JPH05508744A - 複数の孔を有する被処理製品をその湿式化学処理時、例えば電気メッキ時に運動させる方法並びに該方法を実施する装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 複数の孔を有する被処理製品をその湿式化学地理時、例えば電気メツキ時に運動 させる方法並びに該方法を実施する装置 ［技術分野］ 本発明は先ず第１に、請求の範囲の請求項１に上位概念として記載した形式の方 法に関するものである。

［背景技術］ 従来は、処理ステーション（処理浴）内に被処理製品が滞在している間に、処理 浴槽に沿ってガイドされたロッドによって製品支持体を介して被処理製品を製品 平面に対して垂直に２Ｘ１０〜２ｘ４０ｍｍのストローク長及び毎分当り約２０ ダブルストロークで往復運動させるようにして処理が施されていた。この「製品 運動」によって被処理製品、特にプリント配線板のようなプレート状製品の複数 の孔から残滓を洗浄除去し、かつ特に、化学処理に基づいて前記孔内で生成した 気泡を除去することが講じられてきた。

しかしながら前記公知の方法上の手段によっては往々にして不充分であり、かつ 、プレート肉厚（特にプリント配線板の肉厚）と孔径との比が８：１の値を上回 る（いわゆる縦横比が８＋１より大である）場合には特に不充分であることが判 った。

直流電源と接続されていて鋼層でコーティングされたプレートをその平面の方向 で上下運動させることは米国特許第４８７５９８２号明細書に基づいて公知であ る。しかしながら前記の運動は、プリント配線板の孔をサクションスリットの前 にもたらして、ポンプによって被処理製品の孔を通して電解液を通流させるため に役立つにすぎない。この公知の手段は従って、請求項１に記載した本発明の手 段及びその他の特徴、特に請求項８に記載した方法上の手段と、いかなる接触点 も有していない、また米国特許第３４６１０４５号明細書には、複数の穴を有す るワックスから成る鋳型の運動法が記載されており、該鋳型は電解液内で毎分当 り約５振動で往復運動を行なう、この振動は前記公知の製品運動に関するものに すぎないばかりでなく、先行技術として前に説明したものよりも更に低い周波数 を有している。従ってこの第２の公知文献に基づいても本発明は容易に推考する ことができない、ドイツ連邦共和国特許出願公開第３１９５３１３号明細書には 、電気メッキを施すべきプレートの表面に付着している気泡を遊離するための揺 振運動法が記載されている。しかしながらこの公知文献では、被処理プレートの 複数の孔の縦軸線の方向に揺振運動させることによって後述の本発明の意味合い で孔を通して電解液を適正に通流させるようにするための示唆は全く開示されて いない。

［発明の開示］ 本発明が解決しようとする第１の課題もしくは設定問題点は、請求項１に上位概 念として記載した形式の方法上の手段を改良して、孔から残滓及び気泡を除去す るためにはプレート肉厚と孔径の比が好ましくない場合（例えば縦横比８：１の 場合）でも特に、なお残存している残滓及び／又は気泡を確実に除去できるよう にすることである。この場合特に、ＨＡＲＢ　（高縦横比ボード）という略語で 公知になっているような、複数の孔を有するプリント配線板の処理が考慮されて いる。更に課題としては、孔内部における処理液の交替の改善が挙げられる。

請求項１に記載の上位概念を出発点とする本発明はまず前記課題を、請求項１に 特徴部分として記載した構成手段によって解決する。縦横比が８：ｌよりも大で あっても前記課題が被処理製品の揺振運動によって解決されるのは明らかである 。揺振周波数は少なくとも請求項１に記載した値を有していなければならない。

