JPH0549473B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0549473B2 JPH0549473B2 JP59016437A JP1643784A JPH0549473B2 JP H0549473 B2 JPH0549473 B2 JP H0549473B2 JP 59016437 A JP59016437 A JP 59016437A JP 1643784 A JP1643784 A JP 1643784A JP H0549473 B2 JPH0549473 B2 JP H0549473B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- medium
- naphthoquinone
- dye
- substrate
- recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 20
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 14
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 claims description 6
- -1 5-amino-8-(substituted anilino)-2,3-dicyano-1,4-naphthoquinone Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- JZRYQZJSTWVBBD-UHFFFAOYSA-N pentaporphyrin i Chemical class N1C(C=C2NC(=CC3=NC(=C4)C=C3)C=C2)=CC=C1C=C1C=CC4=N1 JZRYQZJSTWVBBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 25
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 24
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 13
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000012264 purified product Substances 0.000 description 3
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 3
- FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 1,4-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 150000004700 cobalt complex Chemical class 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007737 ion beam deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFSZGCAJTTUCCU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dihydroxy-5-nitronaphthalene-2,3-dicarbonitrile Chemical compound C1=CC=C2C(O)=C(C#N)C(C#N)=C(O)C2=C1[N+]([O-])=O FFSZGCAJTTUCCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIAJWKWOKTWTIZ-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxonaphthalene-2,3-dicarbonitrile Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(C#N)=C(C#N)C(=O)C2=C1 KIAJWKWOKTWTIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULHFFAFDSSHFDA-UHFFFAOYSA-N 1-amino-2-ethoxybenzene Chemical compound CCOC1=CC=CC=C1N ULHFFAFDSSHFDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWCITCQRUBWCJA-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloro-5-nitronaphthalene-1,4-dione Chemical