JPH0543055Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0543055Y2 JPH0543055Y2 JP1985021762U JP2176285U JPH0543055Y2 JP H0543055 Y2 JPH0543055 Y2 JP H0543055Y2 JP 1985021762 U JP1985021762 U JP 1985021762U JP 2176285 U JP2176285 U JP 2176285U JP H0543055 Y2 JPH0543055 Y2 JP H0543055Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat treatment
- vacuum heat
- treatment tank
- valve
- vacuum
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
Links
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Landscapes
- Powder Metallurgy (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、真空熱処理装置に関し、特に、固体
電解コンデンサ素子の陽極体の真空焼結装置構造
の改良に関する。
電解コンデンサ素子の陽極体の真空焼結装置構造
の改良に関する。
従来、固体電解コンデンサ素子の製造工程の一
過程の真空焼結で使用する真空熱処理装置の構成
は、第２図のブロツク図に示す如く、真空仕切弁
で開口部をそれぞれ閉塞した低真空熱処理槽１
と、高真空熱処理槽２と真空冷却槽（図示省略）
とを順次真空仕切弁を介して連結させて配設し、
それぞれの槽に独立した状態で排気系統を配設し
ている。
過程の真空焼結で使用する真空熱処理装置の構成
は、第２図のブロツク図に示す如く、真空仕切弁
で開口部をそれぞれ閉塞した低真空熱処理槽１
と、高真空熱処理槽２と真空冷却槽（図示省略）
とを順次真空仕切弁を介して連結させて配設し、
それぞれの槽に独立した状態で排気系統を配設し
ている。
この真空熱処理装置の低真空熱処理槽１には、
本引きバルブ４、拡散ポンプ５、補助バルブ６を
順次連結してなる高真空排気系統と、粗引きバル
ブ１３、ワツクストラツプ７、補助バルブ６を順
次連結してなるワツクストラツプ系統の二系列を
併設して有し、この二系列の背圧を維持するため
一対の補助バルブ６に、メカニカルポンプ８、油
回転ポンプ９が順次連結されている。
本引きバルブ４、拡散ポンプ５、補助バルブ６を
順次連結してなる高真空排気系統と、粗引きバル
ブ１３、ワツクストラツプ７、補助バルブ６を順
次連結してなるワツクストラツプ系統の二系列を
併設して有し、この二系列の背圧を維持するため
一対の補助バルブ６に、メカニカルポンプ８、油
回転ポンプ９が順次連結されている。
一方、高真空熱処理槽２側には、本引きバルブ
４、拡散ポンプ５、補助バルブ６の高真空排気系
統と背圧を維持するためのメカニカルポンプ８、
油回転ポンプ９が順次連結されている。
４、拡散ポンプ５、補助バルブ６の高真空排気系
統と背圧を維持するためのメカニカルポンプ８、
油回転ポンプ９が順次連結されている。
まず、大気中より真空仕切弁３ａを介して、低
真空熱処理槽１に搬入された弁作用金属粉末の成
形体１０はワツクストラツプ系統を動作した低真
空雰囲気で熱処理する。
真空熱処理槽１に搬入された弁作用金属粉末の成
形体１０はワツクストラツプ系統を動作した低真
空雰囲気で熱処理する。
熱処理が完了すると、低真空熱処理槽１の排気
系統は、ワツクストラツプ系統から高真空排気系
統に切換えて、低真空熱処理槽１の真空雰囲気を
高真空熱処理槽２と同程度の真空度になるまで高
真空排気系統を動作させ排気する。続いて、真空
仕切弁３ｂを開き、成形体１０を真空熱処理槽２
に移送する。
系統は、ワツクストラツプ系統から高真空排気系
統に切換えて、低真空熱処理槽１の真空雰囲気を
高真空熱処理槽２と同程度の真空度になるまで高
真空排気系統を動作させ排気する。続いて、真空
仕切弁３ｂを開き、成形体１０を真空熱処理槽２
に移送する。
上述した従来の真空熱処理装置は、成形体１０
が低真空熱処理槽１から高真空熱処理槽２に移送
される際に、これら両槽が同圧になり、低真空熱
処理槽１内で加熱分解させ発生した不純物が高真
空熱処理槽２に持ち込まれることにより、高真空
熱処理槽２の内部にワツクス等の不純物が付着す
る。このため高真空熱処理槽内の真空度の低下を
招く欠点を有していた。
が低真空熱処理槽１から高真空熱処理槽２に移送
される際に、これら両槽が同圧になり、低真空熱
