JPH0531133B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0531133B2 JPH0531133B2 JP56161079A JP16107981A JPH0531133B2 JP H0531133 B2 JPH0531133 B2 JP H0531133B2 JP 56161079 A JP56161079 A JP 56161079A JP 16107981 A JP16107981 A JP 16107981A JP H0531133 B2 JPH0531133 B2 JP H0531133B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- irradiated
- irradiation
- layer
- image
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/38—Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/146—Laser beam
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/167—X-ray
- Y10S430/168—X-ray exposure process
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Steroid Compounds (AREA)
Description
本発明はポジチブ作用する感光性複写材料（こ
れは支持層及び感照射層よりなる）を画像に応じ
て照射し、照射した層域を洗浄することによるレ
リーフコピーの製法に関する。感照射層は、照射
時に酸離脱性の化合物及び少なくとも１種の酸分
解性Ｃ−Ｏ−Ｃ−基を有する化合物を含有する。 この型の複写材料は公知であり、例えば米国特
許第3779778号明細書及び同第4101323号明細書、
西ドイツ国特許第2718254号明細書及び西ドイツ
特許出願公開第2829512号、同第2829511号明細書
に記載されている。その中に含有されている酸分
解性化合物は、オルトカルボン酸誘導体、アセタ
ールのモノマー又はポリマー、エノールエーテル
類又はアシルイミノカーボネートである。この中
に含有されている感照射化合物（これは酸を離脱
する）は、主として有機ハロゲン化合物殊にハロ
ゲノメチル基で置換されたｓ−トリアジンであ
る。 これら組成物の感照射度及び殊に長波長紫外線
に対する感度は、他の工業的に使用されているポ
ジチブ系例えばｏ−キノンジアジドに比べてかな
り増大されている。 しかしながら、酸分解性の化合物を基礎とする
複写材料の感照射度は、ある程度、露出と現像の
間に経過する時間に依り決まり、例えば最大の実
質感度は、露出と現像の間に数分間が過ぎる際に
のみ得られることが判明した。露出と現像の間の
約３分間の貯蔵時間の場合、光に対する実質感度
は、典型的に1.5くさび段まで増大し、即ち露出
と現像との間の時間が15秒だけである場合に測定
される値と比べて約70％高まる。 時間間隔を約５〜40分まで延長する際には、一
定の感度が得られる。 従つて、高い一定感度を得るためには、露出の
後、現像を実施する前に少なくとも５〜10分間待
つことが望ましい。従つて、光に対する高感度の
ために、節約された時間は、この工程の間に実際
に失なわれる。 連続的処理法の場合、例えば印刷版の製造の場
合には、露出した版をホルダー中に貯蔵し、これ
から取り出し、予め決められた時間の後に現像す
ることができる。多数の版を製造すべき場合は、
この延期は、最初に１回だけ行なわれ、重要性が
少ないのに、このようなホルダーは、複雑な構造
上の設計を必要とし、多くの床面積を必要とす
る。更に、連続的操作の場合には、常に、多数の
版がこの不正確な露出に呈された後にのみ露出不
足が判明する危険がある。更に、この単一の版を
処理する際に先立つて必要なこの時間を短縮し
て、全体の処理を他の必要時間内に実施できるこ
とも望ましい。 従つて、本発明の目的は、実際に照射と現像と
の間の待期時間を必要とせず、これにより、待期
時間に無関係である高い感照射度が得られる、前
記種類の感照射材料を有するレリーフ像の製法を
得ることである。 本発明によれば、支持層及び (a)照射時に酸を離脱する化合物及び(b)少なくと
も１個の酸分解性のＣ−Ｏ−Ｃ基を有する化合物
を含有する感照射層よりなる、感照射層を画像に
応じて照射し、照射した層域を現像剤を用いて洗
浄することにより、感照射複写材料の画像に応じ
た照射によりレリーフコピーを製造することが提
案される。 露出と現像の間に印刷版を加熱することは公知
である。西ドイツ特許第1447913号及び同第
1671626号明細書、西ドイツ国特許出願公開第
2342068号明細書には、例えば露出時に酸を形成
する化合物及び酸で交又給合又は効果されうる化
合物、大抵の場合、酸硬化性樹脂を含有するネガ
チブ作用感光材料が記載されている。一般に、適
正な時間内に充分な画像微差を得るためには、こ
の場合に加熱は必須のことである。 公知のポジチブ作用材料即ち露出域で可溶性に
なる材料もあり、この際は、画像微差を得るため
に露出の後に加熱を行なう。西ドイツ特許第
1522495号明細書には、酸硬化性の樹脂及び沃素
又は沃化アルカリが記載されており、ここで加熱
により、露出されなかつた帯域が露出された帯域
よりもより強く硬化されている。 ヨーロツパ特許出願公開第0005775号明細書に
は、ポジチブ作用をするフオトレジスト材料が記
載されており、この反応の様式は他の機構に基づ
いている。ここでは、電子照射により開始される
不溶性層成分のラジカル解重合が加熱により促進
され、解重合生成物が蒸発されている。この場
合、加熱は約30分間まで実施されている。西ドイ
ツ特許出願公開第2945630号明細書によれば、特
定のポリマーの解重合は、少なくとも30分間120
〜170℃に加熱することにより完結される。 本発明により提案された方法により使用されて
いる化合物では、可溶化反応は完全に異なる経過
で進行する。化学線照射の作用により製造された
酸は酸分解可能な化合物をプロトン化し、この
際、反応生成物例えばアルコール又はフエノール
分子の離脱の直後に反応性中間化合物が得られ、
これに水を加えて、最後に、加水分解の最終生成
物に変える。 この反応機構に一般的な特定の態様があり、工
業的に屡々使用されているポジチブ作用化合物で
ある。−ナフトキノンジアジドの光学的反応であ
る。ここでも、反応中間体であるケテンが露出時
に形成され、これは、イオン機構で水を添加し、
