−ルジ(メタ)
アクリレ−ト、ポリエチレングリコ−ルジ(メタ)アク
リレ−ト、1,6−ヘキサンジオ−ルジ(メタ)アクリ
レ−ト、ネオペンチルグリコ−ルジ(メタ)アクリレ−
ト、ポリプロピレングリコ−ルジ(メタ)アクリレ−ト
、2−ヒドロキシ−1−アクリロキシ−3−メタクリロ
キシプロパン、1,3−ブチレングリコ−ルジ(メタ)
アクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパントリメタクリレ
−ト、テトラメチロ−ルメタントリ(メタ)アクリレ−
ト、テトラメチロ−ルメタンテトラアクリレ−ト、ジペ
ンタエリスリト−ルヘキサアクリレ−ト、グリシジルメ
タクリレート、グリシジルアリルエーテル、グリセリン
ジグリシジルエ−テルの(メタ)アクリル酸付加物、ジ
ベンジルイタコネート、ジベンジルメサコネート、ジベ
ンジルフマレート等及びこれらの混合物を好ましく挙げ
ることができる。成分A及び成分Bに対する前記化合物
の配合割合は、0〜50重量%が好ましく、50重量%
より多いと十分な屈折率が得られないので、前記範囲内
とするのが好ましい。なお、前記化合物は公知の方法で
得ることができる。
分A及び成分B以外に用いられる原料モノマー組成物成
分としては、具体的にはたとえば、2,2−ビス[4−
(メタ)アクリロキシエチレンオキシ)フェニル]プロ
パン、2,2−ビス[4−((メタ)アクリロキシジエ
チレンオキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4
−((メタ)アクリロキシポリエチレンオキシ)フェニ
ル]プロパン、2,2−ビス[3、5−ジブロモ−4−
(メタ)アクリロキシジエチレンオキシ)フェニル]プ
ロパン、p−ビニルエチルベンゼン、m−ビニルエチル
ベンゼン、p−ジビニルベンゼン、m−ジビニルベンゼ
ン、メチル(メタ)アクリレート、エチレングリコ−ル
ジ(メタ)アクリレ−ト、ジエチレングリコ−ルジ(メ
タ)アクリレ−ト、トリエチレングリコ−ルジ(メタ)
アクリレ−ト、ポリエチレングリコ−ルジ(メタ)アク
リレ−ト、1,6−ヘキサンジオ−ルジ(メタ)アクリ
レ−ト、ネオペンチルグリコ−ルジ(メタ)アクリレ−
ト、ポリプロピレングリコ−ルジ(メタ)アクリレ−ト
、2−ヒドロキシ−1−アクリロキシ−3−メタクリロ
キシプロパン、1,3−ブチレングリコ−ルジ(メタ)
アクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパントリメタクリレ
−ト、テトラメチロ−ルメタントリ(メタ)アクリレ−
ト、テトラメチロ−ルメタンテトラアクリレ−ト、ジペ
ンタエリスリト−ルヘキサアクリレ−ト、グリシジルメ
タクリレート、グリシジルアリルエーテル、グリセリン
ジグリシジルエ−テルの(メタ)アクリル酸付加物、ジ
ベンジルイタコネート、ジベンジルメサコネート、ジベ
ンジルフマレート等及びこれらの混合物を好ましく挙げ
ることができる。成分A及び成分Bに対する前記化合物
の配合割合は、0〜50重量%が好ましく、50重量%
より多いと十分な屈折率が得られないので、前記範囲内
とするのが好ましい。なお、前記化合物は公知の方法で
得ることができる。
【0013】本発明の高屈折率光学樹脂を調製するには
、例えば、前記原料モノマ−組成物をラジカル重合開始
剤の存在下、光または加熱重合することにより得ること
ができる。前記ラジカル重合開始剤は、10時間半減期
温度が160℃以下の有機過酸化物またはアゾ化合物を
用いることができる。具体的には例えば、過酸化ベンゾ
イル、ジイソプロピルペルオキシジカーボネート、ター
シャリブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、
ターシャリブチルペルオキシピバレート、ターシャリブ
チルペルオキシネオデカノエート、ターシャリブチルペ
ルオキシジイソブチレート、過酸化ラウロイル、タ−シ
ャリブチルペルオキシアセテート、ターシャリペルオキ
シオクトエイト、ターシャリブチルペルオキシベンゾエ
イト、アゾビスイソブチロニトリル等が挙げられ、使用
に際しては単独又は混合物として用いることができる。 前記ラジカル重合開始剤の使用量は原料モノマ−組成物
100重量部に対し10重量部以下、特に好ましくは5
重量部以下であるのが望ましい。
、例えば、前記原料モノマ−組成物をラジカル重合開始
剤の存在下、光または加熱重合することにより得ること
ができる。前記ラジカル重合開始剤は、10時間半減期
温度が160℃以下の有機過酸化物またはアゾ化合物を
用いることができる。具体的には例えば、過酸化ベンゾ
イル、ジイソプロピルペルオキシジカーボネート、ター
シャリブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、
ターシャリブチルペルオキシピバレート、ターシャリブ
