JPS62298027A - 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
薄膜型磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS62298027A JPS62298027A JP13990786A JP13990786A JPS62298027A JP S62298027 A JPS62298027 A JP S62298027A JP 13990786 A JP13990786 A JP 13990786A JP 13990786 A JP13990786 A JP 13990786A JP S62298027 A JPS62298027 A JP S62298027A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- magnetic recording
- vapor
- onto
- iron
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 41
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 2
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 abstract 4
- 230000005284 excitation Effects 0.000 abstract 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 5
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 101150110330 CRAT gene Proteins 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 description 1
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は、鉄を主材料とした薄膜型磁気記録媒体の製造
方法に関する。
方法に関する。
薄膜型磁気記録媒体は高密度磁気記録媒体として実用化
が図られつ\ある。
が図られつ\ある。
この種の高密度磁気記録媒体で磁気特性に最も優れた磁
性膜は、鉄または鉄合金等の強磁性体の蒸気を、窒素と
酸素を含む混合ガスのイオンと共に非磁性の基材の上に
照射することにより成膜して作られる。この方法で成膜
された磁性膜の磁気特性は、上記混合ガスの酸素濃度が
約20%、入射角が基材の法線に対して80°のときが
最も良く、保磁力が16000e、角型比が0.9以上
である。
性膜は、鉄または鉄合金等の強磁性体の蒸気を、窒素と
酸素を含む混合ガスのイオンと共に非磁性の基材の上に
照射することにより成膜して作られる。この方法で成膜
された磁性膜の磁気特性は、上記混合ガスの酸素濃度が
約20%、入射角が基材の法線に対して80°のときが
最も良く、保磁力が16000e、角型比が0.9以上
である。
しかし、より高い出力を有する高密度磁気記録媒体とし
て、従来よりさらに高い保磁力を有する磁性膜が要望さ
れていたが、上記の保磁力を越えるものは未だ得られて
いない。
て、従来よりさらに高い保磁力を有する磁性膜が要望さ
れていたが、上記の保磁力を越えるものは未だ得られて
いない。
本発明は、このような問題を解消するためなされたもの
で、その目的は、より高い保磁力の磁性膜を持った薄膜
型磁気記録媒体が製造できる方法を提供することにある
。
で、その目的は、より高い保磁力の磁性膜を持った薄膜
型磁気記録媒体が製造できる方法を提供することにある
。
この発明による薄膜型磁気記録媒体の製造方法は、基材
上に鉄の蒸気を入射させると共に。
上に鉄の蒸気を入射させると共に。
窒素と酸素を含む混合ガスの励起された分子(以下「励
起種」という。)を上記基材上に照射するものである。
起種」という。)を上記基材上に照射するものである。
上記励起種(excited 5pecies )とは
、量子力学系の定常状態のうち、基底状態より高いエネ
ルギー準位にある電気的に中性な分子をいい。
、量子力学系の定常状態のうち、基底状態より高いエネ
ルギー準位にある電気的に中性な分子をいい。
励起分子ともいわれる。準安定状態にある励起種は2例
えば図面において6で示すような励起種発生装置で作ら
れ、基材2の上に照射される。
えば図面において6で示すような励起種発生装置で作ら
れ、基材2の上に照射される。
即ち、パルプ4側から混合ガスを反応管3の中に導入し
、フィラメント8を加熱して1反応管3内に熱電子を放
出させると共に、上記反応管3とグリッド7にプラス数
十ボルトの電圧を印加することにより、上記励起種が発
生し、これが基材2に照射される。
、フィラメント8を加熱して1反応管3内に熱電子を放
出させると共に、上記反応管3とグリッド7にプラス数
十ボルトの電圧を印加することにより、上記励起種が発
生し、これが基材2に照射される。
上記混合ガス中に含まれる酸素ガスの濃度は。
10〜30%の範囲が適当であり、特に20%前後の濃
度で最も良好な結果が得られる。混合ガスの酸素ガスの
濃度がこれより低くなると、磁性膜の角型比が悪くなり
、また逆に酸素ガスの濃度が高くなると磁性が低下し、
約50%程で蒸着膜かはy非磁性となる。
度で最も良好な結果が得られる。混合ガスの酸素ガスの
濃度がこれより低くなると、磁性膜の角型比が悪くなり
、また逆に酸素ガスの濃度が高くなると磁性が低下し、
約50%程で蒸着膜かはy非磁性となる。
次に、この発明の構成を実施例に基づき、さらに具体的