アルカリ可溶性インデンカルボン酸に変えられ
る。しかしながら、この方法は非常に迅速に行な
われ、露出を現像との間の熱処理によつて促進す
ることはできない。この理由から、特に、本発明
により使用される感光系中で可溶性生成物の形成
が加熱により促進できることは特に意想外のこと
であつた。 熱が施される方法は、実質的に自由に測定でき
る。従つて熱は、複写材料の支持層を通して、例
えば加熱されたプレート又はローラを用いて管理
できるか、又は、ガス熱伝達器を用いて、例え
ば、空気乾燥炉内で管理することができる。酸を
離脱する化合物の活性化範囲を越えた波長の他の
型のエレクトロマグネチツク照射の作用も有利で
ある。唯一の要点は、照射したコピー層の温度
を、明らかに室温を越える値まで高めることであ
る。一般に、この層は約40℃〜130℃の間の温度
に達すべきである。有利な範囲は、50〜100℃で
あり、この際、65〜90℃の温度にするのが特に有
利である。 40℃より低い温度は一般に、可溶化反応の満足
な促進を開始させるのには充分でなく、130℃よ
り著しく高い温度は、非常に細い画像エレメント
の再現にまつたく屡々逆の影響を及ぼす。この場
合、未露出層も熱の作用により変性されることが
推定される。 この加熱工程は、有利に約0.5〜２分間とすべ
きである。 既に記載のように、本発明による方法で用いら
れている感光性組成物は公知である。酸分解性の
化合物を基礎とする好適な組成物は、先に記載の
文献に記載されている。 米国特許第4101323号明細書に記載のオルトカ
ルボン酸誘導体のうち、脂肪族又は芳香族ヒドロ
キシ化合物のジフエノキシメチルエーテル類、ラ
クタムのＮ−ジフエノキシメチル誘導体及び殊に
脂肪族ジオールのビス−１，３−オゾキサン−２
−イル−エーテル類を使用するのが有利である。 西ドイツ特許第2718254号明細書に記載のポリ
アセタールのうち、脂肪族アルデヒド又はジオー
ル単位を有するものが有利である。 更に好適な組成物は西ドイツ特許第29286300号
明細書に記載されている。ここには、その主鎖中
に再硬化性オルトカルボン酸エステル基を示すオ
ルトカルボン酸エステルポリマーが記載されてい
る。 これらの基は５−又は６−員の１，３−ジオキ
サ−シクロアルカン類の２−アルキルエーテルで
ある。殊に有利なものは、再硬化性１，３−ジオ
キシ−シクロヘキシ−２−イル−アルキルエーテ
ル単位を有するポリマーであり、ここで、アルキ
ルエーテル基は、エーテル性酸素原子で中断され
ていよく、有利に隣接環の５位に結合している。
これらのオルトカルボン酸エステルポリマーのい
くつかは、西ドイツ特許出願公開第2715502号明
細書に記載されている。 感光性組成物中の酸分解性化合物の量的割合
は、組成物の不揮発性成分に対して、一般に８〜
65、有利に14〜44重量％である。 これら組成物は、更に、有利に有機溶剤中に可
溶であるが、水に不要の重合性結合剤を含有して
いるのが有利である。 露出された複写層を現像するために使用するこ
とのできる現像液は、有利にアルカリ水溶液であ
り、これらは一般に、有機溶剤を基礎とする現像
剤が有利あり、殊に水性アルカリ中に溶けるか又
は少なくとも膨潤性である結合剤が有利である。 所望の用途に応じて、種々の型で、種々の量の
水に不溶な結合剤が使用でき、全固体成分に対し
て30〜90殊に55〜85重量％の量が有利に使用され
る。 フエノール樹脂及び、特にノボラツク（これは
多くのポジチブ複写材料と共に有効に使用されて
いる）は、本発明で使用されている組成物中で特
に好適であり、有利であることも立証された。こ
れらは、露出された層部と露出されなかつた層部
との間の現像時の著しい差を強調し、殊に、置換
されたフエノール例えばクレゾールを有するより
高度に凝縮された樹脂は、それらのホルムアルデ
ヒド縮合成分と同様に前記の作用をする。ノボラ
ツクは公知方法で、そのヒドロキシ基分と例えば
クロム酢酸、イソシアネート、エポキシド又は無
水カルボン酸との反応により変性することもでき
る。他のアルカリ可溶性樹脂例えば無水マレイン
酸とスチレン、酢酸ビニルとクロトン酸、メタク
リル酸メチルとメタクリル酸とのコポリマー及び
類似物も結合剤として好適である。 これらに加えて、水に可溶で、アルカリに不溶
である多くの他の樹脂、特にビニルポリマー例え
ばポリ酢酸ビニル、ポリアクリレート、ポリビニ
ルエーテル及びポリビニルピロリドン（これらは
コモノマーで変性されていてもよい）を使用する
ことができる。最も有利なこれら樹脂の割合は、
工業的要求及び現像条件に依り決まり、一般に、
最高アルカリ可溶性樹脂の20％になる。可撓性、
付着性、光沢等の特定の要求を満たすために、こ
の感光性層は付加的に少量のポリグリコール類、
セルロースエーテル類例えばエチルセルロース、
界面活性剤及び微細粒子顔料を含有していてよ
い。 照射時に強酸を形成するか又は離脱する感照射
成分として、多数の公知化合物及び組成物、例え
ばジアゾニウム、ホスホニウム、スルホニウム及
びインドニウム塩、ハロゲン化合物ｏ−キノンジ
アジドスルホクロリド及び有機金属オルガノハロ
ゲン組成物が好適である。 一般に、前記のジアゾニウム、ホスホニウム、
スルホニウム及びヨードニウム化合物は、有機溶
剤中に可溶で、大抵の場合、複雑な酸例えば弗化
ホウ素酸、ヘキサフルオロ燐酸、ヘキサフルオロ
アンチモン酸及びヘキサフルオロ砒酸との反応の
固体生成物である塩の形で使用される。 原則的に、光化学ラジカル開始剤として公知の
すべての有機ハロゲン化合物例えば炭素原子又は
芳香環に１個以上のハロゲン原子が結合している
ものを、ハロゲン含有感照射性の、ハロゲン化水
素酸を形成する化合物として使用することができ
る。それらの例は、米国特許第3515552号、同第
3536489号及び同第3779778号明細書、西ドイツ特
許第2610842号及び西ドイツ特許出願公開第
2718259号、同第2243621号明細書に記載されてい
る。これら化合物のうち、西ドイツ特許出願公開
第2718259号明細書に記載のようなトリアジン核
内に２個のハロゲンメチル基特にトリクロメチル
基及び芳香性置換分を有するｓ−トリアジン誘導
体が有利である。公知のセンシタイザーの意味
で、これらのハロゲン含有化合物の作用は、スペ
クトル的に影響され、増加されうる。 開始剤の化学特性及び組成物の構成に応じて、
種々の量の開始剤が添加されうる。良好な結果は
固体全体に対して約0.1〜10重量％特に02〜５重
量％の量で達成される。特に10μより大きい厚さ
を有するコピー層を得るために、比較的少量の酸
供与体を使用することが推奨されている。 最後に、可溶又は微細粒状の分散可能な染料及