compound O=C1C(Cl)=C(Cl)C(=O)C2=C1C=CC=C2[N+](=O)[O-] AWCITCQRUBWCJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVPKNMBRVBMTLB-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloronaphthalene-1,4-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(Cl)=C(Cl)C(=O)C2=C1 SVPKNMBRVBMTLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- BNBGDHHYNYTXFH-UHFFFAOYSA-N 5-amino-1,4-dioxonaphthalene-2,3-dicarbonitrile Chemical compound O=C1C(C#N)=C(C#N)C(=O)C2=C1C=CC=C2N BNBGDHHYNYTXFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKINVXOWFXXARY-UHFFFAOYSA-N 5-amino-8-(4-ethoxyanilino)-1,4-dioxonaphthalene-2,3-dicarbonitrile Chemical compound C1=CC(OCC)=CC=C1NC1=CC=C(N)C2=C1C(=O)C(C#N)=C(C#N)C2=O OKINVXOWFXXARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000980 Aluminium gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003322 NiCu Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001215 Te alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- KXZJHVJKXJLBKO-UHFFFAOYSA-N chembl1408157 Chemical compound N=1C2=CC=CC=C2C(C(=O)O)=CC=1C1=CC=C(O)C=C1 KXZJHVJKXJLBKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000007333 cyanation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- RKCAIXNGYQCCAL-UHFFFAOYSA-N porphin Chemical class N1C(C=C2N=C(C=C3NC(=C4)C=C3)C=C2)=CC=C1C=C1C=CC4=N1 RKCAIXNGYQCCAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052713 technetium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
- G11B7/246—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing dyes
- G11B7/248—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing dyes porphines; azaporphines, e.g. phthalocyanines
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
- G11B7/246—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing dyes
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
- G11B7/246—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing dyes
- G11B2007/24612—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing dyes two or more dyes in one layer
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はレーザ光によつて情報を記録再生する
ことのできる光学記録媒体に関し、さらに詳しく
は有機色素を用いる光学記録媒体に関する。
ことのできる光学記録媒体に関し、さらに詳しく
は有機色素を用いる光学記録媒体に関する。
(従来技術とその問題点)
