JPH0538465Y2 - - Google Patents

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JPH0538465Y2
JPH0538465Y2 JP8837390U JP8837390U JPH0538465Y2 JP H0538465 Y2 JPH0538465 Y2 JP H0538465Y2 JP 8837390 U JP8837390 U JP 8837390U JP 8837390 U JP8837390 U JP 8837390U JP H0538465 Y2 JPH0538465 Y2 JP H0538465Y2
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Description

【考案の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本考案は、コンパクトデイスク、レーザーデイ
スク等の記録デイスクを洗浄する超音波式記録デ
イスククリーナに関するものである。
(従来の技術) 従来、コンパクトデイスク等の記録デイスクを
洗浄するときは一般に超音波式記録デイスククリ
ーナが使用されている。
この超音波式記録デイスククリーナは、洗浄液
を収容した洗浄槽に超音波発生装置を装着してな
るもので、この洗浄液内にコンパクトデイスク等
の記録デイスク全体を浸漬し、超音波発生装置を
駆動する。これにより、洗浄液中にキヤビテーシ
ヨンが生じ、記録デイスクに付着した汚れが除去
される。
(考案が解決しようとする課題) このように前記従来の超音波式記録デイスクク
リーナにおいては、記録デイスクの洗浄が行われ
るが、この記録デイスクに付着した洗浄液を除去
するため、この洗浄工程の後にこの記録デイスク
を自然乾燥したり、或いは、布、紙による洗浄液
の吸い取り作業を行つていた。
しかしながら、自然乾燥により洗浄液を除去す
る方法では、その除去時間が非常に長くなるとい
う問題点を有していたし、また、布等により吸い
取る方法では、この記録デイスクに布等の繊維が
付着したり、或いは、傷付きが発生するという問
題点を有していた。
また、前記従来の超音波式記録デイスククリー
ナでは、一個の洗浄槽にて記録デイスクの洗浄を
行つているため、汚れのひどい記録デイスクを洗
浄するときは、この記録デイスクから除去された
汚れが洗浄工程の終了時に再度この記録デイスク
に付着するという問題点を有していた。
さらに、前記従来の超音波式記録デイスククリ
ーナでは、洗浄工程において記録デイスク全体を
洗浄液に浸漬して行つているため、洗浄液の溶液
を多量に洗浄槽に貯留しなければならないという
問題点をを有していた。
本考案の目的は前記従来の課題に鑑み、記録デ
イスクの洗浄は勿論のこと、乾燥も短時間で行う
ことができ、また、少量の洗浄液にて効率良く洗
浄することができ、さらには、記録デイスクの濯
ぎができ、この濯ぎ工程により記録デイスクから
除去された汚れの再付着を防止することができる
超音波式記録デイスククリーナを提供することに
ある。
(課題を解決するための手段) 本考案は前記課題を解決するため、請求項(1)の
考案は、超音波発生装置を装着し洗浄液を収容し
た洗浄槽内にコンパクトデイスク等の記録デイス
クを浸漬し、該記録デイスクを洗浄する超音波式
記録デイスククリーナにおいて、前記洗浄槽に左
右に洗浄液を貯留した洗浄室と濯ぎ液を貯留した
濯ぎ室とを設けるとともに、前記記録デイスクに
連結し該記録デイスクを回転させる回転駆動手段
と、前記回転駆動手段を固定する該回転駆動手段
用の固定手段と、前記記録デイスクを前記洗浄室
に斜めに配置したとき前記固定手段を嵌脱自在に
前記洗浄槽に固定する第1嵌合手段と、前記記録
デイスクを前記濯ぎ室に斜めに配置したとき前記
固定手段を嵌脱自在に前記洗浄槽に固定する第2
嵌合手段と、前記記録デイスクを水平に配置した
とき前記固定手段を嵌脱自在に前記洗浄槽に固定
する第3嵌合手段とを具備し、前記第1嵌合手段
及び第2嵌合手段は前記第3嵌合手段よりも下方
に位置し、該第1嵌合手段及び第2嵌合手段に前
記固定手段が固定されているときは前記記録デイ