び適当な場合は、UV−吸収剤を感光性組成物に
加えることができる。染料として殊にカルビノー
ル塩基の形のトリフエニルメタン染料が好適であ
ることが立証された。最も有利な量割合は各場合
の予備的な試験の実施により容易に見い出すこと
ができる。 感光性組成物に対する支持体として、工業的な
複写法で通例使用されるすべての材料が好適であ
る。それらの例はプラスチツクフイルム、銅コー
テイングされた絶縁板、陽極化されていてもよい
機械的又は化学的に粗面化されたアルミニウム、
木材、セラミツク、ガラス及び表面が化学的に反
応されていて窒化珪素又は二酸化珪素にされてい
てよい珪素である。支持層として好適なために、
支持材料は、本発明による加熱の間のすべての不
所望の変化に抵抗すべきである。 本明細書中において、照射とは、波長が500μ
以下の電磁化学線照射の作用を意味する。原則的
にこの範囲内の光を発生するすべての照射源を使
用することができる。 特にレーザー発生装置殊に、照射源としてアル
ゴン−イオン−レーザーを有する自動操作装置を
使用することが有利である。この装置中で材料の
高い感光度及び光源の容量に基づき可能である高
速処理の利点を確かめるためには、本発明による
加熱工程を挿入することが必要である。もちろ
ん、通例コピー法に使用されている任意の他の光
も使用できる。 照射は、電子ビームを用いて実施することもで
きる。この場合、酸を離脱するが典型的な意味で
感光性ではない化合物を可溶化反応の開始剤とし
て使用することもできる。この種の化合物の例
は、ハロゲン化された芳香族化合物又はハロゲン
化された炭化水素ポリマーである。画像製造のた
めにＸ−線も使用できる。 画像に応じて露出されたか又は照射された層
は、実際に、ナフトキノンジアジド層と同じ現像
剤及び複写ラツカーを用いる公知方法で除去する
ことができる。現像剤水溶液は、例えば燐酸アル
カリ、珪酸アルカリ又は水酸化アルカリであつて
よい。更に、その中に界面活性剤及び場合によつ
ては、少量の有機溶剤を含有していてよい。特定
の場合に、溶剤水混合物も現像剤として使用でき
る。多くの好適な現像剤は、個個に使用される層
上での試験により選択することができる。必要な
場合には、現像は機械的に支持されうる。 次の例は、本発明の方法の実施を説明するため
のものである。 これらの例中で、重量部及び容量部はｇ及びml
で示されると同じ関係を意味し、パーセンテージ
データ及び量的データは、特にことわりのないか
ぎり重量単位で理解すべきである。 例 １ クレゾールホルムアルデヒドノボラツク（融点範
囲105〜120℃、DIN53181による） 76.2重量部 トリエチレングリコールのビス−ジフエノキシメ
チルエーテル 18.2重量部 トリヒドロキシベンゾフエノン 1.4重量部 ２−（４−メトキシ−ナフチ−１−イル）−４，６
−ビス−トリクロルメチル−ｓ−トリアジン
3.6重量部 及び クリスタルバイオレツト塩基 0.6重量部 よりなる層を、厚さ約2μの電気的に粗面化され、
陽極化されたアルミニウムに施こし、各々の光学
密度が0.15の13段の連続階調オリジナルを通し
て、110cmの間隔で5kWハロゲン化金属灯下で12
秒間露出した。30秒後に、次の組成の現像剤を用
いて現像した。 メタ珪酸ナトリウム・9H2O 5.5重量部 燐酸三ナトリウム・12H2O 3.4重量部 燐酸二水素ナトリウム・（無水） 0.4重量部 水 90.7重量部 ポジチブ像は隠ぺいされたくさび段５を示し、
段２は非常に弱い層残分を示した。露出と現像と
の間に10分間経過させる点を除いて、同じ方法で
試験をくり返した。隠ぺいされたくさび段６が得
られ、段３は調色がなく、これは約40〜50％の感
度利得に相当する。露出と現像の間に層を乾燥箱
中で50秒間80℃まで加熱すると、同じ結果が得ら
れた。 例 ２ 使用ビス−オルトエステルを同量のビスフエノ
ールＡのビス−ジフエノキシメチルエーテルに代
え、層をブラツシングしたアルミニウムに施こし
た。印刷版を例１の条件下で80秒間露出し、その
後30秒例１の現像剤を用いて現像した。隠ぺいさ
れたくさび段５を示したポジチブ像が得られ、段
２は殆んど調色がなかつた。４分間の待期時間を
露出と現像の間に保持し、隠ぺいされた段６及び
クリア段４が得られた。この結果は、層を１分間
70℃の温度に加熱することによつても達成でき
た。 例 ３ 例１に記載と同じクレゾールホルムアルデヒドノ
ボラツク 5.60重量部 ｎ−ペンタナールとトリエチレングリコールとの
ポリアセタール 0.80重量部 ４−オキサ−２−メチル−２−ヒドロキシメチル
オクタン−１，８−ジオールとオルトギの酸トリ
メチルとの反応で得られたポリオルトエステル
1.25重量部 ２−（アセナフチ−５−イル）−４，６−ビス−ト
リクロルメチル−ｓ−トリアジン 0.28重量部 クリスタルバイオレツト塩基 0.05重量部 及び トリヒドロキシベンゾフエノン 0.12重量部 を エチレングリコールモノメチルエーテル
30.00重量部 テトラヒドロフラン 52.90重量部 及び 酢酸ブチル 9.00重量部 中に溶かした溶液を、表面を電気化学的に粗面
化し、陽極化されたポリビニル燐酸の0.1％水溶
液で予備処理したアルミニウム板上に施こした。
2.5μの乾燥層厚が得られるようにこの層を施こし
た。他の印刷版を例１に記載の条件下で12秒間露
出し、その後30秒、例１記載の現像剤で現像し
た。現像を10分後に行なつただけで、開放されか
つ隠ぺいされたくさび段は２単位だけ高い実際の
感光性の方向に移動した。この版を用いたと同じ
コピー結果（これは室温で10分間貯蔵した）は、
露出を0.75ｍ／minの速度で、メツサーズ・ガイ
レツクス（Messers Gyrex.Santana Barbara.
Ca.U.S.A）のマイクロコータース・モデル９
（Microcoaters Model9；これは長波長赤外線発
生器を備えている）の約30cm長さの加熱帯域を通
し、この際88〜93℃の温度が市販の温度指示片を
用いて版の下側で測定された。前記方法で加熱さ
れた印刷版を、この加熱工程の後に現像の前に更
に室温で５、10又は20分貯蔵すると、加熱工程の
直後に現像した版と比較して、コピー結果に差が
認められなかつた。 露出と現像の間の30秒間の待期時間の後に得ら
れたコピー結果は、露出した印刷版を現像前に−
26℃で５、10又は15分間貯蔵した際に、延長した
待期時間の後にも認められた。低温貯蔵の後に室
温での適当に長い待期時間を経過させるか又は版
を現像の前に加熱する場合に、これに相応するコ
ピー結果は冷却相なしに得られた。 例 ４ 次の組成の1.7μの厚さの層を、機械的に粗面化