従来、この種の光学記録媒体としてTe合金、
Te酸化物及び有機色素等が用いられている。有
機色素は一般に、高感度で無公害な媒体を安価に
製作し得るという優れた特性を有するので、これ
まで種々の媒体の開発が試みられている。それら
を大別すると蒸着型と溶媒塗布型とに分けられ
る。溶媒塗布型はたとえば特開昭55−161690号に
開示されているように高分子樹脂であるポリビニ
ルアセテートに色素としてポリエステルイエロー
を溶剤で相溶し、回転塗布法で基板上に形成され
る。このため、基板に樹脂を使用する場合は、樹
脂を溶解しない溶剤を選択しなければならないと
いう制約がある。一方、蒸着で形成される媒体
は、基板の選択に制約を与えないので実用上望ま
しい媒体である。ただし、蒸着色素膜は一般に会
合(凝集)による表面性の劣化を示す。この劣化
が媒体の寿命を決めるので蒸着型の媒体の場合、
会合性の低い媒体を用いることが重要であるが、
これまで充分な寿命を有する媒体は開発されてい
ない。
Te酸化物及び有機色素等が用いられている。有
機色素は一般に、高感度で無公害な媒体を安価に
製作し得るという優れた特性を有するので、これ
まで種々の媒体の開発が試みられている。それら
を大別すると蒸着型と溶媒塗布型とに分けられ
る。溶媒塗布型はたとえば特開昭55−161690号に
開示されているように高分子樹脂であるポリビニ
ルアセテートに色素としてポリエステルイエロー
を溶剤で相溶し、回転塗布法で基板上に形成され
る。このため、基板に樹脂を使用する場合は、樹
脂を溶解しない溶剤を選択しなければならないと
いう制約がある。一方、蒸着で形成される媒体
は、基板の選択に制約を与えないので実用上望ま
しい媒体である。ただし、蒸着色素膜は一般に会
合(凝集)による表面性の劣化を示す。この劣化
が媒体の寿命を決めるので蒸着型の媒体の場合、
会合性の低い媒体を用いることが重要であるが、
これまで充分な寿命を有する媒体は開発されてい
ない。
(発明の目的)
本発明の目的は、前述の従来技術の欠点を改良
し、長期保存性に優れた有機色素を主成分とする
記録層を有する光学記録媒体を提供することであ
る。
し、長期保存性に優れた有機色素を主成分とする
記録層を有する光学記録媒体を提供することであ
る。
(発明の構成)
本発明は、基板の片側または両側に記録層を設
け、情報をレーザ光線によつて記録しかつ読み取
る光学記録媒体において、5−アミノ−8−(置
換アニリノ)−2,3−ジシアノ−1,4−ナフ
トキノン色素或いは5,8−(置換アニリノ)−
2,3−ジシアノ−1,4−ナフトキノン色素或
いはこれらの金属錯体と、ポルフィン形化合物と
を混合した層を記録層とすることを特徴とする。
け、情報をレーザ光線によつて記録しかつ読み取
る光学記録媒体において、5−アミノ−8−(置
換アニリノ)−2,3−ジシアノ−1,4−ナフ
トキノン色素或いは5,8−(置換アニリノ)−
2,3−ジシアノ−1,4−ナフトキノン色素或
いはこれらの金属錯体と、ポルフィン形化合物と
を混合した層を記録層とすることを特徴とする。
(構成の詳細な説明)
本発明は上述の構成をとることにより従来技術
の問題点を解決した。
の問題点を解決した。
5−アミノ−8−(置換アニリノ)−2,3−ジ
シアノ−1,4−ナフトキノン色素或いは5,8
−(置換アニリノ)−2,3−ジシアノ−1,4−
ナフトキノン色素或いはこれらの金属錯体の置換
アニリノの置換基としてアルキル基、アルコキシ
ル基、アリル基、アミノ基、置換アミノ基を選択
することにより、蒸着による成膜性および蒸着膜
の会合性が無置換アニリノ( )より優れる。置換基のアルキル基およびアルコ
キシル基の炭素数は1〜4が望ましが、より望ま
しいのはアルコキシル基である。
シアノ−1,4−ナフトキノン色素或いは5,8
−(置換アニリノ)−2,3−ジシアノ−1,4−
ナフトキノン色素或いはこれらの金属錯体の置換
アニリノの置換基としてアルキル基、アルコキシ
ル基、アリル基、アミノ基、置換アミノ基を選択
することにより、蒸着による成膜性および蒸着膜
の会合性が無置換アニリノ( )より優れる。置換基のアルキル基およびアルコ
キシル基の炭素数は1〜4が望ましが、より望ま
しいのはアルコキシル基である。
これらのナフトキノン色素およびその金属錯体
は、近赤外部に吸収極大を示し、記録・再生のレ
ーザとして半導体レーザを用いるとその発振波長
と良く適合し、高感度媒体を形成し得ることが期
待できる。
は、近赤外部に吸収極大を示し、記録・再生のレ
ーザとして半導体レーザを用いるとその発振波長
と良く適合し、高感度媒体を形成し得ることが期
待できる。
前記ナフトキノン色素およびその金属錯体の合
成例を次に示す。
成例を次に示す。
まず公知の2,3−ジクロロ−1,4−ナフト
キノンを硝酸と硫酸でニトロ化して5−ニトロ−
2,3−ジクロロ−1,4−ナフトキノンを得
る。次に、青酸ソーダでシアノ化を行ない5−ニ
トロ−2,3−ジシアノ−1,4−ジヒドロキシ
ナフタレンを得る。つづいて、塩化第1スズと塩