スクの略半分が前記洗浄液或いは前記濯ぎ液に浸
漬し、該第2嵌合手段に該固定手段が固定されて
いるときは該記録デイスクが洗浄液面及び濯ぎ液
の上方に位置するよう設定したことを特徴とす
る。
請求項(2)の考案は、請求項(1)の超音波式記録デ
イスククリーナにおいて、前記回転駆動手段を前
記記録デイスクの一部が洗浄液或いは濯ぎ液に浸
漬しているときは低速回転で駆動させ、該記録デ
イスクが洗浄液面の上方に位置しているときは高
速回転で駆動させる回転力可変手段を設けたこと
を特徴とする。
(作用) 請求項(1)の考案において、記録デイスクを洗浄
するときは、固定手段を第1嵌合手段に固定す
る。これにより、記録デイスクが洗浄室に斜めに
配置され、記録デイスクの略半分が洗浄液面の下
方に位置する。次いで、回転駆動手段を及び超音
波発生装置を所定時間駆動する。これにより、記
録デイスクが回転しながら洗浄される。
この洗浄工程が終了したときは、固定手段を第
1嵌合手段から外し、第2嵌合手段に固定する。
これにより、記録デイスクが濯ぎ室に斜めに配置
され、記録デイスクの略半分が濯ぎ液面の下方に
位置する。次いで、回転駆動手段を及び超音波発
生装置を所定時間駆動する。これにより、記録デ
イスクが回転しながら濯ぎ工程が行われる。
この濯ぎ工程が終了したときは、固定手段を第
3嵌合手段に固定する。これにより、記録デイス
クを洗浄液面及び濯ぎ液面の上方に水平に配置さ
れる。しかる後、回転駆動手段を所定時間駆動す
る。これにより、記録デイスクが回転し、この記
録デイスクに付着した洗浄液及び濯ぎ液がその遠
心力により飛散し短時間で乾燥する。
請求項(2)の考案によれば、回転力可変手段によ
り、洗浄工程及び濯ぎ工程のときは回転駆動手段
を低速で駆動し、乾燥工程のときは回転駆動手段
を高速で駆動する。
洗浄工程及び濯ぎ工程中、記録デイスクを高速
で回転させるときは、洗浄槽内の洗浄液及び濯ぎ
液に渦流が生じ、この洗浄液及び濯ぎ液が周方向
に飛散するため、記録デイスク全体に洗浄液及び
濯ぎ液が行き渡らなくなる。このような事態を防
止するため、洗浄工程及び濯ぎ工程中は記録デイ
スクを低速で回転する。
他方、乾燥工程のときは記録デイスクを高速で
回転する。これにより、遠心力が大きくなり、乾
燥工程がさらに短くなる。
(実施例) 第1図乃至第5図は本考案にかかる超音波式記
録デイスククリーナの一実施例を示すもので、第
1図は超音波式記録デイスククリーナの分解斜視
図、第2図は超音波式記録デイスククリーナの洗
浄工程を示す断面図、第3図は超音波式記録デイ
スククリーナの濯ぎ工程を示す断面図、第4図は
超音波式記録デイスククリーナの乾燥工程を示す
断面図である。
図中、1は超音波式記録デイスククリーナ(以
下クリーナと称す)で、洗浄液A及び濯ぎ液Bを
収容した洗浄槽2と、この洗浄槽2に取り付けら
れた駆動モータ3及び超音波発生装置4とから構
成されている。
この洗浄槽2はそれぞれ対向面を開口した偏平
円筒状の上下ケース21,22を有し、その対向
面側が環状のパツキン23を介して螺合し、洗浄
槽2が開閉される。この下ケース22内は仕切り
板24にて上下に仕切られ、この仕切り板24は
その中央部分25を高く、その左右を深底とし、
左側の深底部分には洗浄液Aが貯留される洗浄室
26が形成され、また、右側の深底部分には濯ぎ
液Bが貯留される濯ぎ室27が形成されている。
さらに、中央部分25の下面には超音波発生装置
4が設置され、この超音波発生装置4から洗浄液
A及び濯ぎ液Bに超音波が伝ぱされる。
駆動モータ3はその駆動軸31の下端に十字方
向に突出したキー31aを有し、このキー31a
が円盤状の上キヤツプ32のキー溝32aに圧入
固着されている。またこの上キヤツプ32の下面
には下キヤツプ33が螺合しており、この上下の
キヤツプ32,33をコンパクトデイスク(以下
CDという)の中央の穴CD1に挟み込むことによ
り、この洗浄すべきCDが固定される。これによ
り、駆動モータ3の駆動力がCDの回転力として
伝達される。
また、この駆動モータ3の周側面には環状のモ
ータホルダ51が固着され、このモータホルダ5
1の周側面には対向する嵌合突起51aが突設し
ている。また、洗浄槽2の上ケース21はその上
