JPH0531238U - ウエーハの移送具 - Google Patents
ウエーハの移送具Info
- Publication number
- JPH0531238U JPH0531238U JP7891491U JP7891491U JPH0531238U JP H0531238 U JPH0531238 U JP H0531238U JP 7891491 U JP7891491 U JP 7891491U JP 7891491 U JP7891491 U JP 7891491U JP H0531238 U JPH0531238 U JP H0531238U
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- JP
- Japan
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- wafer
- transfer tool
- substrate
- outer peripheral
- peripheral surface
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 従来のセラミックの一体構造を分割接合タイ
プにすることにより、ウェーハ全重量を支持する基板を
単純な平行板とし、ソリを防止する加工を無くし、加工
時間の短縮を図り、高価な高純度材料をウェーハと接触
する部分のみとして、材料面のコストダウンを図るウェ
ーハの移送具を提供する。 【構成】 薄板円板状のウェーハ2の移送具であって、
基板1上にウェーハの外周面2b近傍の下面を支持する
載置ピン3を起立させると共に、この載置ピン3より外
側でウェーハの外周面2bに当接して位置を決めるため
の位置決めピン4を設けたことを特徴とするウェーハの
移送具。
プにすることにより、ウェーハ全重量を支持する基板を
単純な平行板とし、ソリを防止する加工を無くし、加工
時間の短縮を図り、高価な高純度材料をウェーハと接触
する部分のみとして、材料面のコストダウンを図るウェ
ーハの移送具を提供する。 【構成】 薄板円板状のウェーハ2の移送具であって、
基板1上にウェーハの外周面2b近傍の下面を支持する
載置ピン3を起立させると共に、この載置ピン3より外
側でウェーハの外周面2bに当接して位置を決めるため
の位置決めピン4を設けたことを特徴とするウェーハの
移送具。
Description
【0001】
本考案は、半導体製造装置間をシリコンウェーハやSOS基板などのウェーハ を移送するウェーハの移送具に関するものである。
【0002】
従来の半導体製造装置間をウェーハを移送させるウェーハの移送具は、ウェー ハを支持する皿状のアルミニウム製の移送具であったが、移送具の加工精度や剛 性、純度、耐磨耗性がセラミックが優れているため、セラミック製の移送具が多 用されている。
【0003】 それは、図3および図4に示すように、一体のセラミック材板状体100から削 り出して形成する。すなわち、ウェーハ101を支持する支持面Aや、ウェーハ101 を位置決めするウェーハ101外周の位置決め斜面B、ウェーハ101の中央部に位置 してウェーハ101下面に接触しないようにした逃げ面Cを削り出し加工により形 成している。
【0004】
ウェーハ101のセラミック製移送具は、ウェーハ101を支持する支持面Aや、ウ ェーハ101を位置決めするウェーハ101外周の位置決め斜面B、ウェーハ101の中 央部に位置してウェーハ101下面に接触しないようにした逃げ面Cを削り出し加 工により形成するのに、平面研削、円筒研削、マシニング研削を併用して所要の 形状にせねばならず、その上、セラミック材は難削材のため、加工時間が長く、 加工に長時間を要していた。特に、支持面Aや位置決め斜面Bは、ウェーハ101 が接触するため、よい仕上げ面とせねばならず、加工に長時間を要し、また、位 置決め斜面Bは単なる斜面ではなく円周内面の斜面であるため、精度よく加工し にくいものであった。
【0005】 また、このセラミック製移送具は、中央部が薄肉であるためソリが発生してい た。ソリを防止するためには、図5〜図10に示すような加工手順にて加工してい た。 まず、図5に示すように、セラミックの板状体100の上下面113・114をそれぞ れ仕上げる。
【0006】 次に、図6に示すように、板状体100の上面をウェーハ101の支持面111に仕上 げる。 さらに、図7は板状体100のソリを防止するために、前記の支持面111にブロッ ク112を接着する。 次に、図8に示すように、板状体100の上面113をブロック112を接着した状態 で仕上げる。
【0007】 続いて、図9に示すように、板状体100を反転して板状体100の下面114を仕上 げる。 最後に、図10に示すように、板状体100からブロック112の接着を外して完成さ せる。 上記のように、ソリを防止するため、ブロック112を接着したり外すなど多大 の加工工数を要していた。