酸で還元処理後、塩化第2鉄で酸化処理して5−
アミノ−2,3−ジシアノ−1,4−ナフトキノ
ン〔〕を得る。〔〕1gをよく粉砕し、エタ
ノール400mlに分散させ還流しておく。これにp
−エトキシアニリン1.23g(2モル比)のエタノ
ール(10ml)溶液を滴下し、還元下に10分かきま
ぜる。反応後熱時過し、液を水冷して生じた
沈殿を過し、乾燥後クロロホルムから再結晶す
ると380mg(収率24%)の精製品(mp254〜256
℃)が得られる。
キノンを硝酸と硫酸でニトロ化して5−ニトロ−
2,3−ジクロロ−1,4−ナフトキノンを得
る。次に、青酸ソーダでシアノ化を行ない5−ニ
トロ−2,3−ジシアノ−1,4−ジヒドロキシ
ナフタレンを得る。つづいて、塩化第1スズと塩
酸で還元処理後、塩化第2鉄で酸化処理して5−
アミノ−2,3−ジシアノ−1,4−ナフトキノ
ン〔〕を得る。〔〕1gをよく粉砕し、エタ
ノール400mlに分散させ還流しておく。これにp
−エトキシアニリン1.23g(2モル比)のエタノ
ール(10ml)溶液を滴下し、還元下に10分かきま
ぜる。反応後熱時過し、液を水冷して生じた
沈殿を過し、乾燥後クロロホルムから再結晶す
ると380mg(収率24%)の精製品(mp254〜256
℃)が得られる。
この精製品の同定結果は、
(1) λmax 760nm(アセトニトリル中)
(2) 質量分析(M/e)358,330,329
(3) 元素分析値
計算値 C:67.03% N:15.64% H:3.94
% 実験値 C:67.09% N:15.85% H:3.85
% のようになり、これは5−アミノ−8−(p−エ
トキシアニリノ)−2,3−ジシアノ−1,4−
ナフトキノン〔〕であることが確認された。次
に、〔〕200mgをアセトニトリル300mlに溶かし、
これに50mlのアセトニトリルに溶かした塩化コバ
ルト72mg(1モル比)の溶液を加え、アセトニト
リルの沸点で3時間還流しておく。その後、減圧
蒸留し、残渣をアセトニトリルで洗浄して〔〕
を洗い流し、さらに水洗した後乾燥させると、5
−アミノ−8−(p−エトキシアニリノ)−2,3
−ジシアノ−1,4−ナフトキノン色素のコバル
ト錯体130mgの精製品が得られた。
% 実験値 C:67.09% N:15.85% H:3.85
% のようになり、これは5−アミノ−8−(p−エ
トキシアニリノ)−2,3−ジシアノ−1,4−
ナフトキノン〔〕であることが確認された。次
に、〔〕200mgをアセトニトリル300mlに溶かし、
これに50mlのアセトニトリルに溶かした塩化コバ
ルト72mg(1モル比)の溶液を加え、アセトニト
リルの沸点で3時間還流しておく。その後、減圧
蒸留し、残渣をアセトニトリルで洗浄して〔〕
を洗い流し、さらに水洗した後乾燥させると、5
−アミノ−8−(p−エトキシアニリノ)−2,3
−ジシアノ−1,4−ナフトキノン色素のコバル
ト錯体130mgの精製品が得られた。
この精製品をシリカゲル薄層クロマトグラフ法
でアセトニトリルを展開剤として分析したとこ
ろ、錯体は展開しなかつた。なお、〔〕のRf値
は0.9である。
でアセトニトリルを展開剤として分析したとこ
ろ、錯体は展開しなかつた。なお、〔〕のRf値
は0.9である。
他の前記ナフトキノン色素およびその金属錯体
も上記合成例と同様に合成することができる。
も上記合成例と同様に合成することができる。
本発明で使用される安定化材料としては、B、
Al、Mg、Si、Ca、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、
Co、NiCu、Zn、Ga、Ge、Sm、Sr、Y、Zr、
Nb、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、In、Sn、Ba、
La、Hf、Ta、Re、Ir、Pb、BiDy、Er、Gd、
Nd、Prなどの元素の窒化物、弗化物、酸化物、
炭化物や各種有機物から選ばれる。特に望ましい
のはGeO2、SiO、SiO2、Al2O3、Cr2O3Y2O3、
La2O3、CeO2、Sm2O3、ZnO、TiO2、
MgF2CaF2、ポルフイン形化合物などである。と
くにポルフイン形化合物のなかでもさらに望まし
いの無金属フタロシアニンや中心原子(分子)が
Li、Na、Mg、Al、K、Ca、Ti、TiO、V、
VO、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、
Ge、Y、Mo、Rh、Pd、Ag、In、Sn、Ba、La、
Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Dy、Tb、ErYb、
Hf、Os、Pt、Pbであるフタロシアニ化合物、或
いはそれらの弗素置換物、塩素置換物である。
Al、Mg、Si、Ca、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、