面の中央に水平面21aを、この水平面21aの
右側には下方に傾斜した傾斜面21bを、さらに
この水平面21aの左側には同じく下方に傾斜し
た傾斜面21cをそれぞれ形成している。この水
平面21a及び各傾斜面21b,21cには各面
21a,21b,21cの境界線に沿つてモータ
ホルダ51の各嵌合突起51aが嵌脱自在に嵌合
する嵌合溝52a,52b,52cがそれぞれ2
個設けられている。また、各嵌合溝52a間、各
嵌合溝52b間及び各嵌合溝52a間には境界線
に直交する長孔53が形成され、この長孔53を
介して駆動モータ3の駆動軸31が移動できるよ
うになつている。
また、前記各嵌合溝52aは水平面21aに沿
つて各嵌合溝52bは傾斜面21bに沿つて、各
嵌合溝52cは傾斜面21cに沿つてそれぞれ設
けられ、この嵌合溝52aにモータホルダ51の
嵌合突起51aが嵌合するとき、CDが水平でか
つ洗浄液面A1及び濯ぎ液面B1の上方に配置さ
れるようになつている。また、嵌合溝52bに嵌
合突起51aが嵌合するとき、CDが左斜めに配
置され、このCDの略半分が洗浄室26の洗浄液
Aに浸漬するようになつている。さらに、嵌合溝
52cに嵌合突起51aが嵌合するとき、CDが
右斜めに配置され、このCDの略半分が濯ぎ室2
7の濯ぎ液Bに浸漬するようになつている。
このような嵌合突起51aと右斜めの嵌合溝5
2bとにより駆動モータ3を固定する第1嵌合手
段を構成し、また、嵌合突起51aと左斜めの嵌
合溝52cとにより駆動モータ3を固定する第2
嵌合手段を構成し、さらに、嵌合突起51aと水
平の嵌合溝52aとにより駆動モータ3を固定す
る第3嵌合手段を構成している。
第5図は駆動モータ3の駆動回路を示すブロツ
ク図である。この駆動回転は電源61と駆動モー
タ3との間に電圧可変器62が挿入され、電圧可
変器62には高電圧を駆動モータ3に印加する高
速モードスイツチ63と、低電圧を駆動モータ3
に印加する低速モードスイツチ64とが接続して
いる。
次に、クリーナ1によるCDの洗浄・濯ぎ・乾
燥操作について説明する。
まず、洗浄槽2の上ケース21を下ケース22
から外し、さらに、駆動モータ3に連結した上キ
ヤツプ32から下キヤツプ33を外す。
しかる後、洗浄されるCDの穴CD1に上キヤツ
プ32を挿入し、さらに、下キヤツプ33をこの
上キヤツプ32に螺合することにより、このCD
を駆動モータ3に連結する。
この連結作業が終了したときは、モータホルダ
51の嵌合突起51aを嵌合溝52bに嵌合して
上ケース21に駆動モータ3を固定する。そし
て、第2図に示すように、上ケース21を下ケー
ス22に螺合してCDを左斜めに配置し、CDの略
半分を洗浄室26の洗浄液Aに浸漬する。
このようなCDの配置作業が完了したときは、
超音波発生装置4を駆動すると共に、低速モード
スイツチ64をオンとなし、駆動モータ3を所定
時間駆動する。これにより、洗浄液Aに超音波が
伝ぱして洗浄液Aにてキヤビテーシヨンが生じ、
CDに付着した汚れが除去される。また、洗浄液
Aが渦流を形成しない程度にCDが低速で回転し、
この水流摩擦によつてもCDに付着した汚れが除
去される。
このCDの洗浄工程が終了したときは、モータ
ホルダ51を把握して嵌合突起51aを嵌合溝5
2bから外し、駆動モータ3の駆動軸31を長孔
53を介して移動し、第3図に示すように、この
嵌合突起51aを嵌合溝52cに嵌め込む。これ
により、CDが右斜めに配置され、CDの略半分に
濯ぎ室27の濯ぎ液Bに浸漬する。
その後、超音波発生装置4を駆動すると共に、
低速モードスイツチ64をオンとなし、駆動モー
タ3を所定時間駆動する。これにより、濯ぎ液B
に超音波が伝ぱして濯ぎ液Bにてキヤビテーシヨ
ンが生じ、洗浄工程で再度CDに付着した汚れが
除去される。
この濯ぎ工程が終了したときは、モータホルダ
51を把握して嵌合突起51aを嵌合溝52cか
ら外し、駆動モータ3の駆動軸31を長孔53を
介して移動し、第4図に示すように、この嵌合突
起51aを嵌合溝52aに嵌め込む。これによ
り、CDが洗浄液面A1及び濯ぎ液面B1の上方
でかつ水平に配置される。
このようにCDを洗浄液面A1及び濯ぎ液面B
1よりも上方に位置させた後、高速モードスイツ
チ63をオンとなし、駆動モータ3を所定時間駆