これに対比して揺振周波数は著しく高くてもよい０本発明の有利な実施態様では 揺振周波数は５０Ｈｚである。この揺振運動の振幅は比較的小さい、該振幅の大 きさは原則として最大２ｍｍであるが、場合によっては、もっと大きく、すなわ ち最大的３ｍｍであってもよい、この場合被処理製品の孔内では処理液の強力な 交替が行われる。電気−化学的な処理工程から生じた気泡は孔の通路から除去さ れる。揺振運動は被処理製品と、該製品を支持する部材とにのみ作用して、装置 の定置常設構成部分には作用しないようにするのが有利である。

本発明の作用効果を助成するために、請求項２乃至９に記載した１つ又は複数の 方法上の手段を組合せることが可能である。

請求項２に記載したように被処理製品を回動又は旋回することによって、該被処 理製品の孔の縦軸線と揺振運動方向との間の角度が変化される。この角度変化に よって孔からの気泡の除去が促進される。更に又これによって、相互間隔をおい て配置されたプレート状の被処理製品部分間における処理液の交替が促進され、 その結果孔内における処理液の交替も一層促進される。

前記の利点又は効果は、請求項３に記載した方法上の手段によっても得られる。

この場合傾斜位置は、所期の結果に応じて種々異なった角度で選ぶことができる 。

例えば孔の縦軸線がほぼ垂直に凰びていてほぼ該縦軸線の方向に揺振運動を発生 させる場合には、処理液内における気泡の浮力が最大限に活用され、これによっ て孔壁から気泡は特に容易に分離される。

請求項４に記載した手段も同様に、被処理製品の当該表面又は孔壁からの気泡の 剥離を容易にする。同等のことは請求項５及び６に記載した方法上の手段につい ても該当する。異なった周波数帯域を通過させることは、気泡の分離のために特 に有利と判った。

請求項８及び９に記載した方法上の手段は、本発明の新規な揺振運動と、背景技 術の説明において述べたそれ自体公知の例えば毎分当り２０ダブルストローク及 び例えば２ＸＩＱ〜２ｘ４０ｍｍの適当な振幅値の緩慢な往復運動（「製品運動 」）との組合せを含んでいる。

本発明が解決しようとする第２の課題又は設定問題点は、すでに述べた請求項１ 〜９に記載した方法を実施するための装置を提供することであり、しかも背景技 術の説明で述べた欠点を排除すると共に、本発明の揺振運動が処理装置の定置常 設部分、特に処理浴槽、に伝達するのを充分に回避することである。

請求項１Ｏに記載の上位概念を出発点とする本発明はまず前記課題を、請求項１ ０に特徴部分として記載した構成手段によって解決する。先に述べた方法に相応 して振動発生器の位置を規定することによって、該振動発生器の振動は殆ど専ら 被処理製品にだけ到達し、しかも処理装置の定置常設部分、特に処理浴槽、には 全く又は僅かしか伝達されない、請求ＪＪ！！１に記載した思想に相応して、振 動発生器によって惹起される振動の主たる方向は、被処理製品の孔の方向に延び 、すなわち振動発生器は被処理製品の取付は機構又は支持機構に対して、被処理 製品の孔の縦軸線の方向に振動するように配置される。この場合例えば処理ケー ジなどを用いて、すでに説明したように被処理製品を回動することにより、孔の 位置を絶えず変化させるような方法上の適当な手段を採用することによって、振 動方向を、孔の縦軸線に対して成る所定の角度を占めさせるようにすることも可 能である。後述の実施例の説明から一層明らかになるように、振動発生器は、製 品支持体と被処理製品との間の種々異なった部位に、例えば被処理製品部分を収 容する処理ケージの支持バー、支持架、製品支持レール及び被処理製品のその他 の保持部材又は支持部材に装着することができる。振動発生器の前記のすべての 装着態様にあっては、該振動発生器は、被処理製品の位置している構成部材に設 けられているので、該被処理製品に対して、振動を直接伝達する機械的な接点が 存在している。