Co、NiCu、Zn、Ga、Ge、Sm、Sr、Y、Zr、
Nb、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、In、Sn、Ba、
La、Hf、Ta、Re、Ir、Pb、BiDy、Er、Gd、
Nd、Prなどの元素の窒化物、弗化物、酸化物、
炭化物や各種有機物から選ばれる。特に望ましい
のはGeO2、SiO、SiO2、Al2O3、Cr2O3Y2O3、
La2O3、CeO2、Sm2O3、ZnO、TiO2、
MgF2CaF2、ポルフイン形化合物などである。と
くにポルフイン形化合物のなかでもさらに望まし
いの無金属フタロシアニンや中心原子(分子)が
Li、Na、Mg、Al、K、Ca、Ti、TiO、V、
VO、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、
Ge、Y、Mo、Rh、Pd、Ag、In、Sn、Ba、La、
Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Dy、Tb、ErYb、
Hf、Os、Pt、Pbであるフタロシアニ化合物、或
いはそれらの弗素置換物、塩素置換物である。
前記ナフトキノン色素或いはその金属錯体と安
定化材料との混合比率は安定化材料の混入量が1
〜50vol%の範囲に選択するのが望ましい。
定化材料との混合比率は安定化材料の混入量が1
〜50vol%の範囲に選択するのが望ましい。
混合層を作製する最も一般的な方法は、共蒸着
である。これは、前記ナフトキノン色素或いはそ
の金属錯体と安定化材料とを別個の蒸発源から同
時に蒸発させることにより、蒸発源上に保持され
た基板上に混合層を得る方法である。或いは、50
Å以下の薄膜を交互に積層して疑似混合層を形成
してもよい。蒸発源の加熱方法としては、抵抗加
熱、電子ビーム加熱などが使用できる。また、ス
パツタリング、イオンビームデポジシヨン、クラ
スターイオンビームデポジシヨン、イオンプレー
テイングなどが使用でき、前記ナフトキノン色素
或いはその金属錯体と安定化材料とを別々の付着
法で形成してもよい。
である。これは、前記ナフトキノン色素或いはそ
の金属錯体と安定化材料とを別個の蒸発源から同
時に蒸発させることにより、蒸発源上に保持され
た基板上に混合層を得る方法である。或いは、50
Å以下の薄膜を交互に積層して疑似混合層を形成
してもよい。蒸発源の加熱方法としては、抵抗加
熱、電子ビーム加熱などが使用できる。また、ス
パツタリング、イオンビームデポジシヨン、クラ
スターイオンビームデポジシヨン、イオンプレー
テイングなどが使用でき、前記ナフトキノン色素
或いはその金属錯体と安定化材料とを別々の付着
法で形成してもよい。
記録層を支持する基板としては種々のものが使
用できるが、一般にはガラス、アルミニウム合
金、合成樹脂が望ましい。合成樹脂としてはポリ
メチルメタクリレート(PMMA)ポリカーボネ
ート、エポキシ、ポリエーテルイミド、ポリサル
ホン、ポリビニルクロライド等がある。基板形状
は円板形状、テーブ形状、シート形状が適用でき
る。
用できるが、一般にはガラス、アルミニウム合
金、合成樹脂が望ましい。合成樹脂としてはポリ
メチルメタクリレート(PMMA)ポリカーボネ
ート、エポキシ、ポリエーテルイミド、ポリサル
ホン、ポリビニルクロライド等がある。基板形状
は円板形状、テーブ形状、シート形状が適用でき
る。
基板上に形成された記録層に半導体レーザ光を
レンズで収光して照射すると、照射部の記録層が
除去されて孔が形成される。この孔形成の機構は
明確ではないが、蒸発(昇華)をともなう融解凝
集に因ると考えられる。形成される孔の大きさ
は、レーザ光の収光径、レーザパワー、照射時間
に依存するが、大体0.2〜3μmであることが望ま
しい。このような孔形成に必要なレーザエネルギ
ーは小さなものであり、したがつて、短時間で孔
形成が可能である。具体的には、波長830nmの
AlGaAs半導体レーザ光をビーム径1.4μmに収光
した場合、記録層でのパワーは2〜13mW、照射
時間は50〜300nsecの範囲で孔を形成することが
できる。当然のことながら、上記パワーあるいは
照射時間の上限値以上の条件でも孔を形成するこ
とができるが、上記条件は望ましい使用条件であ
る。情報の記録は、2進情報を孔の有無に対応さ
せることによりなされる。通常円板状媒体を等速
回転させて、記録情報に合わせて孔を形成して情
報を記録する。なお、以上の場合において記録層
の厚さは0.01〜0.5μmで、好適には0.02〜0.2μm
である。このように記録された情報(孔)の読み
出しは、媒体からの反射光又は透過光の光量変化
を検出することによりなされる。一般に反射光を
検出する方法が採用される。これは、反射光検出
の方が光学系が簡単になるためである。即ち、一
つの光学系で投光と集光が可能であるためであ
る。読み出しはレーザ光を連続させて照射する。
その時の光量は媒体に何らの形状変化が起らない
弱いエネルギーに設定され、通常記録時の光量の