したアルミニウム版に施こした： 例１に記載のノボラツク 75重量部 塩素化されたパラフイン樹脂 49重量部 及び ２−エチル−２−ブチル−プロパン−１，３−ジ
オールのビス−（５−エチル−５−ブチル−１，
３−ジオキサン−２−イル）−エーテル21重量部 側面長さ31.7mm、表面積10cm2を有する版表面の
四角面を電流強度15μAの電子ビームで11KVで
１行毎に４秒間照射した。照射後10分に版を例１
記載の現像液中に１分間浸けた。照射した層表面
域は完全に除かれた。10分待期しないで現像を照
射直後に１分間実施したら、照射した層域は溶解
除去されなかつた。版を乾燥箱中で80℃で照射直
後１分間加熱し、室温まで再び急速に冷却する
と、照射した層域は直ちに溶け、即ち、2μC／cm2
の電荷密度の照射は可溶化に充分であることが立
証された。 例 ５〜９ 電気化学的に粗面化し、陽極化し、ポリビニル
燐酸で前処理したアルミニウム版に、次の成分： 例１に記載のノボラツク 5.00重量部 酸分解性化合物 1.50重量部 酸供与体 0.26重量部 クリスタル・バイオレツト塩基 0.04重量部 を ブタン−２−オン 93.20重量部 中に溶かした溶液で、乾燥後に約1.8μの厚さの
層が生じる程度に吹き付けコーテイングした。版
を例１に記載の条件下で露出し、室温で種々の時
間貯蔵するか又は付加的に１分間60℃に加熱した
後 次の組成： メタ珪酸ナトリウム・9H2O 0.8重量部 水酸化ナトリウム 0.5重量部 ｎ−ブタノール 0.8重量部 を 水 97.9重量部 に溶かした溶液で現像した。 この場合、第１表中の合計時間とは、露出と現
像の間に経過した加熱時間をも包含する合計時間
である。 この例５〜９で使用されている酸分解性化合物
は次のものである： 例５：２−（４−（２，４−ジクロルフエノキシ）
−フエノキシ）−５，５−ジメチルオキサゾリ
ン−４−オン 例６：１，４−ブタンジオールのビス−３，４−
ジヒドロナフチ−２−イルエーテル 例７：トリエチレングリコールのビス−３，４−
ジヒドロナフチ−２−イルエーテル 例８：Ｎ−ジフエノキシメチル−４−メチルアセ
チジン−２−オン 例９：４，4′−ジヒドロキシジフエニルスルホン
のビス−テトラヒドロピラン−２−イルエーテ
ル 例５〜８で、酸供与体は２−（４−エトキシ−
ナフチ−２−イル）−４，６−ビス−トリクロル
メチル−ｓ−トリアジンであり、例９で酸供与体
は２−（４−メトキシスチリル）−４，６−ビス−
トリクロルメチル−ｓ−トリアジンである。
れは支持層及び感照射層よりなる）を画像に応じ
て照射し、照射した層域を洗浄することによるレ
リーフコピーの製法に関する。感照射層は、照射
時に酸離脱性の化合物及び少なくとも１種の酸分
解性Ｃ−Ｏ−Ｃ−基を有する化合物を含有する。 この型の複写材料は公知であり、例えば米国特
許第3779778号明細書及び同第4101323号明細書、
西ドイツ国特許第2718254号明細書及び西ドイツ
特許出願公開第2829512号、同第2829511号明細書
に記載されている。その中に含有されている酸分
解性化合物は、オルトカルボン酸誘導体、アセタ
ールのモノマー又はポリマー、エノールエーテル
類又はアシルイミノカーボネートである。この中
に含有されている感照射化合物（これは酸を離脱
する）は、主として有機ハロゲン化合物殊にハロ
ゲノメチル基で置換されたｓ−トリアジンであ
る。 これら組成物の感照射度及び殊に長波長紫外線
に対する感度は、他の工業的に使用されているポ
ジチブ系例えばｏ−キノンジアジドに比べてかな
り増大されている。 しかしながら、酸分解性の化合物を基礎とする
複写材料の感照射度は、ある程度、露出と現像の
間に経過する時間に依り決まり、例えば最大の実
質感度は、露出と現像の間に数分間が過ぎる際に
のみ得られることが判明した。露出と現像の間の
約３分間の貯蔵時間の場合、光に対する実質感度
は、典型的に1.5くさび段まで増大し、即ち露出
と現像との間の時間が15秒だけである場合に測定
される値と比べて約70％高まる。 時間間隔を約５〜40分まで延長する際には、一
定の感度が得られる。 従つて、高い一定感度を得るためには、露出の
後、現像を実施する前に少なくとも５〜10分間待
つことが望ましい。従つて、光に対する高感度の
ために、節約された時間は、この工程の間に実際
に失なわれる。 連続的処理法の場合、例えば印刷版の製造の場
合には、露出した版をホルダー中に貯蔵し、これ
から取り出し、予め決められた時間の後に現像す
ることができる。多数の版を製造すべき場合は、
この延期は、最初に１回だけ行なわれ、重要性が
少ないのに、このようなホルダーは、複雑な構造
上の設計を必要とし、多くの床面積を必要とす
る。更に、連続的操作の場合には、常に、多数の
版がこの不正確な露出に呈された後にのみ露出不
足が判明する危険がある。更に、この単一の版を
処理する際に先立つて必要なこの時間を短縮し
て、全体の処理を他の必要時間内に実施できるこ
とも望ましい。 従つて、本発明の目的は、実際に照射と現像と
の間の待期時間を必要とせず、これにより、待期
時間に無関係である高い感照射度が得られる、前
記種類の感照射材料を有するレリーフ像の製法を
得ることである。 本発明によれば、支持層及び (a)照射時に酸を離脱する化合物及び(b)少なくと
も１個の酸分解性のＣ−Ｏ−Ｃ基を有する化合物
を含有する感照射層よりなる、感照射層を画像に
応じて照射し、照射した層域を現像剤を用いて洗
浄することにより、感照射複写材料の画像に応じ
た照射によりレリーフコピーを製造することが提
案される。 露出と現像の間に印刷版を加熱することは公知
である。西ドイツ特許第1447913号及び同第
1671626号明細書、西ドイツ国特許出願公開第
2342068号明細書には、例えば露出時に酸を形成
する化合物及び酸で交又給合又は効果されうる化
合物、大抵の場合、酸硬化性樹脂を含有するネガ
チブ作用感光材料が記載されている。一般に、適
正な時間内に充分な画像微差を得るためには、こ
の場合に加熱は必須のことである。 公知のポジチブ作用材料即ち露出域で可溶性に
なる材料もあり、この際は、画像微差を得るため
に露出の後に加熱を行なう。西ドイツ特許第
1522495号明細書には、酸硬化性の樹脂及び沃素
又は沃化アルカリが記載されており、ここで加熱
により、露出されなかつた帯域が露出された帯域
よりもより強く硬化されている。 ヨーロツパ特許出願公開第0005775号明細書に
は、ポジチブ作用をするフオトレジスト材料が記
載されており、この反応の様式は他の機構に基づ
いている。ここでは、電子照射により開始される
不溶性層成分のラジカル解重合が加熱により促進
