JPH0556183B2 - - Google Patents
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- JPH0556183B2 JPH0556183B2 JP1302263A JP30226389A JPH0556183B2 JP H0556183 B2 JPH0556183 B2 JP H0556183B2 JP 1302263 A JP1302263 A JP 1302263A JP 30226389 A JP30226389 A JP 30226389A JP H0556183 B2 JPH0556183 B2 JP H0556183B2
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
- B01J8/24—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
- B01J8/44—Fluidisation grids
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2/00—Processes or devices for granulating materials, e.g. fertilisers in general; Rendering particulate materials free flowing in general, e.g. making them hydrophobic
- B01J2/16—Processes or devices for granulating materials, e.g. fertilisers in general; Rendering particulate materials free flowing in general, e.g. making them hydrophobic by suspending the powder material in a gas, e.g. in fluidised beds or as a falling curtain
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
- B01J8/24—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
- B01J8/38—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with fluidised bed containing a rotatable device or being subject to rotation or to a circulatory movement, i.e. leaving a vessel and subsequently re-entering it
- B01J8/384—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with fluidised bed containing a rotatable device or being subject to rotation or to a circulatory movement, i.e. leaving a vessel and subsequently re-entering it being subject to a circulatory movement only
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
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- Disintegrating Or Milling (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、粒状物質の製造および／または他の
処理を行うため、少なくともほぼ垂直方向の容器
軸線に関して少なくともほぼ回転対称の容器を具
え、この容器の内部を −底部から頂部にガス、特に乾燥空気が移動する
入口室と、 −前記入口室の上方に配置し、材料を流動させる
形状の渦巻室と、 −前記入口室と前記渦巻室との管の上向きガス流
にひねりを与えるリング状に配列した案内プレ
ートと、 −粒状化する材料を渦巻室に導入するノズルとに
より構成した流動床装置に関する。
処理を行うため、少なくともほぼ垂直方向の容器
軸線に関して少なくともほぼ回転対称の容器を具
え、この容器の内部を −底部から頂部にガス、特に乾燥空気が移動する
入口室と、 −前記入口室の上方に配置し、材料を流動させる
形状の渦巻室と、 −前記入口室と前記渦巻室との管の上向きガス流
にひねりを与えるリング状に配列した案内プレ
ートと、 −粒状化する材料を渦巻室に導入するノズルとに
より構成した流動床装置に関する。
既知のこの種の流動床装置（ヨーロツパ特許第
103894号）において、入口室を皿状体により形成
し、この皿状体により容器に垂直方向に配置した
浸漬管の下方部分を包囲している。この皿状体の
上方の円筒形内壁部分に案内プレートを取付け、
これら案内プレートを浸漬管まで半径方向内方に
突出させている。これら案内プレートの上方にお
いて、浸漬管にノズルを上方に指向および傾斜さ
せて取付け、容器に収容した材料を湿潤させた
り、ラツカー塗布したり、および／またはコーテ
イングしたりする液体を供給することができる。
103894号）において、入口室を皿状体により形成
し、この皿状体により容器に垂直方向に配置した
浸漬管の下方部分を包囲している。この皿状体の
上方の円筒形内壁部分に案内プレートを取付け、
これら案内プレートを浸漬管まで半径方向内方に
突出させている。これら案内プレートの上方にお
いて、浸漬管にノズルを上方に指向および傾斜さ
せて取付け、容器に収容した材料を湿潤させた
り、ラツカー塗布したり、および／またはコーテ
イングしたりする液体を供給することができる。
本発明の目的は、上述の装置を更に発展させ、
所定寸法の装置および単位時間当たりの所定ガス
流出量で、単位時間当たりの粒状物質および／ま
たは液状物質の量を多量に容器に噴射し、かつ容
器内に制御不能に材料が堆積したり、容認できな
いほど物質が付着することがないようにする流動