チルペルオキシネオデカノエート、ターシャリブチルペ
ルオキシジイソブチレート、過酸化ラウロイル、タ−シ
ャリブチルペルオキシアセテート、ターシャリペルオキ
シオクトエイト、ターシャリブチルペルオキシベンゾエ
イト、アゾビスイソブチロニトリル等が挙げられ、使用
に際しては単独又は混合物として用いることができる。 前記ラジカル重合開始剤の使用量は原料モノマ−組成物
100重量部に対し10重量部以下、特に好ましくは5
重量部以下であるのが望ましい。
【0014】前記加熱重合をさせるには、例えば前記原
料モノマ−組成物とラジカル重合開始剤とを直接所望の
型枠内に仕込み、好ましくは0〜200℃、1〜48時
間加熱することにより重合させることができる。この際
、重合系は、例えば窒素、二酸化炭素、ヘリウムなどの
不活性ガス雰囲気下で行なうのが望ましい。また、前記
重合させる前に、前記原料モノマ−組成物を例えば0〜
200℃、0.5〜48時間予備重合させたのち、所望
の型枠内に仕込み、後重合させることもできる。
料モノマ−組成物とラジカル重合開始剤とを直接所望の
型枠内に仕込み、好ましくは0〜200℃、1〜48時
間加熱することにより重合させることができる。この際
、重合系は、例えば窒素、二酸化炭素、ヘリウムなどの
不活性ガス雰囲気下で行なうのが望ましい。また、前記
重合させる前に、前記原料モノマ−組成物を例えば0〜
200℃、0.5〜48時間予備重合させたのち、所望
の型枠内に仕込み、後重合させることもできる。
【0015】また、前記原料モノマ−組成物には、UV
吸収剤、着色防止剤、染色促進剤等の添加物を必要に応
じて添加することもできる。さらに、硬化物の表面物性
を向上させる目的で、硬化後に種々の表面処理を施すこ
ともできる。
吸収剤、着色防止剤、染色促進剤等の添加物を必要に応
じて添加することもできる。さらに、硬化物の表面物性
を向上させる目的で、硬化後に種々の表面処理を施すこ
ともできる。
【0016】
【発明の効果】本発明の光学用樹脂は、1.55以上の
屈折率及び高いアッベ数を有し、しかも光学歪が小さく
、光学的透明性、耐熱性、耐溶剤性及び耐衝撃性にも優
れており、さらには比重が小さく軽量化が可能である。 また、原料モノマ−組成物を仕込む際及び硬化させる際
において硫黄化合物特有の悪臭が無く、更に原料モノマ
−組成物が低粘度であるため、ハンドリング性に優れ、
硬化重合の際の反応制御及び成型が容易であるので、メ
ガネ用レンズ、カメラレンズ、光学用素材などのプラス
チックレンズ用あるいはその他の光学用樹脂材料として
有用である。
屈折率及び高いアッベ数を有し、しかも光学歪が小さく
、光学的透明性、耐熱性、耐溶剤性及び耐衝撃性にも優
れており、さらには比重が小さく軽量化が可能である。 また、原料モノマ−組成物を仕込む際及び硬化させる際
において硫黄化合物特有の悪臭が無く、更に原料モノマ
−組成物が低粘度であるため、ハンドリング性に優れ、
硬化重合の際の反応制御及び成型が容易であるので、メ
ガネ用レンズ、カメラレンズ、光学用素材などのプラス
チックレンズ用あるいはその他の光学用樹脂材料として
有用である。
【0017】
【実施例】以下、実施例及び比較例により本発明をさら
に詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。
に詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。
【0018】
【実施例1】表1に示す原料モノマ−組成物10gに、
ターシャリブチルペルオキシベンゾエートを0.05g
添加混合し、モノマ−組成物を得た。ついで2枚のガラ
ス型中に該モノマ−組成物を仕込んだ後、80℃の恒温
槽中に入れ、硬化温度80℃にて6時間加熱し、さらに
3時間で100℃まで昇温して、ついで100℃で3時
間加熱した。最後に100℃で2時間アニーリング処理
を行い硬化樹脂を得た。得られた硬化樹脂を前記型枠か
ら取り出し、屈折率、アッベ数、b*値および耐熱性を
下記方法に従って測定した。その結果を表1に示す。
ターシャリブチルペルオキシベンゾエートを0.05g
添加混合し、モノマ−組成物を得た。ついで2枚のガラ
ス型中に該モノマ−組成物を仕込んだ後、80℃の恒温
槽中に入れ、硬化温度80℃にて6時間加熱し、さらに
3時間で100℃まで昇温して、ついで100℃で3時
間加熱した。最後に100℃で2時間アニーリング処理
を行い硬化樹脂を得た。得られた硬化樹脂を前記型枠か
ら取り出し、屈折率、アッベ数、b*値および耐熱性を
下記方法に従って測定した。その結果を表1に示す。
【0019】・屈折率及びアッベ数・・・アッベ屈折率
計(アタゴ株式会社製)を用い、また中間液にヨウ化メ
チル飽和溶液を用いて測定を行った。
計(アタゴ株式会社製)を用い、また中間液にヨウ化メ
チル飽和溶液を用いて測定を行った。
【0020】・b*値(黄色度)・・・日本電色工業株
