JPH054729B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH054729B2 JPH054729B2 JP61139907A JP13990786A JPH054729B2 JP H054729 B2 JPH054729 B2 JP H054729B2 JP 61139907 A JP61139907 A JP 61139907A JP 13990786 A JP13990786 A JP 13990786A JP H054729 B2 JPH054729 B2 JP H054729B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- film
- iron
- magnetic recording
- recording medium
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、鉄を主材料とした薄膜型磁気記録媒
体の製造方法に関する。 〔従来の技術〕 薄膜型磁気記録媒体は高密度磁気記録媒体とし
て実用化が図られつゝある。 本件発明者らは、特開昭60−231924号公報で開
示されたように、磁性膜を形成する磁性体として
コバルトを用いた薄膜型高密度磁気記録媒体に代
わり、磁性体として鉄系化合物を用いた薄膜型磁
気記録媒体の製造方法を提案した。 この薄膜型高密度磁気記録媒体は、鉄または鉄
合金等の強磁性体の蒸気を、窒素と酸素を含む混
合ガスのイオンと共に非磁性の基材の上に照射す
ることにより、基材上に磁性膜を成膜して作られ
る。この方法で成膜された磁性膜の磁気特性は、
上記混合ガスの酸素濃度が約20％、入射角が基材
の法線に対して80°のときが最も良く、保磁力が
16000e、角型比が0.9以上である。 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし、より高い出力を有する高密度磁気記録
媒体として、従来よりさらに高い保磁力を有する
磁性膜が要望されていたが、上記の保磁力を越え
るものは未だ得られていない。 本発明は、このような問題を解消するためなさ
れたもので、その目的は、より高い保磁力の磁性
膜を持つた薄膜型磁気記録媒体が製造できる方法
を提供することにある。 〔問題を解決するための手段〕 この発明による薄膜型磁気記録媒体の製造方法
は、基材上に鉄の蒸気を入射させると共に、窒素
と酸素を含む混合ガスの励起された分子（以下
「励起種」という。）を上記基材上に照射するもの
である。 〔作用〕 上記励起種（excited species）とは、量子力
学系の定常状態のうち、基底状態より高いエネル
ギー準位にある電気的に中性な分子をいい、励起
分子ともいわれる。この励起分子は、基底状態の
分子間では起こらないような反応が起こるとされ
ており、これを鉄分子、つまり鉄の蒸気と共に基
材上に入射させると、その表面に鉄系化合物から
なる磁性膜が成膜される。後述する如く、この磁
性膜の磁気特性は、前述した従来技術の方法によ
り製造された磁気記録媒体の磁性膜の特性に比
べ、特に保持力がはるかに優れている。 〔実施例〕 次に図面を参照しながら、本発明の実施例につ
いて説明する。 図面は、本考案による発明を実施するための装
置の例である。鉄の分子、つまり鉄の蒸気は、蒸
発源１である鉄に電子銃５から電子を照射し、そ
の衝撃によつて発生させ、これを基材１に入射さ
せる。 他方、上記鉄分子と共に基材１に入射させる準
安定状態にある励起種は、例えば図面において６
で示すような励起種発生装置で作られ、基材２の
上に照射される。即ち、バルブ４側から混合ガス
を反応管３の中に導入し、フイラメント８を加熱
して、反応管３内に熱電子を放出させると共に、
上記反応管３とグリツト７にプラス数＋ボルトの
電圧を印加することにより、上記励起種が発生
し、これが基材２に照射される。 上記混合ガス中に含まれる酸素ガスの濃度は、
10〜30％の範囲が適当であり、特に20％前後の濃
度で最も良好な結果が得られる。混合ガスの酸素
ガスの濃度がこれより低くなると、磁性膜の角型
比が悪くなり、また逆に酸素ガスの濃度が高くな
ると磁性が低下し、約50％程で蒸着膜がほゞ非磁
性となる。 次に、この発明のより具体的な実施例を、得ら
れた測定結果の数値と共に説明する。 図面で示すような装置において、蒸発源１とし
て純度99.9％の鉄を、非磁性の基材２として35mm
角のガラス製基板を用い、この上に次の方法で磁
性膜を形成した。 真空槽内の気圧を10-6Torr以下の真空状態と
し、電子銃５から上記蒸発源１に電子線を照射し
て、同蒸発源１を蒸発させ、これから発生した鉄
の蒸気を80°の入射角で基板２の上に照射した。 またこれと同時に、バルブ４を介して励起種発
生装置６の反応管３に窒素ガスと酸素ガスを含む
混合ガスを導入し、これを励起して基板２の上に
照射した。このとき、励起種発生装置６の熱電子
放出用タングステンフイラメント８の電圧を8V、
電流を16A、反応管３とグリツド７の電圧を50V