され、解重合生成物が蒸発されている。この場
合、加熱は約30分間まで実施されている。西ドイ
ツ特許出願公開第2945630号明細書によれば、特
定のポリマーの解重合は、少なくとも30分間120
〜170℃に加熱することにより完結される。 本発明により提案された方法により使用されて
いる化合物では、可溶化反応は完全に異なる経過
で進行する。化学線照射の作用により製造された
酸は酸分解可能な化合物をプロトン化し、この
際、反応生成物例えばアルコール又はフエノール
分子の離脱の直後に反応性中間化合物が得られ、
これに水を加えて、最後に、加水分解の最終生成
物に変える。 この反応機構に一般的な特定の態様があり、工
業的に屡々使用されているポジチブ作用化合物で
ある。−ナフトキノンジアジドの光学的反応であ
る。ここでも、反応中間体であるケテンが露出時
に形成され、これは、イオン機構で水を添加し、
アルカリ可溶性インデンカルボン酸に変えられ
る。しかしながら、この方法は非常に迅速に行な
われ、露出を現像との間の熱処理によつて促進す
ることはできない。この理由から、特に、本発明
により使用される感光系中で可溶性生成物の形成
が加熱により促進できることは特に意想外のこと
であつた。 熱が施される方法は、実質的に自由に測定でき
る。従つて熱は、複写材料の支持層を通して、例
えば加熱されたプレート又はローラを用いて管理
できるか、又は、ガス熱伝達器を用いて、例え
ば、空気乾燥炉内で管理することができる。酸を
離脱する化合物の活性化範囲を越えた波長の他の
型のエレクトロマグネチツク照射の作用も有利で
ある。唯一の要点は、照射したコピー層の温度
を、明らかに室温を越える値まで高めることであ
る。一般に、この層は約40℃〜130℃の間の温度
に達すべきである。有利な範囲は、50〜100℃で
あり、この際、65〜90℃の温度にするのが特に有
利である。 40℃より低い温度は一般に、可溶化反応の満足
な促進を開始させるのには充分でなく、130℃よ
り著しく高い温度は、非常に細い画像エレメント
の再現にまつたく屡々逆の影響を及ぼす。この場
合、未露出層も熱の作用により変性されることが
推定される。 この加熱工程は、有利に約0.5〜２分間とすべ
きである。 既に記載のように、本発明による方法で用いら
れている感光性組成物は公知である。酸分解性の
化合物を基礎とする好適な組成物は、先に記載の
文献に記載されている。 米国特許第4101323号明細書に記載のオルトカ
ルボン酸誘導体のうち、脂肪族又は芳香族ヒドロ
キシ化合物のジフエノキシメチルエーテル類、ラ
クタムのＮ−ジフエノキシメチル誘導体及び殊に
脂肪族ジオールのビス−１，３−オゾキサン−２
−イル−エーテル類を使用するのが有利である。 西ドイツ特許第2718254号明細書に記載のポリ
アセタールのうち、脂肪族アルデヒド又はジオー
ル単位を有するものが有利である。 更に好適な組成物は西ドイツ特許第29286300号
明細書に記載されている。ここには、その主鎖中
に再硬化性オルトカルボン酸エステル基を示すオ
ルトカルボン酸エステルポリマーが記載されてい
る。 これらの基は５−又は６−員の１，３−ジオキ
サ−シクロアルカン類の２−アルキルエーテルで
ある。殊に有利なものは、再硬化性１，３−ジオ
キシ−シクロヘキシ−２−イル−アルキルエーテ
ル単位を有するポリマーであり、ここで、アルキ
ルエーテル基は、エーテル性酸素原子で中断され
ていよく、有利に隣接環の５位に結合している。
これらのオルトカルボン酸エステルポリマーのい
くつかは、西ドイツ特許出願公開第2715502号明
細書に記載されている。 感光性組成物中の酸分解性化合物の量的割合
は、組成物の不揮発性成分に対して、一般に８〜
65、有利に14〜44重量％である。 これら組成物は、更に、有利に有機溶剤中に可
溶であるが、水に不要の重合性結合剤を含有して
いるのが有利である。 露出された複写層を現像するために使用するこ
とのできる現像液は、有利にアルカリ水溶液であ
り、これらは一般に、有機溶剤を基礎とする現像
剤が有利あり、殊に水性アルカリ中に溶けるか又
は少なくとも膨潤性である結合剤が有利である。 所望の用途に応じて、種々の型で、種々の量の
水に不溶な結合剤が使用でき、全固体成分に対し
て30〜90殊に55〜85重量％の量が有利に使用され
る。 フエノール樹脂及び、特にノボラツク（これは
多くのポジチブ複写材料と共に有効に使用されて
いる）は、本発明で使用されている組成物中で特
に好適であり、有利であることも立証された。こ
れらは、露出された層部と露出されなかつた層部
との間の現像時の著しい差を強調し、殊に、置換
されたフエノール例えばクレゾールを有するより
高度に凝縮された樹脂は、それらのホルムアルデ
ヒド縮合成分と同様に前記の作用をする。ノボラ
ツクは公知方法で、そのヒドロキシ基分と例えば
クロム酢酸、イソシアネート、エポキシド又は無
水カルボン酸との反応により変性することもでき
る。他のアルカリ可溶性樹脂例えば無水マレイン
酸とスチレン、酢酸ビニルとクロトン酸、メタク
リル酸メチルとメタクリル酸とのコポリマー及び
類似物も結合剤として好適である。 これらに加えて、水に可溶で、アルカリに不溶
である多くの他の樹脂、特にビニルポリマー例え
ばポリ酢酸ビニル、ポリアクリレート、ポリビニ
ルエーテル及びポリビニルピロリドン（これらは
コモノマーで変性されていてもよい）を使用する
ことができる。最も有利なこれら樹脂の割合は、
工業的要求及び現像条件に依り決まり、一般に、
最高アルカリ可溶性樹脂の20％になる。可撓性、
付着性、光沢等の特定の要求を満たすために、こ
の感光性層は付加的に少量のポリグリコール類、
セルロースエーテル類例えばエチルセルロース、
界面活性剤及び微細粒子顔料を含有していてよ
い。 照射時に強酸を形成するか又は離脱する感照射
成分として、多数の公知化合物及び組成物、例え
ばジアゾニウム、ホスホニウム、スルホニウム及
びインドニウム塩、ハロゲン化合物ｏ−キノンジ
アジドスルホクロリド及び有機金属オルガノハロ
ゲン組成物が好適である。 一般に、前記のジアゾニウム、ホスホニウム、
スルホニウム及びヨードニウム化合物は、有機溶
剤中に可溶で、大抵の場合、複雑な酸例えば弗化
ホウ素酸、ヘキサフルオロ燐酸、ヘキサフルオロ
アンチモン酸及びヘキサフルオロ砒酸との反応の
固体生成物である塩の形で使用される。 原則的に、光化学ラジカル開始剤として公知の
すべての有機ハロゲン化合物例えば炭素原子又は
芳香環に１個以上のハロゲン原子が結合している
ものを、ハロゲン含有感照射性の、ハロゲン化水
素酸を形成する化合物として使用することができ
る。それらの例は、米国特許第3515552号、同第
