JPH0545319B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0545319B2
JPH0545319B2 JP22264685A JP22264685A JPH0545319B2 JP H0545319 B2 JPH0545319 B2 JP H0545319B2 JP 22264685 A JP22264685 A JP 22264685A JP 22264685 A JP22264685 A JP 22264685A JP H0545319 B2 JPH0545319 B2 JP H0545319B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chlorine
water
injection rate
calculation means
chlorine gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP22264685A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6283091A (ja
Inventor
Choko Kurihara
Ryosuke Miura
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP22264685A priority Critical patent/JPS6283091A/ja
Publication of JPS6283091A publication Critical patent/JPS6283091A/ja
Publication of JPH0545319B2 publication Critical patent/JPH0545319B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、塩素を酸化剤または消毒剤に用いる
水処理プラントの塩素注入制御装置に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
水処理プラントにおける塩素注入制御は、原水
の酸化や消毒のほかに水処理プロセスである沈で
ん池やろ過池の保護、塩素の過剰注入による処理
水の品質の低下や薬品費の防止などのために、水
処理プラントにおける重要な運転操作である。
第4図に従来法の実施例を示す。図示しない取
水源から取水された原水は着水井1に流入し、そ
の後、他の図示しない注入器からの凝集剤および
中和剤とともに塩素が注入され、混和池2で混合
され、フロツク形成池8に至る。混和池出口附近
で検水ポンプ3によつて検出を取水し、その検水
の残留塩素濃度を残留塩素計4で測定する。この
測定信号は第1の演算手段5に入力され、PID制
御方式によつて塩素注入率を演算していた。
従来の液体塩素に対する塩素注入制御では、液
体塩素を塩素気化器6によつて純酔な塩素ガスに
し、被処理水に注入する場合に適用されるもので
あつた。ところが最近では、塩素を節約するため
に、液体塩素を液体塩素タンク7に受け入れる場
合に液体塩素タンク上部に必ず生じる空気で希釈
された塩素ガスを被処理水に注入することがあ
る。従来は、このような塩素ガスは中和設備で処
分されたいた。しかし、上述のように液体塩素タ
ンク7に混入した空気で希釈された塩素ガスを塩
素気化器6を経ずに被処理水に直接注入する場
合、塩素ガス濃度が純粋の塩素ガス濃度に比べ低
いため、混和池2の残留塩素濃度が急変し、制御
不可能となる欠点があつた。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、純粋な液体塩素を気化して注
入する場合から、空気で希釈された気体塩素を注
入する場合にきりかえが行われても、この外乱に
対応可能で、所定の塩素注入状態を維持できる塩
素注入装置を提供することにある。
〔発明の概要〕
本発明は、塩素ガスを所定の注入率にて被処理
水内に注入する水処理プラントの塩素注入装置に
おいて、液体塩素を気化器にてガス化した純粋の
塩素ガスと液体塩素タンク内にて空気により希釈
された気体塩素とを被処理水に対し選択的に供給
させる塩素ガス切換手段と、塩素ガス注入点より
下流に設けた残留塩素計の測定値と予定の設定値
との差を基に前記純粋な塩素ガスの注入率を求め
る第1の演算手段と、前記塩素ガス切換手段によ
る切換状態を入力し空気で希釈された気体塩素供
給側に切換られている場合は第1の演算手段にて
求められた注入率を基に予定の補正率にて修正し
た注入率を求める第2の演算手段とを備えてお
り、純粋な塩素ガスから空気で希釈された気体塩
素への切換時に、純粋な塩素ガスの注入率として
求められた値を基に予定の補正率で修正を加えた
注入率を求め、これにより空気で希釈された気体
塩素を注入することにより混和池等における残留
塩素濃度の急変を防止したものである。
〔発明の実施例〕
以下、本発明を浄水場の前塩素注入制御に適用
した一実施例を第1図に示す。
第1図において、図示しない取水源から取水さ
れた原水は、着水井1を経て混和池2に流下す
る。この途中で塩素が注入器12にて注入され、
他の図示しない注入器からの凝集剤および中和剤
とともに混和池2で混合される。混和池2を流出
した被処理水はさらにフロツク形成池8へ流下す
る。混和池2の出口附近で検水ポンプ3によつて
検水を取水し、残留塩素濃度を測定する残塩計4
に導く。
残塩計4の信号RCは第1の演算手段5に入力
される。第1の演算手段5は、残留塩素濃度の制
御目標設定値SVを設定する設定器9を有し、下