とし、真空槽内の真空度を１×10-4Torr、混合
ガス導入量を１〜2scc／minとした。 蒸発源１からの蒸発速度は、基板２に隣接し、
かつこれと同じ高さに設置したセンサで測定しな
がら、これと連動させた水晶振動式膜厚計
（XTM）の指示値が20Å／secになるように制御
した。 混合ガスについては、酸素ガスの濃度を０、
５、10、20、30、50％と６段階に分けて実施し
た。なお、これら混合ガスの残部は、殆どが窒素
ガスである。 次に、こうして形成された磁気記録媒体につい
てそれぞれ試料振動型磁力計によつて磁性膜のＭ
−Ｈ特性を測定し、保磁力と角型比を求め、さら
に触針式膜厚計によつて磁性膜の膜厚を測定し
た。この結果を表１に示す。なお磁性膜の膜厚
は、何れの磁気記録媒体も1000〜1500Å程度であ
つた。 また、これらの磁気記録媒体を濃度５％の食塩
水に３ケ月間浸漬した後取り出し、磁性膜の外観
及び磁気特性を調べたところ、浸漬前と比べて変
化は見られなかつた。 表１の結果から明らかなように、上記混合ガス
の酸素ガス濃度を10％としたときの磁性膜は、鉄
の蒸気と共に酸素濃度20％の混合ガスのイオンを
入射して成膜した従来の磁性膜とほぼ同等の磁気
特性が得られた。さらに、酸素濃度を20％とした
ときは、それ以上の磁気特性が得られた。
体の製造方法に関する。 〔従来の技術〕 薄膜型磁気記録媒体は高密度磁気記録媒体とし
て実用化が図られつゝある。 本件発明者らは、特開昭60−231924号公報で開
示されたように、磁性膜を形成する磁性体として
コバルトを用いた薄膜型高密度磁気記録媒体に代
わり、磁性体として鉄系化合物を用いた薄膜型磁
気記録媒体の製造方法を提案した。 この薄膜型高密度磁気記録媒体は、鉄または鉄
合金等の強磁性体の蒸気を、窒素と酸素を含む混
合ガスのイオンと共に非磁性の基材の上に照射す
ることにより、基材上に磁性膜を成膜して作られ
る。この方法で成膜された磁性膜の磁気特性は、
上記混合ガスの酸素濃度が約20％、入射角が基材
の法線に対して80°のときが最も良く、保磁力が
16000e、角型比が0.9以上である。 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし、より高い出力を有する高密度磁気記録
媒体として、従来よりさらに高い保磁力を有する
磁性膜が要望されていたが、上記の保磁力を越え
るものは未だ得られていない。 本発明は、このような問題を解消するためなさ
れたもので、その目的は、より高い保磁力の磁性
膜を持つた薄膜型磁気記録媒体が製造できる方法
を提供することにある。 〔問題を解決するための手段〕 この発明による薄膜型磁気記録媒体の製造方法
は、基材上に鉄の蒸気を入射させると共に、窒素
と酸素を含む混合ガスの励起された分子（以下
「励起種」という。）を上記基材上に照射するもの
である。 〔作用〕 上記励起種（excited species）とは、量子力
学系の定常状態のうち、基底状態より高いエネル
ギー準位にある電気的に中性な分子をいい、励起
分子ともいわれる。この励起分子は、基底状態の
分子間では起こらないような反応が起こるとされ
ており、これを鉄分子、つまり鉄の蒸気と共に基
材上に入射させると、その表面に鉄系化合物から
なる磁性膜が成膜される。後述する如く、この磁
性膜の磁気特性は、前述した従来技術の方法によ
り製造された磁気記録媒体の磁性膜の特性に比
べ、特に保持力がはるかに優れている。 〔実施例〕 次に図面を参照しながら、本発明の実施例につ
いて説明する。 図面は、本考案による発明を実施するための装
置の例である。鉄の分子、つまり鉄の蒸気は、蒸
発源１である鉄に電子銃５から電子を照射し、そ
の衝撃によつて発生させ、これを基材１に入射さ
せる。 他方、上記鉄分子と共に基材１に入射させる準
安定状態にある励起種は、例えば図面において６
で示すような励起種発生装置で作られ、基材２の
上に照射される。即ち、バルブ４側から混合ガス
を反応管３の中に導入し、フイラメント８を加熱
して、反応管３内に熱電子を放出させると共に、
上記反応管３とグリツト７にプラス数＋ボルトの
電圧を印加することにより、上記励起種が発生
し、これが基材２に照射される。 上記混合ガス中に含まれる酸素ガスの濃度は、
10〜30％の範囲が適当であり、特に20％前後の濃
度で最も良好な結果が得られる。混合ガスの酸素
ガスの濃度がこれより低くなると、磁性膜の角型
比が悪くなり、また逆に酸素ガスの濃度が高くな
ると磁性が低下し、約50％程で蒸着膜がほゞ非磁
性となる。 次に、この発明のより具体的な実施例を、得ら
れた測定結果の数値と共に説明する。 図面で示すような装置において、蒸発源１とし
て純度99.9％の鉄を、非磁性の基材２として35mm
角のガラス製基板を用い、この上に次の方法で磁
性膜を形成した。 真空槽内の気圧を10-6Torr以下の真空状態と
し、電子銃５から上記蒸発源１に電子線を照射し
て、同蒸発源１を蒸発させ、これから発生した鉄