［図面の簡単な説明］ 図１は一部断面して示した本発明の第１実施例の側面図である。

図２は図１の矢印ＩＩの方向に見て示した部分図である。

図３は図２の矢印ＩＩＩの方向に見て示した図である。

図４は図２の矢印Ｉｖの方向に見て示した平面図である。

図５は付加的な接点部材を有し製品支持体の降下前の状態で示したほぼ図２に相 当する部分図である。

図６は図５に示した製品支持体を降下させた後の状態で示した図である。

図７は本発明の第２実施例の側面図である。

図８はプリント配線板を傾斜姿勢で装着する手段を有する支持材又は支持架材と して構成された本発明の別の実施例を示す図である。

図９はプリント配線板を取外して示した図８の詳細斜視図である。

図１０は本発明の別の実施態様の概略的な平面図である。

図１１は本発明の更に異なった実施態様の概略的な正面図である。

Ｃ発明を実施するための最良の形態コ 次に図面に基づいて本発明の実施例を詳説する。

但し、著しく概略的に示した図面では本発明を説明する上で必要とする構成部分 だけが図示されているに過ぎず、本形式の湿式化学処理装置を稼働するために必 要なその他の公知の構成部分及び装置の図示は省がれている。

図１には処理ステーション２の処理浴槽ｌが図示されており、該処理浴槽を通っ て、被処理製品３（本例では複数の孔を有するプリント配線板）が搬送方向４に 通過させられる。前記孔の図示は作図上の理由がら省かれている。該孔の縦軸線 は符号５で示したように延びている。プリント配線板３の肉厚と孔径との比は、 殊に有利には８：ｌよりも大である。搬送・加工方向４で原則として複数の処理 ステーション２が順次相前後して配置されている。処理液（該処理液は洗浄液で ある場合もある）は符号６で略示されている。

ここに設けられている製品支持体７（図２乃至図４も参照のこと）は、製品支持 レール８と、該製品支持レールを保持する支持腕９とから成っている。該支持腕 ９の上部屈曲部９′には（図面では鎖線で示したにすぎない）リフト装置ｌＯが 係合し、該リフト装置は支持腕９のフォーク状端部９′を処理浴槽の所謂ガイド 部１１から離間させ、更に被処理製品を処理浴から引出し、次の処理ステーショ ンへ移送してそこで降下させる等々の働きを有している。被処理製品が地理浴内 に位置している間（図１乃至図５並びに図８及び図９参照）、符号１２で示した 振動発生器が作用する。

図１乃至図４に示した実施例では該振動発生器１２は、二重矢印１３で示した方 向の＃ｓ振運動を発生する。

この揺振方向は実質的に水平方向である。振動発生器１２は本実施例では製品支 持レール８に装着されている。また本実施例では図２及び図４から判るように複 数基の振動発生器、本例では２基の振動発生器１２が相互間隔をおいて各製品支 持レール８に設けられている。これによって各製品支持レール８の全長にわたっ て均等な揺振作用を得ることが可能である。必要とあらば、２基よりも多くの振 動発生器を製品支持レールに、場合によっては異なった相互間隔をおいて、かっ 又、製品】持し・−）＋−８の１ｉｌｉ端に対して適当に遥Ａ、だ間隔をおいて 配置して、振動を一緒に行なう製品支持レールにおいて所謂「振動の腹」及び［ 振動の節」が発生するのを避けるようにすることも可能であるや各製品支持レー ル８からｍ振運動は、略示したプリント配線板などのような被処理製品３をクラ ンプ１５などによって取付けている各支持架１４に伝達される。因みに振動発生 器１２の型式に応じて、二重矢印１３の方向に平行に延びる振動のみならず、ま た被処理製品にも伝達する振動を発生させることが可能である。