1/5〜1/10である。
レンズで収光して照射すると、照射部の記録層が
除去されて孔が形成される。この孔形成の機構は
明確ではないが、蒸発(昇華)をともなう融解凝
集に因ると考えられる。形成される孔の大きさ
は、レーザ光の収光径、レーザパワー、照射時間
に依存するが、大体0.2〜3μmであることが望ま
しい。このような孔形成に必要なレーザエネルギ
ーは小さなものであり、したがつて、短時間で孔
形成が可能である。具体的には、波長830nmの
AlGaAs半導体レーザ光をビーム径1.4μmに収光
した場合、記録層でのパワーは2〜13mW、照射
時間は50〜300nsecの範囲で孔を形成することが
できる。当然のことながら、上記パワーあるいは
照射時間の上限値以上の条件でも孔を形成するこ
とができるが、上記条件は望ましい使用条件であ
る。情報の記録は、2進情報を孔の有無に対応さ
せることによりなされる。通常円板状媒体を等速
回転させて、記録情報に合わせて孔を形成して情
報を記録する。なお、以上の場合において記録層
の厚さは0.01〜0.5μmで、好適には0.02〜0.2μm
である。このように記録された情報(孔)の読み
出しは、媒体からの反射光又は透過光の光量変化
を検出することによりなされる。一般に反射光を
検出する方法が採用される。これは、反射光検出
の方が光学系が簡単になるためである。即ち、一
つの光学系で投光と集光が可能であるためであ
る。読み出しはレーザ光を連続させて照射する。
その時の光量は媒体に何らの形状変化が起らない
弱いエネルギーに設定され、通常記録時の光量の
1/5〜1/10である。
記録再生時の光の入射方向として、媒体面側と
基板面側の2通りがある。本例の如き単層媒体で
は両方向の配置とも使用可能である。基板面側入
射では、媒体面上に付着した塵埃に影響されるこ
となく記録、再生が可能であり、より望ましい形
態である。なお、媒体が形成されている面の反対
側の基板面上に付着した塵埃及びその面のキズ等
の欠陥は、基板厚さが1mm以上であれば、その面
でのビーム径が充分大きいので記録、再生に悪影
響を与えることは少ない。
基板面側の2通りがある。本例の如き単層媒体で
は両方向の配置とも使用可能である。基板面側入
射では、媒体面上に付着した塵埃に影響されるこ
となく記録、再生が可能であり、より望ましい形
態である。なお、媒体が形成されている面の反対
側の基板面上に付着した塵埃及びその面のキズ等
の欠陥は、基板厚さが1mm以上であれば、その面
でのビーム径が充分大きいので記録、再生に悪影
響を与えることは少ない。
情報は孔列として記録される。孔列は一般に同
心円状又はスパイラル状の多数のトラツクを形成
する。再生する場合、光ビームは特定トラツクの
孔列上を精度良く追跡する必要がある。これを実
現する一つの手段として、回転機構の精度を空気
軸受などを使用して高めるという方法がある。し
かし、この場合は、回転系が複雑となり、又高価
となるので実用的ではない。より望ましいのは、
基板上に光の案内溝を設ける方法である。ビーム
径程度の溝に光が入射すると、光が回折される。
ビーム中心が溝からずれるにつれて回折光強度の
空間分布が異なり、これを検出して、ビームを溝
の中心に入射させるようにサーボ系を構成するこ
とができる。通常溝の幅は、0.4〜1.2μm、その
深さは使用する記録再生波長の1/8〜1/4の範囲に
設定される。したがつて記録層は溝付基板面上に
形成される。
心円状又はスパイラル状の多数のトラツクを形成
する。再生する場合、光ビームは特定トラツクの
孔列上を精度良く追跡する必要がある。これを実
現する一つの手段として、回転機構の精度を空気
軸受などを使用して高めるという方法がある。し
かし、この場合は、回転系が複雑となり、又高価
となるので実用的ではない。より望ましいのは、
基板上に光の案内溝を設ける方法である。ビーム
径程度の溝に光が入射すると、光が回折される。
ビーム中心が溝からずれるにつれて回折光強度の
空間分布が異なり、これを検出して、ビームを溝
の中心に入射させるようにサーボ系を構成するこ
とができる。通常溝の幅は、0.4〜1.2μm、その
深さは使用する記録再生波長の1/8〜1/4の範囲に
設定される。したがつて記録層は溝付基板面上に
形成される。
以下本発明の実施例について図面を参照して詳
細に説明する。
細に説明する。
実施例 1
2つの抵抗加熱ボートを有する蒸着装置の一方
のボートに5−アミノ−8−(p−エトキシアニ
リノ)−2,3−ジシアノ−1,4−ナフトキノ
ン色素を入れ、他方のボートに酸化バナジウムフ
タロシアニン色素を入れ、両ボートを独立に加熱
して上記ナフトキノン色素と上記フタロシアニン
色素とを基板に共に蒸着した。基板として直径
120mm、厚さ1.2mmのアクリル板を用い、10rpmで
回転させた。図はこのようにして得られた媒体の
断面を示している。アクリル基板10の上に混合
層20が記録層として設けられている。この混合
層の厚さは810Åであり、上記ナフトキノン色素