3536489号及び同第3779778号明細書、西ドイツ特
許第2610842号及び西ドイツ特許出願公開第
2718259号、同第2243621号明細書に記載されてい
る。これら化合物のうち、西ドイツ特許出願公開
第2718259号明細書に記載のようなトリアジン核
内に２個のハロゲンメチル基特にトリクロメチル
基及び芳香性置換分を有するｓ−トリアジン誘導
体が有利である。公知のセンシタイザーの意味
で、これらのハロゲン含有化合物の作用は、スペ
クトル的に影響され、増加されうる。 開始剤の化学特性及び組成物の構成に応じて、
種々の量の開始剤が添加されうる。良好な結果は
固体全体に対して約0.1〜10重量％特に02〜５重
量％の量で達成される。特に10μより大きい厚さ
を有するコピー層を得るために、比較的少量の酸
供与体を使用することが推奨されている。 最後に、可溶又は微細粒状の分散可能な染料及
び適当な場合は、UV−吸収剤を感光性組成物に
加えることができる。染料として殊にカルビノー
ル塩基の形のトリフエニルメタン染料が好適であ
ることが立証された。最も有利な量割合は各場合
の予備的な試験の実施により容易に見い出すこと
ができる。 感光性組成物に対する支持体として、工業的な
複写法で通例使用されるすべての材料が好適であ
る。それらの例はプラスチツクフイルム、銅コー
テイングされた絶縁板、陽極化されていてもよい
機械的又は化学的に粗面化されたアルミニウム、
木材、セラミツク、ガラス及び表面が化学的に反
応されていて窒化珪素又は二酸化珪素にされてい
てよい珪素である。支持層として好適なために、
支持材料は、本発明による加熱の間のすべての不
所望の変化に抵抗すべきである。 本明細書中において、照射とは、波長が500μ
以下の電磁化学線照射の作用を意味する。原則的
にこの範囲内の光を発生するすべての照射源を使
用することができる。 特にレーザー発生装置殊に、照射源としてアル
ゴン−イオン−レーザーを有する自動操作装置を
使用することが有利である。この装置中で材料の
高い感光度及び光源の容量に基づき可能である高
速処理の利点を確かめるためには、本発明による
加熱工程を挿入することが必要である。もちろ
ん、通例コピー法に使用されている任意の他の光
も使用できる。 照射は、電子ビームを用いて実施することもで
きる。この場合、酸を離脱するが典型的な意味で
感光性ではない化合物を可溶化反応の開始剤とし
て使用することもできる。この種の化合物の例
は、ハロゲン化された芳香族化合物又はハロゲン
化された炭化水素ポリマーである。画像製造のた
めにＸ−線も使用できる。 画像に応じて露出されたか又は照射された層
は、実際に、ナフトキノンジアジド層と同じ現像
剤及び複写ラツカーを用いる公知方法で除去する
ことができる。現像剤水溶液は、例えば燐酸アル
カリ、珪酸アルカリ又は水酸化アルカリであつて
よい。更に、その中に界面活性剤及び場合によつ
ては、少量の有機溶剤を含有していてよい。特定
の場合に、溶剤水混合物も現像剤として使用でき
る。多くの好適な現像剤は、個個に使用される層
上での試験により選択することができる。必要な
場合には、現像は機械的に支持されうる。 次の例は、本発明の方法の実施を説明するため
のものである。 これらの例中で、重量部及び容量部はｇ及びml
で示されると同じ関係を意味し、パーセンテージ
データ及び量的データは、特にことわりのないか
ぎり重量単位で理解すべきである。 例 １ クレゾールホルムアルデヒドノボラツク（融点範
囲105〜120℃、DIN53181による） 76.2重量部 トリエチレングリコールのビス−ジフエノキシメ
チルエーテル 18.2重量部 トリヒドロキシベンゾフエノン 1.4重量部 ２−（４−メトキシ−ナフチ−１−イル）−４，６
−ビス−トリクロルメチル−ｓ−トリアジン
3.6重量部 及び クリスタルバイオレツト塩基 0.6重量部 よりなる層を、厚さ約2μの電気的に粗面化され、
陽極化されたアルミニウムに施こし、各々の光学
密度が0.15の13段の連続階調オリジナルを通し
て、110cmの間隔で5kWハロゲン化金属灯下で12
秒間露出した。30秒後に、次の組成の現像剤を用
いて現像した。 メタ珪酸ナトリウム・9H2O 5.5重量部 燐酸三ナトリウム・12H2O 3.4重量部 燐酸二水素ナトリウム・（無水） 0.4重量部 水 90.7重量部 ポジチブ像は隠ぺいされたくさび段５を示し、
段２は非常に弱い層残分を示した。露出と現像と
の間に10分間経過させる点を除いて、同じ方法で
試験をくり返した。隠ぺいされたくさび段６が得
られ、段３は調色がなく、これは約40〜50％の感
度利得に相当する。露出と現像の間に層を乾燥箱
中で50秒間80℃まで加熱すると、同じ結果が得ら
れた。 例 ２ 使用ビス−オルトエステルを同量のビスフエノ
ールＡのビス−ジフエノキシメチルエーテルに代
え、層をブラツシングしたアルミニウムに施こし
た。印刷版を例１の条件下で80秒間露出し、その
後30秒例１の現像剤を用いて現像した。隠ぺいさ
れたくさび段５を示したポジチブ像が得られ、段
２は殆んど調色がなかつた。４分間の待期時間を
露出と現像の間に保持し、隠ぺいされた段６及び
クリア段４が得られた。この結果は、層を１分間
70℃の温度に加熱することによつても達成でき
た。 例 ３ 例１に記載と同じクレゾールホルムアルデヒドノ
ボラツク 5.60重量部 ｎ−ペンタナールとトリエチレングリコールとの
ポリアセタール 0.80重量部 ４−オキサ−２−メチル−２−ヒドロキシメチル
オクタン−１，８−ジオールとオルトギの酸トリ
メチルとの反応で得られたポリオルトエステル
1.25重量部 ２−（アセナフチ−５−イル）−４，６−ビス−ト
リクロルメチル−ｓ−トリアジン 0.28重量部 クリスタルバイオレツト塩基 0.05重量部 及び トリヒドロキシベンゾフエノン 0.12重量部 を エチレングリコールモノメチルエーテル
30.00重量部 テトラヒドロフラン 52.90重量部 及び 酢酸ブチル 9.00重量部 中に溶かした溶液を、表面を電気化学的に粗面
化し、陽極化されたポリビニル燐酸の0.1％水溶
液で予備処理したアルミニウム板上に施こした。
2.5μの乾燥層厚が得られるようにこの層を施こし
た。他の印刷版を例１に記載の条件下で12秒間露
出し、その後30秒、例１記載の現像剤で現像し
た。現像を10分後に行なつただけで、開放されか
つ隠ぺいされたくさび段は２単位だけ高い実際の
感光性の方向に移動した。この版を用いたと同じ
コピー結果（これは室温で10分間貯蔵した）は、
露出を0.75ｍ／minの速度で、メツサーズ・ガイ
レツクス（Messers Gyrex.Santana Barbara.