式会社製「フォトメーターモデル1001」を用いて測
定した。なおこの値が小さいほど黄色度が小さく良好で
ある。
式会社製「フォトメーターモデル1001」を用いて測
定した。なおこの値が小さいほど黄色度が小さく良好で
ある。
【0021】・耐熱性・・・130℃のオイルバス中に
て1時間、変形及び変色のないものを○、変形あるいは
変色の有るものを×とした。
て1時間、変形及び変色のないものを○、変形あるいは
変色の有るものを×とした。
【0022】
【実施例2〜5】表1に示す原料モノマ−組成物をそれ
ぞれ用いた以外は、実施例1と同様に硬化樹脂を調製し
、各々測定を行った。その結果を表1に示す。
ぞれ用いた以外は、実施例1と同様に硬化樹脂を調製し
、各々測定を行った。その結果を表1に示す。
【0023】
【表1】
【0024】
【比較例1〜3】表2に示すモノマ−を用いた以外は実
施例1と同様に硬化樹脂を調製し、各々測定を行った。 その結果を表2に示す。
施例1と同様に硬化樹脂を調製し、各々測定を行った。 その結果を表2に示す。
【0025】
【表2】
Claims (1)
- 【請求項1】 (成分A)下記一般式化1で表わされ
る化合物と、(成分B)下記一般式化2で表わされる化
合物とを必須成分として含む原料モノマ−組成物を重合
硬化して得られる光学用樹脂。 【化1】 【化2】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9563891A JPH04325505A (ja) | 1991-04-25 | 1991-04-25 | 光学用樹脂 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9563891A JPH04325505A (ja) | 1991-04-25 | 1991-04-25 | 光学用樹脂 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04325505A true JPH04325505A (ja) | 1992-11-13 |
Family
ID=14143058
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9563891A Pending JPH04325505A (ja) | 1991-04-25 | 1991-04-25 | 光学用樹脂 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04325505A (ja) |
-
1991
- 1991-04-25 JP JP9563891A patent/JPH04325505A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0710897B2 (ja) | プラスチックレンズ | |
| JPH05303003A (ja) | 光学材料用組成物及び光学材料 | |
| JP2867638B2 (ja) | 光学用樹脂 | |
| US5942303A (en) | Resin composition for polymerization casting and optical material | |
| JPH04225007A (ja) | 高屈折率高強度光学用樹脂 | |
| JPH0463301A (ja) | 光学用樹脂 | |
| JP2900597B2 (ja) | 光学用樹脂 | |
| JPH0493306A (ja) | 光学用樹脂 | |
| JPH04296307A (ja) | 光学用樹脂 | |
| JP2969816B2 (ja) | 光学材料用組成物、光学材料及びプラスチックレンズ | |
| JPH051116A (ja) | 光学用樹脂 | |
| JPH04264113A (ja) | 光学用樹脂 | |
| JPH04117415A (ja) | 光学用樹脂 | |
| JPH04249505A (ja) | 光学用樹脂 | |
| JPH04300909A (ja) | 光学用樹脂 | |
| JPH0493309A (ja) | 光学用樹脂 | |
| JPH04173813A (ja) | 光学用樹脂 | |
| JPH04120105A (ja) | 光学用樹脂 | |
| JPH11174201A (ja) | プラスチックレンズ用組成物およびプラスチックレンズ | |
| JPH04372611A (ja) | 光学用樹脂 | |
| JPH05188201A (ja) | 光学用材料 | |
| JPH0679083B2 (ja) | 光学材料 | |
| JPH07304778A (ja) | チオアセタール化合物、単量体組成物及び光学用材料 | |
| JPH0411618A (ja) | 高屈折率光学用樹脂 | |
| JPH0570524A (ja) | 光学用樹脂 |