本発明によって発生される揺振運動が完全に又は少な（とも大体において処理装 置の定置常設部分には伝達されないようにするために、適正な手段が講じられて いる。これは例えば、二重矢印１３で示した揺振運動方向では著しく弾性的であ り、例えば特に図１から判るような薄肉横断面を有するように製品支持レール８ を構成することによって得られる。従って前記揺振運動方向に対して垂直に長辺 の延在するこの薄肉の横断面は揺振運動方向では容易にばね弾性的に撓むことが できる。これに基づいて製品支持レールの使用材料の弾性率と相俟って、振動発 生器１２の振動が専ら、又はほぼ専ら、製品支持レールへ伝達され、ひいては該 製品支持レールから、これによって保持された被処理製品へ伝達されることにな る。処理装置の定置常設部分から前記のように振動を遮断するための別の寅施態 様によれば、以下に詳説する棒材１７上に前記ガイド部１１を弾性支承部２７を 介して支承することも可能である。

振動発生器は、略示した電動モータ１６によって駆動されるのが殊に有利である 。電流の伝達は、図５及び図６に示した接点によって行なわれ、該接点は、フォ ーク状層部９′が各ガイド部１１の上に被さって係合する際に閉じられる。この ために製品支持体７は図５に矢印２７で示したように処理ステーション２内へ降 下される。製品支持体７の支持［９には上部接点部分２８が、また地理ステーシ ョン２には対応した下部接点部分２９が設けられている。前記の降下動作が終了 すると、すなわち被処理製品が処理浴６内に位置することになる図６に示した降 下終端位置に達すると直ちに、上下接点部分２８．２９は互いに接触する。鎖線 ３０で示したように、この場合、振動発生器の電動モータ１６へ電流が給電され ている。要するに接点の閉じ、ひいては振動発生器１２の始動は、被処理製品が 処理浴６内へ装入されると自動的に行なわれる。また処理浴から被処理製品が取 出されると前記接点はやはり自動的に再び開かれる。電動モータの代りに電磁式 振動発生器を採用する場合にも同様の接点装置を設けることが可能である。しか しながら振動発生は非電気式に２例えば圧縮空気によっても可能である。

更に又、それぞれ異なった強さの加速値を得かつ種々異なった方向に交互に作用 する振動発生器（図示せず）を設けることも可能である。例えば一方の方向では 電磁石が製品支持レール８を引き付けるのに対して、該電磁石が遮断されると、 ばねによって製品支持レールが再び戻され、次いで再び電磁石が作動される等々 である。両振動発生器を適当に調和させることによって、被処理製品の孔内にポ ンプ作用を発生させ、気泡を成る程度孔から押出すことが可能である。

振動発生器の不釣合体の大きさ及びその振動数は、その都度の事情もしくは要求 に適合される。すでに述べたように振動周波数を連続的又は非連続的に変化させ ることも可能であり、該振動周波数の変化は振動発生器のオン・オフの反復によ っても可能である。

被処理製品の毎分当り約２０ダブルストロークの極めて僅かな周波数による緩慢 な往復運動と相俟って揺振運動を行なわせようとする場合には（ＦＩＡ細書冒頭 の往復運動の説明も参照のこと）、このためにｌｌＩ整用棒材１７が設けられて おり、該棒材は、図示をは省いた装置によって前記のように二重矢印１３の方向 でその長手方向に、しかもも理浴槽１に対して相対的に、往復運動させられる。

該棒材１７にはガイドｇ１１が固定的に結合されているので、その運動を被処理 製品３に伝達する。

図７の実施例では支持腕９を有する製品支持レール８と支持バー１８が図示され ており、該支持バーは製品支持レール８に懸架されかつ支持体１９を介して、重 ね合わされたプレート状の被処理製品３を収容するための処理ケージ２０を保持 している。プレート状の処理製品例えばプリント配線板は、処理液がプレート間 を貫流できるようにするために成る所定の相互間隔を有している。振動発生器１ ２は運動装置１６と共に支持バー１８に装着されている。因みに図１乃至図４に おいて説明した構成及び変化態様を本実施例でも適宜採用することも可能である 。要するに前述の諸実施例の中の１つにおいて説明した構造、適用手段及び処理 手段を他の１つの実施例においても同じく設けることが原則として可能である。