に説明する。
に説明する。
図面で示すような装置において、蒸発tA1として純度
99.9%の鉄を、非磁性の基材2として35mm角の
ガラス製基板を用い、この上に次の方法で磁性膜を形成
した。
99.9%の鉄を、非磁性の基材2として35mm角の
ガラス製基板を用い、この上に次の方法で磁性膜を形成
した。
真空槽内の気圧を10”’ Torr以下の真空状態と
し、電子銃5から上記蒸発源1に電子線を照射して、同
蒸発源1を蒸発させ、これから発生した鉄の蒸気を80
°の入射角で基板2の上に照射した。
し、電子銃5から上記蒸発源1に電子線を照射して、同
蒸発源1を蒸発させ、これから発生した鉄の蒸気を80
°の入射角で基板2の上に照射した。
またこれと同時に、バルブ4を介して励起種発生装置6
の反応管3に窒素ガスと酸素ガスを含む混合ガスを導入
し、これを励起して基板2の上に照射した。このとき、
励起種発生装置6の熱電子放出用タングステンフィラメ
ント8の電圧を8V、電流を16A1反応管3とクラッ
ト7の電圧を50Vとし、真空槽内の真空度を1×10
−’ Torr、混合ガス導入量を1〜2 scc/m
inとした。
の反応管3に窒素ガスと酸素ガスを含む混合ガスを導入
し、これを励起して基板2の上に照射した。このとき、
励起種発生装置6の熱電子放出用タングステンフィラメ
ント8の電圧を8V、電流を16A1反応管3とクラッ
ト7の電圧を50Vとし、真空槽内の真空度を1×10
−’ Torr、混合ガス導入量を1〜2 scc/m
inとした。
蒸発源1からの蒸発速度は、基板2に隣接し。
かつこれと同じ高さに設置したセンサで測定しながら、
これと連動させた水晶振動式膜厚計(XTM)の指示値
が20人/secになるように制御した。
これと連動させた水晶振動式膜厚計(XTM)の指示値
が20人/secになるように制御した。
混合ガスについては、酸素ガスの濃度を0゜5、10.
20.30.50%と6段階に分けて実施した。なお、
これら混合ガスの残部は、殆どが窒素ガスである。
20.30.50%と6段階に分けて実施した。なお、
これら混合ガスの残部は、殆どが窒素ガスである。
次に、こうして形成された磁気記録媒体についてそれぞ
れ試料振動型磁力計によって磁性膜のM−H特性を測定
し、保磁力と角型比を求め。
れ試料振動型磁力計によって磁性膜のM−H特性を測定
し、保磁力と角型比を求め。
さらに触針式膜厚計によって磁性膜の膜厚を測定した。
この結果を表1に示す。なお磁性膜の膜厚は、何れの磁
気記録媒体も1000〜1500人程度であった。
気記録媒体も1000〜1500人程度であった。
また、これらの磁気記録媒体を濃度5%の食塩水に3ケ
月間浸漬した後取り出し、磁性膜の外観及び磁気特性を
調べたところ、浸漬前と比べて変化は見られなかった。
月間浸漬した後取り出し、磁性膜の外観及び磁気特性を
調べたところ、浸漬前と比べて変化は見られなかった。
表1の結果から明らかなように、上記混合ガスの酸素ガ
ス濃度を10%としたときの磁性膜は。
ス濃度を10%としたときの磁性膜は。
鉄の蒸気と共に酸素濃度20%の混合ガスのイオンを入
射して成膜した従来の磁性膜とほぼ同等の磁気特性が得
られた。さらに、酸素濃度を20%としたときは、それ
以上の磁気特性が得られた。
射して成膜した従来の磁性膜とほぼ同等の磁気特性が得
られた。さらに、酸素濃度を20%としたときは、それ
以上の磁気特性が得られた。
表 1
〔発明の効果〕
以上説明した通り3本発明によれば、従来の磁気記録媒
体に比べて、保磁力の高い磁性膜を持った薄膜型磁気記
録媒体を提供することができる効果がある。
体に比べて、保磁力の高い磁性膜を持った薄膜型磁気記
録媒体を提供することができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明を実施するための装置の一例を示す概念図
である。 1・・−蒸発源 2−基材 3−反応管 4−・・パルプ5・−電子銃
6−励起種発生装♂7・−グリッド
8−フィラメント発明者宇野 着払 有用 節 龍野 哲男 飯1)英世
である。 1・・−蒸発源 2−基材 3−反応管 4−・・パルプ5・−電子銃
6−励起種発生装♂7・−グリッド
8−フィラメント発明者宇野 着払 有用 節 龍野 哲男 飯1)英世
Claims (1)
- 非磁性の基材上に、磁性材料を真空蒸着して薄膜型磁気
記録媒体を製造する方法において、基材上に鉄の蒸気を
入射させると共に、窒素と酸素を含む混合ガスの励起さ
れた分子を、上記基材上に照射することを特徴とする薄
膜型磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13990786A JPS62298027A (ja) | 1986-06-16 | 1986-06-16 | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13990786A JPS62298027A (ja) | 1986-06-16 | 1986-06-16 | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62298027A true JPS62298027A (ja) | 1987-12-25 |
| JPH054729B2 JPH054729B2 (ja) | 1993-01-20 |
Family
ID=15256406