【0008】 その上、この板状体100としては、ウェーハ101と接触する部分は高純度のセラ ミック材が要求されるため、99.5%のAl2O3 、99.9%のAl2O3 、99.99%のAl2O3 を使用したり、ZrO2、あるいはSiCまたはそのSiC上にCVDによってSiCをコーティ ングしたもの、さらにはSi3N4などの高価な材料を使用していた。セラミック移 送具が一体物で形成されているため、ウェーハ101と接触しない箇所まで高価な 材料を用いていた。
【0009】
そこで、本考案は上記の事情に鑑み、安価でしかも精度がよく、剛性があり、 純度もあり、耐磨耗性もあるセラミック製のウェーハの移送具を提供しようとし て、従来のセラミックの一体構造を分割接合タイプにすることにより、ウェーハ 全重量を支持する基板を単純な平行板とし、ソリを防止する加工をなくして加工 時間の短縮を図り、高価な高純度材料もウェーハと接触する部分のみとして材料 面のコストダウンも図るもので、上下面が平行面である基板上にウェーハの外周 面近傍の下面を支持する載置ピンを起立させると共に、載置ピンより外側でウェ ーハの外周面に当接して位置を決めるための位置決めピンを設けたウェーハの移 送具である。
【0010】
基板の載置ピン上にウェーハを載せ、位置決めピンの外周面によりウェーハの 位置を決める。
【0011】
本考案を、添付する図面に示す具体的実施例に基づいて以下詳細に説明する。 図1および図2に示す比較的低純度のAl2O3の長方形で上下面が平行面である 基板1上に、薄板円板状のウェーハ2の外周面近傍の下面2aを支持する載置ピ ン3を所要個数 (本実施例では4個) 起立させる。この載置ピン3はウェーハ2 をその上端面で支持し接触するため高純度のセラミック材料でなければならず、 99.5%以上のAl2O3 、Si3N4 、ZrO2、SiC あるいはCVDによりSiCをSiCに被覆し たものが使用され、基板1とは有機接着剤あるいは硝子により接着する。
【0012】 また、この基板1には前記載置ピン3より外側で載置ピン3上にウェーハ2を 載せた際、ウェーハ2の外周面2bに当接してウェーハ2を位置決めする載置ピ ン3より高い位置決めピン4を所要個数 (本実施例では4個) 起立させる。この 位置決めピン4は、ウェーハ2をその外周面で位置決めし接触するため、高純度 のセラミック材料でなければならず、99.5%以上のAl2O3 、Si3N4 、ZrO2、SiC あるいはCVDによりSiCをSiCに被覆したものが使用され、基板1とは有機接着剤 あるいは硝子により接着する。
【0013】 基板1に作業上の必要から側部に切欠き5を刻設したり、通し孔6を穿設する ことができる。 図示していないが、前記位置決めピン4より外側に位置決めピン4より高い位 置決めピンを設けることにより、一つの移送具で、サイズの異なるウェーハ2を 支持し、あるいはウェーハ2を複数枚支持させることができる。その場合、位置 決めピンの高さはウェーハ2の厚さを考慮して設定しなければならない。
【0014】 ウェーハ2の上方から基板1の載置ピン3上に位置決めピン4に案内させて支 持させると、位置決めピン4が複数個設けてあるので、ウェーハ2の横方向への 移動は、その外周面2bの平面視での円弧部が位置決めピン4に当たり、阻止さ れ、ウェーハ2は安定して移送具に保持される。 また、上記載置ピン3および位置決めピン4を形成する高純度セラミックを詳 述すると、99.5%以上のAl2O3 を主成分とし、SiO2、MgO 、CaO などを含むアル ミナセラミック、ZrO2を主成分としY2O3、CaO 、MgO などの安定化剤を含む部分 安定化ジルコニアセラミック、Si3N4を主成分とし、Y2O3、Al2O3を含む窒化珪素 セラミック、SiCを主成分とし、B 、C またはAl2O3、Y2O3を含む炭化珪素セラミ ック、あるいはこの炭化珪素セラミックにさらにSiC をCVD コーティングしたも のを用いる。
【0015】 さらに、これらのセラミックからなる載置ピン3および位置決めピン4の表面 は、中心線平均粗さ±0.5μm以下のなめらかな面としてあり、表面のボイド占 有率0.3%以下としてある。そのため、ウェーハ2に傷を付けたり悪影響をおよ ぼすことがない。
【0016】
本考案は、上述のように、薄板円板状のウェーハの移送具であって、上下面が 平行面である基板上にウェーハの外周面近傍の下面を支持する載置ピンを起立さ せると共に、載置ピンより外側でウェーハの外周面に当接して位置を決めるため の位置決めピンを設けたウェーハの移送具であるので、従来のセラミックの一体 構造を分割接合タイプとし、ウェーハ全重量を支持する基板を単純な平行板とし 、ソリを防止する加工をなくし、加工時間の短縮を図り、高価な高純度セラミッ ク材料をウェーハと接触する部分のみとして材料面のコストダウンを図ることが できると共に、ウェーハに対する悪影響を少なくできる。