処理槽１内で加熱分解させ発生した不純物が高真
空熱処理槽２に持ち込まれることにより、高真空
熱処理槽２の内部にワツクス等の不純物が付着す
る。このため高真空熱処理槽内の真空度の低下を
招く欠点を有していた。
本考案の目的は、かかる従来欠点を改良した真
空熱処理装置を提供することにある。
空熱処理装置を提供することにある。
本考案によれば、真空仕切弁を介して低真空熱
処理槽と高真空熱処理槽とを連結してなる真空熱
処理装置において、上記高真空熱処理槽に、不活
性ガス導入弁を介して不活性ガス流量調整弁を連
結接続させたことを特徴とする真空熱処理装置が
得られる。
処理槽と高真空熱処理槽とを連結してなる真空熱
処理装置において、上記高真空熱処理槽に、不活
性ガス導入弁を介して不活性ガス流量調整弁を連
結接続させたことを特徴とする真空熱処理装置が
得られる。
以下、本考案の実施例について第１図を参照し
て説明する。
て説明する。
第１図に示すように、開口部を真空仕切弁３ａ
と３ｂに閉塞された低真空熱処理槽１側には、粗
引きバルブ１３、ワツクストラツプ７、補助バル
ブ６を順次連結してなるワツクストラツク系統
と、このワツクストラツプ系統を排気するため補
助バルブ６の次にメカニカルポンプ８、油回転ポ
ンプ９を順次連結して設ける。また真空仕切弁３
ｂと３ｃに閉塞された高真空熱処理槽２側には、
本引きバルブ４、拡散ポンプ５、補助バルブ６を
順次連結した高真空排気系統とそれの背圧を維持
するため補助バルブ６の次にメカニカルポンプ
８、油回転ポンプ９を順次連結して配設する。さ
らに、高真空熱処理槽２に不活性ガス導入弁１１
を介して不活性ガス調整弁１２を併設して取付け
本考案真空熱処理装置を構成する。
と３ｂに閉塞された低真空熱処理槽１側には、粗
引きバルブ１３、ワツクストラツプ７、補助バル
ブ６を順次連結してなるワツクストラツク系統
と、このワツクストラツプ系統を排気するため補
助バルブ６の次にメカニカルポンプ８、油回転ポ
ンプ９を順次連結して設ける。また真空仕切弁３
ｂと３ｃに閉塞された高真空熱処理槽２側には、
本引きバルブ４、拡散ポンプ５、補助バルブ６を
順次連結した高真空排気系統とそれの背圧を維持
するため補助バルブ６の次にメカニカルポンプ
８、油回転ポンプ９を順次連結して配設する。さ
らに、高真空熱処理槽２に不活性ガス導入弁１１
を介して不活性ガス調整弁１２を併設して取付け
本考案真空熱処理装置を構成する。
次に、本考案の真空熱処理装置の動作を説明す
る。大気中に放置したタンタルなどの弁作用金属
粉末の成形体１０を真空仕切弁３ａを開いて低真
空熱処理槽１に搬入し、真空仕切弁３ａを閉じ、
熱処理時の真空度100パスカルの真空雰囲気で温
度600℃時間50分熱処理する。この時、低真空熱
処理槽１内の排気は、粗引きバルブ１３、ワツク
ストラツプ７、補助バルブ６を連結してなるワツ
クストラツプ系統とこのワツクストラツプ系統と
連結するメカニカルポンプ８、油回転ポンプ９に
より排気する。低真空熱処理槽１において成形体
１０の熱処理が終了すると高真空熱処理槽２の本
引きバルブ４を閉じたまま、不活性ガス導入弁１
１を開いて不活性ガス流量調整弁１２で調整した
流量１／minのアルゴンの不活性ガスを導入す
る。不活性ガス導入後の高真空熱処理槽２内の真
空度は、100パスカル程度となり、低真空処理槽
１の熱処理終了時の真空度20パスカルより高い圧
力に設定する。続いて、真空仕切弁３ｂが開とな
り成形体１０の移送を開始する。この時、高真空
熱処理槽２に導入された不活性ガスは、低真空熱
処理槽１に連接されている粗引きバルブ１３より
排気され、高真空槽側より低真空槽側に不活性ガ
スが流れる状態となる。成形体１０が高真空熱処
理槽２側に移送が完了すると、不活性ガス導入弁
１１を閉じて、高真空熱処理槽２内を、低真空熱
処理槽１に連接されている粗引きバルブ１３によ
り真空度20パスカル以下まで排気した後、真空仕
切弁３ｂを閉じて高真空熱処理槽２に連接してい
る本引きバルブ４を閉じて、高真空熱処理槽２内
で成形体１０の熱処理を行なう。本処理終了後、
続いて真空仕切弁３ｃを開き真空冷却槽（図示省
略）に移送し、約60分滞留させた後、装置外へ搬
出する。
る。大気中に放置したタンタルなどの弁作用金属
粉末の成形体１０を真空仕切弁３ａを開いて低真
空熱処理槽１に搬入し、真空仕切弁３ａを閉じ、
熱処理時の真空度100パスカルの真空雰囲気で温
度600℃時間50分熱処理する。この時、低真空熱
処理槽１内の排気は、粗引きバルブ１３、ワツク
ストラツプ７、補助バルブ６を連結してなるワツ
クストラツプ系統とこのワツクストラツプ系統と
連結するメカニカルポンプ８、油回転ポンプ９に
より排気する。低真空熱処理槽１において成形体