動する。これにより、CDが高速で回転し、その
遠心力によりCDに付着した洗浄液A及び濯ぎ液
Bが飛散し、CDが短時間で乾燥する。
このような洗浄工程、濯ぎ工程及び乾燥工程が
終了したときは、上ケース21を下ケース22か
ら外し、さらに、下キヤツプ33を上キヤツプ3
2から外し、CDを取り出せば良い。
(考案の効果) 以上説明したように、請求項(1)の考案によれ
ば、記録デイスクの乾燥工程において、記録デイ
スクを洗浄液面及び濯ぎ液面の上方に位置固定し
て回転駆動手段を駆動するときは、記録デイスク
に付着した洗浄液及び濯ぎ液がその遠心力により
飛散し、短時間で記録デイスクが乾燥するという
利点を有する。また、記録デイスクを斜めに配置
し記録デイスクを回転させることにより記録デイ
スク全体を洗浄することができるから、洗浄液が
少なくて済むという利点を有する。さらに、洗浄
工程の後に濯ぎ工程が行われることから、洗浄中
に付着した汚れがこの濯ぎ工程で除去され、記録
デイスクの洗浄が確実に行われるという利点を有
する。
請求項(2)の考案によれば、請求項(1)の考案の効
果を奏することは勿論のこと、洗浄工程、濯ぎ工
程及び乾燥工程で、それぞれ最適な回転数で記録
デイスクを回転させることができるという利点を
有する。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第5図は本考案の一実施例を示すも
ので、第1図は超音波式記録デイスククリーナの
分解斜視図、第2図は超音波式記録デイスククリ
ーナの洗浄工程を示す断面図、第3図は超音波式
記録デイスククリーナの濯ぎ工程を示す断面図、
第4図は超音波式記録デイスククリーナの乾燥工
程を示す断面図、第5図は駆動モータの駆動回路
を示すブロツク図である。 図中、1……超音波式記録デイスククリーナ、
2……洗浄槽、3……駆動モータ、4……超音波
発生装置、26……洗浄室、27……濯ぎ室、5
1……モータホルダ、51a……嵌合突起、52
a,52b,52c……嵌合溝、62……電圧可
変器、A……洗浄液、A1……洗浄液面、B……
濯ぎ液、B1……濯ぎ液面、CD……コンパクト
デイスク。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 超音波発生装置を装着し洗浄液を収容した洗
    浄槽内にコンパクトデイスク等の記録デイスク
    を浸漬し、該記録デイスクを洗浄する超音波式
    記録デイスククリーナにおいて、 前記洗浄槽に左右に洗浄液を貯留した洗浄室
    と濯ぎ液を貯留した濯ぎ室とを設けるととも
    に、 前記記録デイスクに連結し該記録デイスクを
    回転させる回転駆動手段と、 前記回転駆動手段を固定する該回転駆動手段
    用の固定手段と、 前記記録デイスクを前記洗浄室に斜めに配置
    したとき前記固定手段を嵌脱自在に前記洗浄槽
    に固定する第1嵌合手段と、 前記記録デイスクを前記濯ぎ室に斜めに配置
    したとき前記固定手段を嵌脱自在に前記洗浄槽
    に固定する第2嵌合手段と、 前記記録デイスクを水平に配置したとき前記
    固定手段を嵌脱自在に前記洗浄槽に固定する第
    3嵌合手段とを具備し、 前記第1嵌合手段及び第2嵌合手段は前記第
    3嵌合手段よりも下方に位置し、該第1嵌合手
    段及び第2嵌合手段に前記固定手段が固定され
    ているときは前記記録デイスクの略半分が前記
    洗浄液或いは前記濯ぎ液に浸漬し、該第2嵌合
    手段に該固定手段が固定されているときは該記
    録デイスクが洗浄液面及び濯ぎ液の上方に位置
    するよう設定した ことを特徴とする超音波式記録デイスククリ
    ーナ。 (2) 前記回転駆動手段を前記記録デイスクの一部
    が洗浄液或いは濯ぎ液に浸漬しているときは低
    速回転で駆動させ、該記録デイスクが洗浄液面
    の上方に位置しているときは高速回転で駆動さ
    せる回転力可変手段を設けた ことを特徴とする請求項(1)記載の超音波式記
    録デイスククリーナ。
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