と上記フタロシアニン色素の混合比率は、単層膜
厚の比率でおよそ10対1である。この媒体の光学
特性を波長830nmで測定すると、基板入射の時、
反射率は18%、吸収率は54%であつた。波長
830nmの半導体レーザ光を光学系(図示せず)で
集光して媒体に矢印30の方向から照射した。レ
ーザ光の媒体面上でのパワーを10mWとし、記録
周波数2.5MHz、線速度13m/secの条件で記録を
行うと、混合層20の中に孔(ピツト)40が形
成された。このような記録は、媒体の表面側、即
ち矢印50の方向から光を入射しても同様に可能
であつた。記録したピツトを0.9mWの連続光で
再生すると53dBのC/Nが得られた。媒体の長期
保存性は次の方法で評価した。混合膜を1000倍の
光学顕微鏡で観察し、膜表面に発生する凝集粒の
有無を劣化の判定基準として、加速試験を行な
い、上記ナフトキノン色素のみの場合と比較した
ところ、混合層の方が劣化しにくかつた。寿命を
比較すると、前記ナフトキノン色素のみの場合、
約10年程度であつたものが本発明に係る混合層に
すると約20年以上の寿命が確認された。
のボートに5−アミノ−8−(p−エトキシアニ
リノ)−2,3−ジシアノ−1,4−ナフトキノ
ン色素を入れ、他方のボートに酸化バナジウムフ
タロシアニン色素を入れ、両ボートを独立に加熱
して上記ナフトキノン色素と上記フタロシアニン
色素とを基板に共に蒸着した。基板として直径
120mm、厚さ1.2mmのアクリル板を用い、10rpmで
回転させた。図はこのようにして得られた媒体の
断面を示している。アクリル基板10の上に混合
層20が記録層として設けられている。この混合
層の厚さは810Åであり、上記ナフトキノン色素
と上記フタロシアニン色素の混合比率は、単層膜
厚の比率でおよそ10対1である。この媒体の光学
特性を波長830nmで測定すると、基板入射の時、
反射率は18%、吸収率は54%であつた。波長
830nmの半導体レーザ光を光学系(図示せず)で
集光して媒体に矢印30の方向から照射した。レ
ーザ光の媒体面上でのパワーを10mWとし、記録
周波数2.5MHz、線速度13m/secの条件で記録を
行うと、混合層20の中に孔(ピツト)40が形
成された。このような記録は、媒体の表面側、即
ち矢印50の方向から光を入射しても同様に可能
であつた。記録したピツトを0.9mWの連続光で
再生すると53dBのC/Nが得られた。媒体の長期
保存性は次の方法で評価した。混合膜を1000倍の
光学顕微鏡で観察し、膜表面に発生する凝集粒の
有無を劣化の判定基準として、加速試験を行な
い、上記ナフトキノン色素のみの場合と比較した
ところ、混合層の方が劣化しにくかつた。寿命を
比較すると、前記ナフトキノン色素のみの場合、
約10年程度であつたものが本発明に係る混合層に
すると約20年以上の寿命が確認された。
(実施例 2)
実施例1と同様にして、5−アミノ−8−(p
−エトキシアニリノ)−2,3−ジシアノ−1,
4−ナフトキノン色素とMgF2との混合層を作製
した。膜厚は900Å、混合比率はおよそ10対1で
ある。実施例1と同様にして記録・再生したとこ
ろ、49dBのC/Nが得られ、保存性も良好であつ
た。また実施例1と同様の寿命が確認できた。
−エトキシアニリノ)−2,3−ジシアノ−1,
4−ナフトキノン色素とMgF2との混合層を作製
した。膜厚は900Å、混合比率はおよそ10対1で
ある。実施例1と同様にして記録・再生したとこ
ろ、49dBのC/Nが得られ、保存性も良好であつ
た。また実施例1と同様の寿命が確認できた。
実施例 3
実施例1と同様にして、5−アミノ−8−(p
−メトキシアニリノ)−2,3−ジシアノ−1,
4−ナフトキノン色素のコバルト錯体と銅フタロ
シアニン色素との混合層を作製した。膜厚は860
Å、混合比率はおよそ8対1である。実施例1と
同様にして記録・再生したところ、52dBのC/N
が得られ、保存性も良好であつた。次に実施例1
と同様の方法で寿命を調べたところ前記ナフトキ
ノン色素の錯体のみでは約25年であつたが本発明
の場合は30年以上の寿命が予測された。
−メトキシアニリノ)−2,3−ジシアノ−1,
4−ナフトキノン色素のコバルト錯体と銅フタロ
シアニン色素との混合層を作製した。膜厚は860
Å、混合比率はおよそ8対1である。実施例1と
同様にして記録・再生したところ、52dBのC/N
が得られ、保存性も良好であつた。次に実施例1
と同様の方法で寿命を調べたところ前記ナフトキ
ノン色素の錯体のみでは約25年であつたが本発明
の場合は30年以上の寿命が予測された。
(発明の効果)
上記実施例から明らかなように、本発明により
安定でかつ良好な記録特性の光学記録媒体が得ら
れる。
安定でかつ良好な記録特性の光学記録媒体が得ら
れる。
図は本発明による光学記録媒体の一実施例を示
す概略図であり、図において、10は基板、20
は混合層、30,50は光の入射方向、40は孔
を示す。
す概略図であり、図において、10は基板、20