Ca.U.S.A）のマイクロコータース・モデル９
（Microcoaters Model9；これは長波長赤外線発
生器を備えている）の約30cm長さの加熱帯域を通
し、この際88〜93℃の温度が市販の温度指示片を
用いて版の下側で測定された。前記方法で加熱さ
れた印刷版を、この加熱工程の後に現像の前に更
に室温で５、10又は20分貯蔵すると、加熱工程の
直後に現像した版と比較して、コピー結果に差が
認められなかつた。 露出と現像の間の30秒間の待期時間の後に得ら
れたコピー結果は、露出した印刷版を現像前に−
26℃で５、10又は15分間貯蔵した際に、延長した
待期時間の後にも認められた。低温貯蔵の後に室
温での適当に長い待期時間を経過させるか又は版
を現像の前に加熱する場合に、これに相応するコ
ピー結果は冷却相なしに得られた。 例 ４ 次の組成の1.7μの厚さの層を、機械的に粗面化
したアルミニウム版に施こした： 例１に記載のノボラツク 75重量部 塩素化されたパラフイン樹脂 49重量部 及び ２−エチル−２−ブチル−プロパン−１，３−ジ
オールのビス−（５−エチル−５−ブチル−１，
３−ジオキサン−２−イル）−エーテル21重量部 側面長さ31.7mm、表面積10cm2を有する版表面の
四角面を電流強度15μAの電子ビームで11KVで
１行毎に４秒間照射した。照射後10分に版を例１
記載の現像液中に１分間浸けた。照射した層表面
域は完全に除かれた。10分待期しないで現像を照
射直後に１分間実施したら、照射した層域は溶解
除去されなかつた。版を乾燥箱中で80℃で照射直
後１分間加熱し、室温まで再び急速に冷却する
と、照射した層域は直ちに溶け、即ち、2μC／cm2
の電荷密度の照射は可溶化に充分であることが立
証された。 例 ５〜９ 電気化学的に粗面化し、陽極化し、ポリビニル
燐酸で前処理したアルミニウム版に、次の成分： 例１に記載のノボラツク 5.00重量部 酸分解性化合物 1.50重量部 酸供与体 0.26重量部 クリスタル・バイオレツト塩基 0.04重量部 を ブタン−２−オン 93.20重量部 中に溶かした溶液で、乾燥後に約1.8μの厚さの
層が生じる程度に吹き付けコーテイングした。版
を例１に記載の条件下で露出し、室温で種々の時
間貯蔵するか又は付加的に１分間60℃に加熱した
後 次の組成： メタ珪酸ナトリウム・9H2O 0.8重量部 水酸化ナトリウム 0.5重量部 ｎ−ブタノール 0.8重量部 を 水 97.9重量部 に溶かした溶液で現像した。 この場合、第１表中の合計時間とは、露出と現
像の間に経過した加熱時間をも包含する合計時間
である。 この例５〜９で使用されている酸分解性化合物
は次のものである： 例５：２−（４−（２，４−ジクロルフエノキシ）
−フエノキシ）−５，５−ジメチルオキサゾリ
ン−４−オン 例６：１，４−ブタンジオールのビス−３，４−
ジヒドロナフチ−２−イルエーテル 例７：トリエチレングリコールのビス−３，４−
ジヒドロナフチ−２−イルエーテル 例８：Ｎ−ジフエノキシメチル−４−メチルアセ
チジン−２−オン 例９：４，4′−ジヒドロキシジフエニルスルホン
のビス−テトラヒドロピラン−２−イルエーテ
ル 例５〜８で、酸供与体は２−（４−エトキシ−
ナフチ−２−イル）−４，６−ビス−トリクロル
メチル−ｓ−トリアジンであり、例９で酸供与体
は２−（４−メトキシスチリル）−４，６−ビス−
トリクロルメチル−ｓ−トリアジンである。
【表】
例 10
電気化学的に粗面化され、陽極化され、かつポ
リビニル燐酸で前処理された寸法580mm×420mmの
アルミニウムシート及び次の組成の複写層： 例１に記載と同じノボラツク 76.00重量部 オルトギ酸トリメチルと４−オキサ−６，６−ビ
ス−ヒドロキシメチルオクタン−１−オールとの
縮合により得られたポリマー性オルトカルボン酸
エステル 20.15重量部 ２−（４−エトキシナフチ−１−イル）−４，６−
ビス−トリクロルメチル−ｓ−トリアジン
3.7重量部 及び クリスタル・バイオレツト塩基 0.15重量部 よりなる印刷版を、レーザライト（Laserite）
○Ｒ −装置中で、アルゴンレーザーの干渉UV線
で400本／cmが描かれるように１行毎に露出した。 全体の版の描像に96秒かかつた。版面上の露出
エネルギーは4.2ｍＪ／cm2であつた。 露出した版を露出直後に例１に記載の現像液で
現像すると、印刷版の画像のない個所も、脂性イ
ンクを施こす際に部分的にインクを吸収した。し
かしながら、版の現像の前に約50cm長さの加熱帯
域を備えた装置（この中に各800Wの４本の中波
赤外線発生装置が設置されている）を通し、約40
秒内に、71〜77℃の温度が版の下側で例３の温度
指示片を用いて測定し、版を現像すると、引続
き、調色なしにインキ着色でき、オフセツト印刷
機で多数のプリントが得られた。
リビニル燐酸で前処理された寸法580mm×420mmの
アルミニウムシート及び次の組成の複写層： 例１に記載と同じノボラツク 76.00重量部 オルトギ酸トリメチルと４−オキサ−６，６−ビ
ス−ヒドロキシメチルオクタン−１−オールとの
縮合により得られたポリマー性オルトカルボン酸
エステル 20.15重量部 ２−（４−エトキシナフチ−１−イル）−４，６−
ビス−トリクロルメチル−ｓ−トリアジン
3.7重量部 及び クリスタル・バイオレツト塩基 0.15重量部 よりなる印刷版を、レーザライト（Laserite）
○Ｒ −装置中で、アルゴンレーザーの干渉UV線
で400本／cmが描かれるように１行毎に露出した。 全体の版の描像に96秒かかつた。版面上の露出
エネルギーは4.2ｍＪ／cm2であつた。 露出した版を露出直後に例１に記載の現像液で
現像すると、印刷版の画像のない個所も、脂性イ
ンクを施こす際に部分的にインクを吸収した。し
かしながら、版の現像の前に約50cm長さの加熱帯
域を備えた装置（この中に各800Wの４本の中波
赤外線発生装置が設置されている）を通し、約40
秒内に、71〜77℃の温度が版の下側で例３の温度
指示片を用いて測定し、版を現像すると、引続
き、調色なしにインキ着色でき、オフセツト印刷
機で多数のプリントが得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 支持層及び (a) 照射時に酸離脱性の化合物及び (b) 少なくとも１種の酸分解性Ｃ−Ｏ−Ｃ−基を
有する化合物 を含有する感照射層よりなる感照射性複写材料を
画像に応じて照射し、かつこの照射した層域を現
像剤で洗浄することによりレリーフコピーを製造
する場合に、この方法は、画像に応じて照射した
複写材料を、洗浄工程の前に短時間加熱すること
を特徴とする、レリーフコピーの製法。 ２ 画像に応じて照射した複写材料を0.5〜２分
間加熱する、特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 画像に応じて照射した複写材料を、40〜130
℃の範囲の温度で加熱する、特許請求の範囲第１
項記載の方法。 ４ 画像に応じた照射は、レーザービームを用い
て実施する、特許請求の範囲第１項記載の方法。 ５ 照射した層域をアルカリ水溶液で洗浄する、
特許請求の範囲第１項記載の方法。 ６ 照射時に酸離脱性の化合物は、２個のハロゲ
ノアルキル基及び１個のアリール基をトリアジン
核内の置換分として含有するｓ−トリアジン誘導
体である、特許請求の範囲第１項記載の方法。 ７ 酸分解性の化合物は、少なくとも１個のオル
トカルボン酸エステル基又はカルボ酸アミドアセ
タール基を有する化合物、少なくとも１個のアセ
タール基を有する化合物、少なくとも１個のエノ
ール性エーテル基を有する化合物又は分子内に少
なくとも１個のアシルイミノカーボネート基を有
する化合物である、特許請求の範囲第１項記載の
方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19803038605 DE3038605A1 (de) | 1980-10-13 | 1980-10-13 | Verfahren zur herstellung von reliefkopien |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57100427A JPS57100427A (en) | 1982-06-22 |
| JPH0531133B2 true JPH0531133B2 (ja) | 1993-05-11 |
Family
ID=6114255
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56161079A Granted JPS57100427A (en) | 1980-10-13 | 1981-10-12 | Making of relief copy |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4421844A (ja) |
| EP (1) | EP0049840B1 (ja) |
| JP (1) | JPS57100427A (ja) |
| AT (1) | ATE11186T1 (ja) |
| CA (1) | CA1164712A (ja) |
| DE (2) | DE3038605A1 (ja) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5890636A (ja) * | 1981-11-24 | 1983-05-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物を用いた感光材料による画像形成方法および現像ユニツト |
| DE3151078A1 (de) * | 1981-12-23 | 1983-07-28 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur herstellung von reliefbildern |
| KR860002082B1 (ko) * | 1983-01-19 | 1986-11-24 | 가부시기가이샤 도시바 | 레지스트 패턴의 형성 방법 및 장치 |
| US4897337A (en) * | 1983-01-19 | 1990-01-30 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for forming resist pattern |
| DE3406927A1 (de) * | 1984-02-25 | 1985-08-29 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Strahlungsempfindliches gemisch auf basis von saeurespaltbaren verbindungen |
| DE3409888A1 (de) * | 1984-03-17 | 1985-09-19 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial und dessen verwendung in einem verfahren zum herstellen einer druckform oder einer gedruckten schaltung |
| US4670372A (en) * | 1984-10-15 | 1987-06-02 | Petrarch Systems, Inc. | Process of developing radiation imaged photoresist with alkaline developer solution including a carboxylated surfactant |