式の基づいて塩素注入率のフイードバツク修正量
△Sを計算し、この値から液体塩素を気化させた
純粋な塩素ガスを注入する場合の塩素注入率目標
値Soを計算する。
EN=SV−RC ………(1) △S=KP(EN−EN′)+Ki・EN ………(2) ここでENは今回の制御周期の入力偏差、
EN′は前回の制御周期の入力偏差、KPは比例ゲ
イン、Kiは積分ゲインである。
今回の制御周期の純粋な塩素ガスを注入する場
合の塩素注入率目標値Soを次式に基づいて計算す
る。
So=So-1+△S ………(3) ここでSo-1は前回の制御周期の純粋な塩素ガス
を注入する場合の塩素注入率目標値である。
一方塩素は液体塩素タンク7から、塩素ガス切
換手段10を経て供給されるが、これが端子a側
になつている場合には、塩素気化器6を経て純粋
な塩素ガスとなり、塩素ガス溜11へ導かれる。
これに対し塩素ガス切換手段10が端子bになつ
ている場合には、液体塩素タンク内にて空気で希
釈された気体塩素が直接塩素ガス溜11へ導入さ
れる。そしてこれらは塩素注入器12から被処理
水へ注入される。塩素ガス切換手段10の切換状
態信号は、第2の演算手段13へ入力される。
第2の演算手段13では、塩素ガス切換手段1
0からの状態信号に基づいて、空気で希釈された
気体塩素注入をおこなつているか、または純粋な
塩素ガス注入をおこなつているかどうかを自動的
に判断する。空気で希釈された気体塩素注入を行
つていると判断した場合には、第1の演算手段5
から出力された塩素注入率目標値Soを次式によつ
て修正する。
So′=So・f(t) ………(4) ここでSo′は修正後の塩素注入率目標値である。
f(t)は、希釈された気体塩素注入開始時を出発点
とした、時間の関数からなる補正率である(f(t)
≧1)。f(t)は、本実施例では、 f(t)=K+Asinαt+Bcosβt ………(5) と第2の演算手段13において定義されている。
ここで、K,A,B,α,βはプラント特有の定
数で、プラントの運転データを解析することによ
つて容易に決められる。
上記第2の演算手段13によつて、塩素注入率
目標値So′を演算する過程を第2図に示す。
なお、第2の演算手段13には、プラント特有
の定数K,A,B,α,βを手動設定できる設定
器14を有し、オペレータの判断にもとづいてそ
の値を修正することも可能である。
上述のごとく修正された塩素注入率目標値So′
は、塩素注入器12へ伝送され、被処理水の塩素
注入が行われる。
第3図に、時間t=0において、純粋な液体塩
素を気化して注入する場合から、空気で希釈され
た気体塩素を注入する場合に切りかえたときの、
塩留塩素の変化を示す。同図aの従来方法の場合
では、空気で希釈された気体塩素注入に切りかわ
ると、混和池の残留塩素濃度が低下し、しかも制
御目標値へ到達するまでに時間がかかりすぎるた
め、制御不可能である。
これに対し、同図bの本発明による方法では、
混和池の残留塩素濃度が低下することはなく、良
好に塩素注入制御がおこなわれている。
〔発明の効果〕
以上説明した本発明の塩素注入装置で塩素注入
を行えば、従来法では対応できなかつた、空気で
希釈された気体塩素注入時の塩素自動注入が可能
となり、衛生的で安定した良質の飲料水の供給が
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による塩素注入制御装置の一実
施例を示すブロツク図、第2図は本発明の一実施
例における制御装置の計算の流れを示すフローチ
ヤート、第3図は塩素ガス切換時の変化状態を従
来と比較して示す図、第4図は従来装置を示す図
でである。 4…残留塩素計、5…第1の演算手段、7…塩
素気化器、8…液体塩素タンク、10…塩素ガス
切換手段、11…塩素ガス溜、12…塩素注入
器、13…第2の演算手段。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 塩素ガスを所定の注入率にて被処理水内に注
    入する水処理プラントの塩素注入装置において、 液体塩素を気化器にてガス化した純粋の塩素ガ
    スと液体塩素タンク内にて空気により希釈された
    気体塩素とを被処理水に対し選択的に供給させる
    塩素ガス切換手段と、 塩素ガス注入点より下流に設けた残留塩素計の
    測定値と予定の設定値との差を基に前記純粋な塩
    素ガスの注入率を求める第1の演算手段と、 前記塩素ガス切換手段による切換状態を入力し
    て空気で希釈された気体塩素供給側に切換られて
    いる場合は第1の演算手段にて求められた注入率
    を基に予定の補正率にて修正した注入率を求める
    第2の演算手段と、 を備えた塩素注入装置。
JP22264685A 1985-10-08 1985-10-08 塩素注入装置 Granted JPS6283091A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22264685A JPS6283091A (ja) 1985-10-08 1985-10-08 塩素注入装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22264685A JPS6283091A (ja) 1985-10-08 1985-10-08 塩素注入装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6283091A JPS6283091A (ja) 1987-04-16
JPH0545319B2 true JPH0545319B2 (ja) 1993-07-08