の蒸気を80°の入射角で基板２の上に照射した。 またこれと同時に、バルブ４を介して励起種発
生装置６の反応管３に窒素ガスと酸素ガスを含む
混合ガスを導入し、これを励起して基板２の上に
照射した。このとき、励起種発生装置６の熱電子
放出用タングステンフイラメント８の電圧を8V、
電流を16A、反応管３とグリツド７の電圧を50V
とし、真空槽内の真空度を１×10-4Torr、混合
ガス導入量を１〜2scc／minとした。 蒸発源１からの蒸発速度は、基板２に隣接し、
かつこれと同じ高さに設置したセンサで測定しな
がら、これと連動させた水晶振動式膜厚計
（XTM）の指示値が20Å／secになるように制御
した。 混合ガスについては、酸素ガスの濃度を０、
５、10、20、30、50％と６段階に分けて実施し
た。なお、これら混合ガスの残部は、殆どが窒素
ガスである。 次に、こうして形成された磁気記録媒体につい
てそれぞれ試料振動型磁力計によつて磁性膜のＭ
−Ｈ特性を測定し、保磁力と角型比を求め、さら
に触針式膜厚計によつて磁性膜の膜厚を測定し
た。この結果を表１に示す。なお磁性膜の膜厚
は、何れの磁気記録媒体も1000〜1500Å程度であ
つた。 また、これらの磁気記録媒体を濃度５％の食塩
水に３ケ月間浸漬した後取り出し、磁性膜の外観
及び磁気特性を調べたところ、浸漬前と比べて変
化は見られなかつた。 表１の結果から明らかなように、上記混合ガス
の酸素ガス濃度を10％としたときの磁性膜は、鉄
の蒸気と共に酸素濃度20％の混合ガスのイオンを
入射して成膜した従来の磁性膜とほぼ同等の磁気
特性が得られた。さらに、酸素濃度を20％とした
ときは、それ以上の磁気特性が得られた。
以上説明した通り、本発明によれば、従来の方
法により製造された鉄系化合物の磁性膜を有する
薄膜型磁気記録媒体に比べ、特に保磁力の高い磁
性膜を持つた薄膜型磁気記録媒体を提供できる効
果が得られる。
法により製造された鉄系化合物の磁性膜を有する
薄膜型磁気記録媒体に比べ、特に保磁力の高い磁
性膜を持つた薄膜型磁気記録媒体を提供できる効
果が得られる。
図面は本発明を実施するための装置の一例を示
す概念図である。 １……蒸発源、２……基材、３……反応管、４
……バルブ、５……電子銃、６……励起種発生装
置、７……グリツド、８……フイラメント。
す概念図である。 １……蒸発源、２……基材、３……反応管、４
……バルブ、５……電子銃、６……励起種発生装
置、７……グリツド、８……フイラメント。
Claims (1)
- １ 非磁性の基材上に、磁性材料を真空蒸着して
薄膜型磁気記録媒体を製造する方法において、基
材上に鉄の蒸気を入射させると共に、窒素と酸素
を含む混合ガスの励起された分子を、上記基材上
に照射することを特徴とする薄膜型磁気記録媒体
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13990786A JPS62298027A (ja) | 1986-06-16 | 1986-06-16 | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13990786A JPS62298027A (ja) | 1986-06-16 | 1986-06-16 | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62298027A JPS62298027A (ja) | 1987-12-25 |
| JPH054729B2 true JPH054729B2 (ja) | 1993-01-20 |
Family
ID=15256406
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13990786A Granted JPS62298027A (ja) | 1986-06-16 | 1986-06-16 | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62298027A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0262724A (ja) * | 1988-08-30 | 1990-03-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60231924A (ja) * | 1984-04-28 | 1985-11-18 | Taiyo Yuden Co Ltd | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
-
1986
- 1986-06-16 JP JP13990786A patent/JPS62298027A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62298027A (ja) | 1987-12-25 |
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