| DE3528929A1 (de) * | 1985-08-13 | 1987-02-26 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliches gemisch, dieses enthaltendes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefbildern |
| JPS6291938A (ja) * | 1985-10-18 | 1987-04-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 製版方法 |
| CA1308596C (en) * | 1986-01-13 | 1992-10-13 | Rohm And Haas Company | Microplastic structures and method of manufacture |
| JPS6381820A (ja) * | 1986-09-25 | 1988-04-12 | Toshiba Corp | レジストパタ−ン形成方法 |
| DE3716848A1 (de) * | 1987-05-20 | 1988-12-01 | Hoechst Ag | Verfahren zur bebilderung lichtempfindlichen materials |
| DE3730785A1 (de) * | 1987-09-13 | 1989-03-23 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
| DE3730787A1 (de) * | 1987-09-13 | 1989-03-23 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
| US5308744A (en) * | 1993-03-05 | 1994-05-03 | Morton International, Inc. | Source of photochemically generated acids from diazonaphthoquinone sulfonates of nitrobenzyl derivatives |
| JPH1026834A (ja) * | 1996-07-09 | 1998-01-27 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 画像形成方法 |
| US6060222A (en) | 1996-11-19 | 2000-05-09 | Kodak Polcyhrome Graphics Llc | 1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1447913C3 (de) * | 1964-10-15 | 1979-08-09 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Druckformen |
| DE1522495C3 (de) * | 1966-01-10 | 1978-10-05 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Druckformen |
| DE1671626C3 (de) | 1967-03-31 | 1978-12-21 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches Kopiermaterial für die Herstellung von Offsetdruckplatten |
| US3726679A (en) * | 1971-06-30 | 1973-04-10 | Ibm | Light sensitive epoxy formulation |
| BE791212A (fr) * | 1972-02-03 | 1973-03-01 | Buckbee Mears Co | Procede pour le durcissement des reserves |
| US3779778A (en) * | 1972-02-09 | 1973-12-18 | Minnesota Mining & Mfg | Photosolubilizable compositions and elements |
| US3915706A (en) * | 1974-03-11 | 1975-10-28 | Xerox Corp | Imaging system based on photodegradable polyaldehydes |
| CH621416A5 (ja) * | 1975-03-27 | 1981-01-30 | Hoechst Ag | |
| DE2718254C3 (de) * | 1977-04-25 | 1980-04-10 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Strahlungsempfindliche Kopiermasse |
| DE2829512A1 (de) * | 1978-07-05 | 1980-01-17 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliches gemisch und verfahren zur herstellung von reliefbildern |
-
1980
- 1980-10-13 DE DE19803038605 patent/DE3038605A1/de not_active Withdrawn
-
1981
- 1981-10-03 AT AT81107889T patent/ATE11186T1/de active
- 1981-10-03 DE DE8181107889T patent/DE3168177D1/de not_active Expired
- 1981-10-03 EP EP81107889A patent/EP0049840B1/de not_active Expired
- 1981-10-08 CA CA000387598A patent/CA1164712A/en not_active Expired
- 1981-10-09 US US06/310,276 patent/US4421844A/en not_active Expired - Fee Related
- 1981-10-12 JP JP56161079A patent/JPS57100427A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1164712A (en) | 1984-04-03 |
| DE3038605A1 (de) | 1982-06-03 |
| JPS57100427A (en) | 1982-06-22 |
| US4421844A (en) | 1983-12-20 |
| ATE11186T1 (de) | 1985-01-15 |
| EP0049840A3 (en) | 1982-05-19 |
| EP0049840B1 (de) | 1985-01-09 |
| DE3168177D1 (en) | 1985-02-21 |
| EP0049840A2 (de) | 1982-04-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2653374B2 (ja) | 感放射組成物及び感放射記録材料 | |
| JP2580418B2 (ja) | アルコキシアルキルエステル溶解抑制剤を含んでなる光画像形成性組成物 | |
| KR930010774B1 (ko) | 방사선감수성 조성물, 이를 사용하여 제조한 기록물질, 및 내열성 기록 양각 상의 제조방법 | |
| CA1164712A (en) | Preparation of relief copies by heating an irradiated copying material containing a compound with an acid cleavable c-o-c group | |
| JPS59113435A (ja) | 感光性組成物 | |
| US4840867A (en) | Positive-working radiation-sensitive recording material with radiation-sensitive 1,2-quinone diazide underlayer and thicker positive-working radiation-sensitive overlayer | |
| JP2845520B2 (ja) | ウェーハの構造化方法 | |
| JPH04219757A (ja) | 感放射線性混合物 | |
| US4916046A (en) | Positive radiation-sensitive mixture, using a monomeric silylenol ether and a recording material produced therefrom | |
| JPH02154266A (ja) | 深紫外露光画像反転用フォトレジスト組成物 | |
| JPH0653734B2 (ja) | トリクロルメチル基を有する感光性化合物を含有する感光性混合物 | |
| JPS58114031A (ja) | レリ−フ像の製造法 | |
| JPH0219847A (ja) | ポジチブ及びネガチブ処理感放射線混合物及びレリーフパターンの作製方法 | |
| JP2603316B2 (ja) | ポジ型の感光性組成物、レリーフパターンの製造法およびポジ型の感光性記録材料 | |
| JP2759079B2 (ja) | 高エネルギー照射線硬化可能な組成物及び高エネルギー照射線記録法 | |
| JP3242475B2 (ja) | 放射線感応性混合物及びレリーフ構造の製造方法 | |
| US5532113A (en) | Method of making microelectronic structures utilzing photoresists containing C3 C12 water soluble sugar crosslinking agents | |
| US5149613A (en) | Process for producing images on a photosensitive material | |
| EP0424124B1 (en) | Positive-acting photoresist compositions | |
| JP2599908B2 (ja) | 放射線感応性混合物、放射線感応性記録材料及びレリーフ像の製法 | |
| US5034305A (en) | Radiation-sensitive mixture | |
| US5230985A (en) | Negative-working radiation-sensitive mixtures, and radiation-sensitive recording material produced with these mixtures | |
| JPS63287950A (ja) | 感放射線記録材料 | |
| JP2683055B2 (ja) | ポジ型感放射線性混合物、ポジ型感放射線性記録材料および該記録材料の製造法 | |
| JPH04213459A (ja) | 照射感応性混合物、その混合物を使用して製造する照射感応性記録材料およびレリーフ複写の製作方法 |