前記のように本発明の高周波数ｍｍ運動と、棒材１７による前記揺振運動よりも 低い周波数の往復運動とを組合せる場合１両方の振動の重畳によって適当な効果 （高脚波）が生じる。

処理ケージ２０は１本の回転軸線、本例では水平方向に延びる回転軸線２１を中 心として一方又は両方の矢印２２．２３の方向に回動又は往復旋回可能である。

これによって得られるプレート状被迩埋製品３の運動は、この場合上として二重 矢印１３の方向に行なわれる振動発生器１２による揺振運動に重畳される。これ に基づいて個々のプレート間の間隙において処理液の強力な交替作用、ひいては 又、プレートの孔の強力な貫流洗浄と気泡の分離又は遊離が結果として生じる。

これは特に、前記の回動又は旋回によってプレートの孔が常時水平方向に延びる のではなくて、水平線に対して周期的に斜向したり垂直方向に延びたりすること によって達成される。

図８には、支持架１４のホルダー２５の、垂線に対して適当に斜向して延びるス ロット２４によって保持される被処理製品３（この場合もプレート）の可能傾斜 位置が図示されている。このためにプレートの両側縁が前記スロット２４内に差 込まれ、必要に応じてクランプねじなどによって確保される９図８、特に図９に 示した実施例から判るように、支持架１４の縦軸線に対して斜め方向に延びるス ロット２４．２４’及び２４′を有する互いに上下に位置する３つのホルダー２ ５が設けられており、かつ、前記の各スロットは、互いに同一の傾斜線上に整列 して１枚のプレート状被処理製品３の側縁を収容できるように各ホルダー２５で 互いにずらして設けられている９本例では被処理製品３としてのプレートは、垂 線に対して斜向して延びているが、これによって被洗浄孔の縦軸線も水平線に対 してそれ相応に傾斜するように配置されており、この場合プレート３は揺振運動 方向１３に対して垂直に配置されている。

図１０には、前記実施例とは異なってプレート状被処理製品３が揺振運動方向１ ３に対して鋭角αを形成する傾斜位置を占めるような変化態様が原理図で図示さ れている。この構成手段によって、プレート間の間隙２６における処理液の通流 、ひいては処理液の交替が容易になる。図８と図９に示した斜向位置及び図１０ に示した斜向位置を組合せて設けることも可能である。

図１１には、製品支持レール８に懸架された２つの支持架１４間に振動発生器１ ２を装着する方式の異なった態様が図示されている。振動発生器１２は、その主 振動が図１１の図平面に対して垂直な方向に延びるように構成されている。符号 ３はやはリブレート状の被処理製品を示している。

以上説明した図示のすべての構成手段は、公知として明記されていない限り、本 発明の思想の範囲内に属している。

たＬヱ ト（ ５と１ ＬＬ互 公ヨＬ ■しＵ 要　約　書 本発明はまず第１に、複数の孔を有する被処理製品をその湿式化学地理時に往復 運動させる方法に関するものである。特に製品肉厚と孔径との比が不都合な場合 でも孔内になお残存する残滓及び／又は気泡を除（ことができるようにするため に、本発明では、被処理製品（３）を少なくとも４〜５Ｈｚの周波数の振動で揺 振させ、振動方向を少なくとも部分的にかっ／又は一時的に孔の縦軸線（５）の 方向に延びるようにし、かつ揺振運動を被処理製品の支持部分に対してだけ、或 いは少なくとも主として該支持部分に対して及ぼすようにした０本発明は第２に 、複数の処理ステーションを順次相前後して設けた形式の前記方法の実施装置に 関し、この装置上の課題は、公知の構成の欠点を排除すると共に、このような処 理装置の定置常設部分に前記のような揺振運動が伝達するのを充分に回避するこ とである。このために本発明では、少なくとも４〜５Ｈｚの周波数の揺振運動を 発生する振動発生１１（１２）が搬送部材及び／又は支持部材に装着されており 、該部材によって、前記被処理製品がその搬送時、処理浴内への装入中及び想瑠 浴滞在中に保持されており、かつ、前記振動発生器と処理装置の定置常設部分と の間には、振動伝達を遮断し少なくとも充分に減衰する手段が設けられている。