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13990786A Granted JPS62298027A (ja) | 1986-06-16 | 1986-06-16 | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62298027A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0262724A (ja) * | 1988-08-30 | 1990-03-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60231924A (ja) * | 1984-04-28 | 1985-11-18 | Taiyo Yuden Co Ltd | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
-
1986
- 1986-06-16 JP JP13990786A patent/JPS62298027A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60231924A (ja) * | 1984-04-28 | 1985-11-18 | Taiyo Yuden Co Ltd | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0262724A (ja) * | 1988-08-30 | 1990-03-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH054729B2 (ja) | 1993-01-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2030483C1 (ru) | Способ нанесения пленок на основе оксида кремния | |
| RU2117338C1 (ru) | Система материалов для магнитооптической записи | |
| Miyake et al. | Rutile‐type TiO2 formation by ion beam dynamic mixing | |
| Durandet et al. | New plasma‐assisted deposition technique using helicon activated reactive evaporation | |
| US6812164B2 (en) | Method and apparatus for ionization film formation | |
| Celotta et al. | Sources of polarized electrons | |
| JPS62298027A (ja) | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS6124214A (ja) | Co−O系薄膜型垂直磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS60231924A (ja) | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0334619B2 (ja) | ||
| JPH043010B2 (ja) | ||
| Berry et al. | Material-dependent Variations of Alignment in Beam-Foil Excitation | |
| Nyaiesh et al. | The effects of gas composition on discharge and deposition characteristics when magnetron sputtering aluminium | |
| Stirling et al. | Reactive sputtering of nickel, iron, and nickel ferrite | |
| US3475309A (en) | Method of making paramagnetic nickel ferrite thin films | |
| JPS63251931A (ja) | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0697647B2 (ja) | フエライト薄膜の製造方法 | |
| Szokefalvi-Nagy et al. | Experimental evidence of the enhancement of the low-temperature oxidation rate of titanium films by the Mott potential | |
| JPS60236113A (ja) | 磁気記録材料およびその製造方法 | |
| JPS6362872A (ja) | 薄膜形成方法 | |
| Sugimoto et al. | Magnetic condensation of a photoexcited plasma during fluoropolymer sputtering | |
| JPS63245829A (ja) | 酸化物超電導薄膜の製造方法 | |
| JPS6353255A (ja) | 炭素薄膜の形成方法 | |
| JPS5916144A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| Beardmore | Production and Characterisation of Nanoscale Structures Using Atom Lithographic Techniques |