１０の熱処理が終了すると高真空熱処理槽２の本
引きバルブ４を閉じたまま、不活性ガス導入弁１
１を開いて不活性ガス流量調整弁１２で調整した
流量１／minのアルゴンの不活性ガスを導入す
る。不活性ガス導入後の高真空熱処理槽２内の真
空度は、100パスカル程度となり、低真空処理槽
１の熱処理終了時の真空度20パスカルより高い圧
力に設定する。続いて、真空仕切弁３ｂが開とな
り成形体１０の移送を開始する。この時、高真空
熱処理槽２に導入された不活性ガスは、低真空熱
処理槽１に連接されている粗引きバルブ１３より
排気され、高真空槽側より低真空槽側に不活性ガ
スが流れる状態となる。成形体１０が高真空熱処
理槽２側に移送が完了すると、不活性ガス導入弁
１１を閉じて、高真空熱処理槽２内を、低真空熱
処理槽１に連接されている粗引きバルブ１３によ
り真空度20パスカル以下まで排気した後、真空仕
切弁３ｂを閉じて高真空熱処理槽２に連接してい
る本引きバルブ４を閉じて、高真空熱処理槽２内
で成形体１０の熱処理を行なう。本処理終了後、
続いて真空仕切弁３ｃを開き真空冷却槽（図示省
略）に移送し、約60分滞留させた後、装置外へ搬
出する。
以上説明したように本考案は、高真空熱処理槽
に不活性ガスを導入する機構を加えることにより
低真空熱処理槽側に併設して設けた高真空排気系
を削除することができるので、装置が簡略化され
設備費用が軽減できる。
に不活性ガスを導入する機構を加えることにより
低真空熱処理槽側に併設して設けた高真空排気系
を削除することができるので、装置が簡略化され
設備費用が軽減できる。
さらに低真空熱処理槽から高真空熱処理槽へ不
純物の侵入拡散を押えることができるので、常に
高真空熱処理槽の清浄化が保持できる効果があ
る。
純物の侵入拡散を押えることができるので、常に
高真空熱処理槽の清浄化が保持できる効果があ
る。
第１図は本考案実施例による真空熱処理装置の
ブロツク図、第２図は従来例による真空熱処理装
置のブロツク図。 １……低真空熱処理槽、２……高真空熱処理
槽、３ａ，３ｂ，３ｃ……真空仕切弁、４……本
引きバルブ、５……拡散ポンプ、６……補助バル
ブ、７……ワツクストラツプ、８……メカニカル
ポンプ、９……油回転ポンプ、１０……成形体、
１１……不活性ガス導入弁、１２……不活性ガス
流量調整弁、１３……粗引きバルブ。
ブロツク図、第２図は従来例による真空熱処理装
置のブロツク図。 １……低真空熱処理槽、２……高真空熱処理
槽、３ａ，３ｂ，３ｃ……真空仕切弁、４……本
引きバルブ、５……拡散ポンプ、６……補助バル
ブ、７……ワツクストラツプ、８……メカニカル
ポンプ、９……油回転ポンプ、１０……成形体、
１１……不活性ガス導入弁、１２……不活性ガス
流量調整弁、１３……粗引きバルブ。
Claims (1)
- 真空仕切弁を介して低真空熱処理槽と高真空熱
処理槽とを連結してなる真空熱処理装置におい
て、前記高真空熱処理槽に不活性ガス導入弁を介
して不活性ガス流量調整弁を連結接続させたこと
を特徴とする真空熱処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985021762U JPH0543055Y2 (ja) | 1985-02-18 | 1985-02-18 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985021762U JPH0543055Y2 (ja) | 1985-02-18 | 1985-02-18 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61137629U JPS61137629U (ja) | 1986-08-27 |
| JPH0543055Y2 true JPH0543055Y2 (ja) | 1993-10-29 |
Family
ID=30513452
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985021762U Expired - Lifetime JPH0543055Y2 (ja) | 1985-02-18 | 1985-02-18 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0543055Y2 (ja) |
-
1985
- 1985-02-18 JP JP1985021762U patent/JPH0543055Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61137629U (ja) | 1986-08-27 |
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