国際調査報告 国際調査報告

Claims (30)

【特許請求の範囲】
1. １．複数の処理ステーションに沿って、複数の孔を有する被処理製品、特に板厚 と孔径との比＝８：１のプリント配線板をリフト状態で搬送し、各処理ステーシ ョンに滞在中に湿式化学処理、例えば電気メッキを施す際に前記被処理製品を往 復運動させる方法において、被処理製品（３）を少なくとも４〜５Ｈｚの周波数 の振動で揺振させ、振動方向を少なくとも部分的にかつ／又は一時的に孔の縦軸 線（５）の方向に延びるようにし、かつ揺振運動を被処理製品の支持部分に対し てだけ、或いは少なくとも主として該支持部分に対して及ぼすことを特徴とする 、湿式化学処理時に被処理製品を運動させる方法。
2. ２．処理浴（１）内での揺振運動中に複処理製品（３）を回動又は旋回させる、 請求項１記載の方法。
3. ３．揺振運動中に孔の縦軸線（５）が揺振運動方向（１３）に対して角度を成し て延びるような傾斜位置に彼処珪製品（３）を維持する、請求項１又は２記載の 方法。
4. ４．揺振運動中に被処理製品（３）に対して打繋又は突発的な衝繋を加える、請 求項１から３までのいずれか１項記載の方法。
5. ５．揺振運動の周波数を同一処理中に連続的又は非連続的に変化する、請求項１ から４までのいずれか１項記載の方法。
6. ６．同一処理中に揺振運動を複数回遮断しかつ再接続する、請求項５記載の方法 。
7. ７．揺振周波数が５０Ｈｚの回路周波数に等しい、請求項１から６までのいずれ か１項記載の方法。
8. ８．被処理製品に対する揺振運動以外に更に付加的に、揺振周波数よりも著しく 低い周波数、例えば毎分当リ２０ダブルストロークの周波数で被処理製品を往復 運動させ、しかも該低周波数の運動を揺振運動と同一の方向に経過させる、請求 項１から７までのいずれか１項記載の方法。
9. ９．高周波数の揺振運動の振幅が約０．５〜３．０ｍｍの範囲であり、かつ低周 波数の往復運動の振幅が２×１０〜２×４０ｍｍの範囲である、請求項８記載の 方法。
10. １０．それぞれ処理液又は洗浄液を収容するための複数の処理浴槽又は処理ステ ーションが処理搬送方向（４）で順次相前後して設けられており、かつ、被処理 製品（３）が製品支持体（７，８）によって各処理浴槽内へ装入され処理後ふた たび該処理浴槽から引出されて移送される形式の請求項１記載の方法を実施する 装置において、少なくとも４〜５Ｈｚの周波数の揺振運動を発生させる振動発生 器（１２）が搬送部材及び／又は支持部材に装着されており、該部材によって、 前記被処理製品がその搬送時、処理浴内への装入中及び処理溶滞在中に保持され ており、かつ、前記振動発生器と処理装置の定置常設部分との間には、振動伝達 を遮断し少なくとも充分に減衰する手段が設けられていることを特徴とする、実 施装置。
11. １１．少なくとも１つの振動発生器が製品支持体、特に製品支持レール（８）に 装着されている、請求項１０記載の装置。
12. １２．振動方向（１３）に小さな抵抗モーメントを有する、比較的薄肉横断面の 製品支持レールが設けられている、請求項１１記載の装置。
13. １３．単数又は複数の振動発生器を支持する支持部材と処理装置の定置常設部分 との間に弾性的な振動減衰器（２７）が設けられている、請求項１０から１２ま でのいずれか１項記載の装置。
14. １４．少なくとも２つの振動発生器（１２）が、相互間隔をおいて、製品支持レ ール（８）に装着されている、請求項１１から１３までのいずれか１項記載の装 置。