【図1】本考案の具体的一実施例の側面図である。
【図2】図1の平面図である。
【図3】従来のセラミック製移送具の平面図である。
【図4】図3のIII−III断面図である。
【図5】セラミックの板状体の上下面をそれぞれ仕上げ
た状態の縦断面図である。
た状態の縦断面図である。
【図6】板状体の上面をウェーハの支持面に仕上げた縦
断面図である。
断面図である。
【図7】板状体の支持面にブロックを接着した状態の縦
断面図である。
断面図である。
【図8】板状体の上面をブロックを接着した状態で仕上
げた状態を示す縦断面図である。
げた状態を示す縦断面図である。
【図9】板状体を反転して板状体の下面を仕上げた状態
の縦断面図である。
の縦断面図である。
【図10】板状体からブロックを外して完成した状態の縦
断面図である。
断面図である。
2…ウェーハ 1…基板 2b…ウェーハの外周面 2a…ウエーハの下面 3…載置ピン 4…位置決めピン
Claims (1)
- 【請求項1】 薄板円板状のウェーハの移送具であっ
て、基板上にウェーハの外周面近傍の下面を支持する載
置ピンを起立させると共に、この載置ピンより外側でウ
ェーハの外周面に当接して位置を決めるための位置決め
ピンを設けたことを特徴とするウェーハの移送具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7891491U JPH0531238U (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | ウエーハの移送具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7891491U JPH0531238U (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | ウエーハの移送具 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0531238U true JPH0531238U (ja) | 1993-04-23 |
Family
ID=13675118
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7891491U Pending JPH0531238U (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | ウエーハの移送具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0531238U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008172241A (ja) * | 2007-01-11 | 2008-07-24 | Applied Materials Inc | 高温ロボットエンドエフェクタ |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62136439A (ja) * | 1985-12-04 | 1987-06-19 | Denkoo:Kk | 板状体取出し装置 |
| JPH01147839A (ja) * | 1987-12-03 | 1989-06-09 | Showa Denko Kk | 真空コレット |
| JPH0260247B2 (ja) * | 1984-07-31 | 1990-12-14 | Shimazu Seisakusho Kk |
-
1991
- 1991-09-30 JP JP7891491U patent/JPH0531238U/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0260247B2 (ja) * | 1984-07-31 | 1990-12-14 | Shimazu Seisakusho Kk | |
| JPS62136439A (ja) * | 1985-12-04 | 1987-06-19 | Denkoo:Kk | 板状体取出し装置 |
| JPH01147839A (ja) * | 1987-12-03 | 1989-06-09 | Showa Denko Kk | 真空コレット |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008172241A (ja) * | 2007-01-11 | 2008-07-24 | Applied Materials Inc | 高温ロボットエンドエフェクタ |
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