は混合層、30,50は光の入射方向、40は孔
を示す。
Claims (1)
- 1 基板の片側または両端に記録層を設け、情報
をレーザ光線によつて記録しかつ読み取る光学記
録媒体において、5−アミノ−8−(置換アニリ
ノ)−2,3−ジシアノ−1,4−ナフトキノン
色素或いは5,8−(置換アニリノ)−2,3−ジ
シアノ−1,4−ナフトキノン色素或いはこれら
の金属錯体と、ポルフイン形化合物とを混合した
層を記録層とすることを特徴とする光学記録媒
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59016437A JPS60161192A (ja) | 1984-01-31 | 1984-01-31 | 光学記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59016437A JPS60161192A (ja) | 1984-01-31 | 1984-01-31 | 光学記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60161192A JPS60161192A (ja) | 1985-08-22 |
| JPH0549473B2 true JPH0549473B2 (ja) | 1993-07-26 |
Family
ID=11916204
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59016437A Granted JPS60161192A (ja) | 1984-01-31 | 1984-01-31 | 光学記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60161192A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63312889A (ja) * | 1987-06-17 | 1988-12-21 | Agency Of Ind Science & Technol | 光記録材料 |
-
1984
- 1984-01-31 JP JP59016437A patent/JPS60161192A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60161192A (ja) | 1985-08-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6052940A (ja) | 光学記録媒体 | |
| JPH0415115B2 (ja) | ||
| JP2662399B2 (ja) | 赤外吸収化合物及びそれを用いた光記録媒体 | |
| JPH0764992B2 (ja) | 含金属インドアニリン系化合物 | |
| EP0995612A1 (en) | Optical recording medium and method of producing the same | |
| JPH0549473B2 (ja) | ||
| JPH0549471B2 (ja) | ||
| WO2005000972A2 (en) | Optical recording materials having high storage density | |
| JP2514677B2 (ja) | 光学記録媒体 | |
| EP0623923A1 (en) | Optical recording medium | |
| JP2008520782A (ja) | 一置換スクアリン酸金属錯体色素および光データ記録のための光学層におけるこれらの使用 | |
| JPH0551471B2 (ja) | ||
| JPH11254827A (ja) | 情報記録方法およびその方法に使用する光記録媒体 | |
| JP2901477B2 (ja) | 光記録媒体 | |
| JP3732528B2 (ja) | 光吸収化合物及びそれを含有してなる光記録媒体 | |
| JPS60161195A (ja) | 情報書き込みおよび消去方式 | |
| JP2007063444A (ja) | 錯化合物及びこれを用いた光記録媒体 | |
| JPH0441672B2 (ja) | ||
| JPS60190388A (ja) | 光学記録媒体 | |
| JPS60150241A (ja) | 光学記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH0771869B2 (ja) | 光学記録媒体 | |
| JPH0558050A (ja) | フタロシアニン誘導体及び該誘導体を含有する光学記録体 | |
| JP2512075B2 (ja) | 光学記録媒体 | |
| JP2890407B2 (ja) | 光学記録媒体 | |
| JPS60150242A (ja) | 光学記録媒体およびその製造方法 |