15. １５．単数又は複数の振動発生器が、一方では製品支持レール（８）によって保 持されていて他方では被処理製品（３）を支持している支持部材に装着されてい る、請求項１０から１４までのいずれか１項記載の装置。
16. １６．単数又は複数の振動発生器（１２）が単数又は複数の支持バー（１８）に 装着されている、請求項１５記載の装置。
17. １７．単数又は複数の振動発生器（１２）が支持架（１４）に装着されている、 請求項１５記載の装置。
18. １８．単数又は複数の振動発生器が、一方では製品支持レール（８）に係合し他 方では被処理製品（３）に係合しているクランプ部材に装着されている、請求項 １５記載の装置。
19. １９．各振動発生器（１２）が、その揺振運動の振幅を主として揺振運動方向（ １３）に経過させるように構成・配置されている、請求項１０から１８までのい ずれか１項記載の装置。
20. ２０．振動発生器が、その揺振周波数があらゆる方向の振幅を有するように構成 ・配置されている、請求項１０から１８までのいずれか１項記載の装置。
21. ２１．揺振運動の振幅が製品支持レール（１２）の全長にわたってほぼ等しく、 該製品支持レールにおいて揺振振幅の「振動の腹」及び「振動の範」が実質的に 避けられるように、複数の振動発生器が配置されている、請求項１０から２０ま でのいずれか１項記載の装置。
22. ２２．振動発生器（１２）が電気的に駆動される、請求項１０から２１までのい ずれか１項記載の装置。
23. ２３．単数又は複数の振動発生器（１２）の電気的駆動装置への給電のために、 製品支持腕（９，９′′）のための定置ガイド部（１１）にか又はその近くに、 並びに前記製品支持腕（９，９′′）に、それぞれ所属の給電線の接点（２８， ２９）が設けられており、前記製品支持腕（９，９′′）が前記の定置ガイド部 の上に載ると前記接点が閉じて前記振動発生器の電気的な駆動装置（１６）への 給電（３０）が行なわれる、請求項２２記載の装置。
24. ２４．単数又は複数の振動発生器（１２）の揺振周波数を変化するための周波数 変換器を設けた、請求項１０から２３までのいずれか１項記載の装置。
25. ２５．処理中に孔の縦軸線（５）が揺振運動方向（１３）に対して鋭角を成して 延びるように被処理製品（３）に傾斜位置をとらせる手段が設けられている、請 求項１０から２４までのいずれか１項記載の装置。
26. ２６．１枚のプレート状被処理製品（３）の側縁を収容して保持するために、互 いにずらして斜向配置されたスロット（２４，２４′，２４′′）を夫々有する 複数のホルダー（２５）が設けられている、請求項２５記載の装置。
27. ２７．被処理製品（３）が、支持部材（１８，１９）を介して製品支持レール（ ７）に懸架された処理ケージ（２０）内に位置している、請求項２５記載の装置 。
28. ２８．処理ケージ（２０）が１本の軸線、殊に有利には水平軸線（２１）を中心 として支持部材（１９）に回動可能又は旋回可能に支承され、前記処理ケージ（ ２０）の回動又は旋回運動を発生させる手段が設けられており、かつ前記処理ケ ージ内で被処理製品が落下を防止されている、請求項２７記載の装置。
29. ２９．彼処理製品（３）又はその保持部材に対して打繋又は衝繋を発生させる装 置、例えば空圧作動式ラム又はハンマが設けられている、請求項１０から２８ま でのいずれか１項記載の装置。
30. ３０．異なった強さの加速値の複数の振動発生器が設けられており、しかも被処 理製品に対しては、一方の加速値の振動発生器が順方向で作用し、また他方の加 速値の振動発生器が逆方向で作用するように設けられている、請求項１０から２ ９までのいずれか１項記載の装置。