Family

ID=16785710

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22264685A Granted JPS6283091A (ja) 1985-10-08 1985-10-08 塩素注入装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6283091A (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100376488C (zh) * 2004-03-05 2008-03-26 刘宪武 液态氯直接投加工艺系统
JP6283091B2 (ja) 2013-03-14 2018-02-21 サフィナ・メディカル・インコーポレイテッドSaphena Medical, Inc. 単一の内視鏡用管採取デバイス
WO2020145001A1 (ja) * 2019-01-11 2020-07-16 株式会社日立産機システム クレーンおよび巻上機

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6283091A (ja) 1987-04-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101251111B1 (ko) 수 처리 약품을 투입하여 수질 목표값을 유지하기 위한 pid 자동제어용 plc 시스템
JP5420467B2 (ja) 凝集剤注入量決定装置および凝集剤注入量制御システム
JPH1028981A (ja) 塩素消毒処理システム
JPS6283091A (ja) 塩素注入装置
JP2000237773A (ja) オゾン発生量制御装置およびその制御方法
JPH07132293A (ja) 浄水場の塩素注入制御装置
JP2983305B2 (ja) 塩素注入制御装置
JP4975306B2 (ja) 注入オゾン制御システム及び注入オゾン制御方法
JPH0549869A (ja) 透析液の濃度調整装置
SU1460044A1 (ru) Способ регулировани процесса озонировани сточных вод
JP3103155B2 (ja) アルカリ剤注入制御装置
JPH0443718B2 (ja)
JPS5888091A (ja) 浄水場の塩素注入制御方法
JP2000288585A (ja) 炭酸ナトリウムの注入量制御方法及びこれを用いたカルシウムイオン含有水処理設備
JPH0440079B2 (ja)
JPS60212201A (ja) 浄水場の塩素注入制御装置
JPH04260405A (ja) 凝集沈殿処理における薬液注入制御方法
SU791627A1 (ru) Способ регулировани процесса подготовки воды дл фильтрации
JPS621798B2 (ja)
JPH0373888B2 (ja)
JPS6320192B2 (ja)
JPS58104700A (ja) 汚泥処理設備の薬品注入制御方法
JP2003145165A (ja) 二酸化塩素注入装置
JP2004113853A (ja) 浄水処理プロセスにおける流入原水pH値の調整制御装置
JPH04177411A (ja) 薬品注入制御装置

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term