床装置を得るにある。
所定寸法の装置および単位時間当たりの所定ガス
流出量で、単位時間当たりの粒状物質および／ま
たは液状物質の量を多量に容器に噴射し、かつ容
器内に制御不能に材料が堆積したり、容認できな
いほど物質が付着することがないようにする流動
床装置を得るにある。
この目的を達成するため、本発明装置は、−前
記容器軸線の方向に見て案内プレートを互いにオ
ーバーラツプさせ、 −前記案内プレート間において槍状部材を前記容
器軸線に対して少なくともほほ半径方向に配置
し、各槍状部材に少なくとも１個のノズルをガス
の流れの方向に指向させて配置した ことを特徴とする。
記容器軸線の方向に見て案内プレートを互いにオ
ーバーラツプさせ、 −前記案内プレート間において槍状部材を前記容
器軸線に対して少なくともほほ半径方向に配置
し、各槍状部材に少なくとも１個のノズルをガス
の流れの方向に指向させて配置した ことを特徴とする。
案内プレートまたはバツフルプレートをオーバ
ーラツプさせたことにより、これらプレート管を
通過するガスは、個別のほぼ層流状のサブ流に分
割され、これらサブ流の方向は案内プレートの配
列により固定され、ほぼ正確に最適ノズル方向を
規定する。これらガスのサブ流の少なくとも若干
において、本発明による層状部材を配置し、これ
らサブ流にベンチユリ効果を与える。このこと
は、槍状部材の風下側において、部分的な真空状
態が生じ、この真空状態が、粒状物質および／ま
たは液状物質を渦巻室に均等に分散させるノルズ
の補助を行う。既に渦巻室に含まれているまたは
噴射された物質から形成されている流動材料は、
サブ流の強力ツイストにより完全にしかも穏やか
に攪拌混合される。この結果仕上げ処理材料は特
に均質になる。本発明流動床装置の詳細形態に基
づいて処理はバツチ処理または連続処理とするこ
とができる。
ーラツプさせたことにより、これらプレート管を
通過するガスは、個別のほぼ層流状のサブ流に分
割され、これらサブ流の方向は案内プレートの配
列により固定され、ほぼ正確に最適ノズル方向を
規定する。これらガスのサブ流の少なくとも若干
において、本発明による層状部材を配置し、これ
らサブ流にベンチユリ効果を与える。このこと
は、槍状部材の風下側において、部分的な真空状
態が生じ、この真空状態が、粒状物質および／ま
たは液状物質を渦巻室に均等に分散させるノルズ
の補助を行う。既に渦巻室に含まれているまたは
噴射された物質から形成されている流動材料は、
サブ流の強力ツイストにより完全にしかも穏やか
に攪拌混合される。この結果仕上げ処理材料は特
に均質になる。本発明流動床装置の詳細形態に基
づいて処理はバツチ処理または連続処理とするこ
とができる。
次に、図面につき本発明の好適な実施例を説明
する。
する。
図示のすべての実施例において、本発明装置の
目的は、粒状材料１０を崩れ易い物質および／ま
たは液状物質のできればスタータ核から製造し、
更に、このような材料を例えば、コーテイングの
ために処理することにある。この目的を達成する
ため容器１２を設け、この容器を、少なくともほ
ぼ垂直なコンテナ軸線Ａに対して少なくともほぼ
回転対称になるよう構成する。
目的は、粒状材料１０を崩れ易い物質および／ま
たは液状物質のできればスタータ核から製造し、
更に、このような材料を例えば、コーテイングの
ために処理することにある。この目的を達成する
ため容器１２を設け、この容器を、少なくともほ
ぼ垂直なコンテナ軸線Ａに対して少なくともほぼ
回転対称になるよう構成する。
第１および６図の実施例においては、容器１２
は円筒形の本体１４を有し、第３〜５図の実施例
においては、容器１２はほぼ球形の本体を有し、
上方球形セグメント１６と下方球形セグメント１
８とにより構成する。容器１２は環状の底部２０
を有する。第１〜５図の実施例においては、底部
は中心の垂直管２２に開口し、この垂直管２２を
垂直方向に調整自在のストツパ２４により完全に
または部分的に封鎖できるようにし、また逆に開
放して容器１２を空にすることもできるようにす
る。第１，２，６および７図の実施例において
は、容器１２の本体１４および底部２０は断熱材
２６を介在させた二重壁とする。
は円筒形の本体１４を有し、第３〜５図の実施例
においては、容器１２はほぼ球形の本体を有し、
上方球形セグメント１６と下方球形セグメント１
８とにより構成する。容器１２は環状の底部２０
を有する。第１〜５図の実施例においては、底部
は中心の垂直管２２に開口し、この垂直管２２を
垂直方向に調整自在のストツパ２４により完全に
または部分的に封鎖できるようにし、また逆に開
放して容器１２を空にすることもできるようにす
る。第１，２，６および７図の実施例において
は、容器１２の本体１４および底部２０は断熱材
２６を介在させた二重壁とする。
図示のすべての実施例において、容器の底部２
０は入口２８を有し、この入口から比較的乾燥し
た加熱処理空気を入口室３０に接線方向に導入す
る。代案として第１および２図の実施例におい
て、第３〜５図の実施例と同様に、ストツパ２４
を僅かに上昇させたとき必要な処理空気を中心の
管２２から入口室３０に導入することもできる。
０は入口２８を有し、この入口から比較的乾燥し
た加熱処理空気を入口室３０に接線方向に導入す
る。代案として第１および２図の実施例におい
て、第３〜５図の実施例と同様に、ストツパ２４
を僅かに上昇させたとき必要な処理空気を中心の
管２２から入口室３０に導入することもできる。
入口室３０は、プロペラ状のしかし、回転しな
いリング状に配列した案内プレート３４により容
器１２の上方の渦巻室３２から分離する。図示の
各実施例において、12個の案内プレート３４を設
け、第５図によれば、各案内プレートを容器軸線
Ａに対して半径方向に延びる回動軸線Ｂの周りに
回動調整できるようにする。案内プレート作用位
置において、第１および３図の案内プレート３４
は容器軸線Ａに対して約75゜の角度の傾斜を有す
る。隣接の案内プレートは、第２および４図に示
すように互いにオーバーラツプする。案内プレー
ト３４が容器軸線Ａに対してより少ない角度例え
ば、65゜傾斜させても隣接の案内プレート間にオ
ーバーラツプを生ずる。
いリング状に配列した案内プレート３４により容
器１２の上方の渦巻室３２から分離する。図示の
各実施例において、12個の案内プレート３４を設
け、第５図によれば、各案内プレートを容器軸線
Ａに対して半径方向に延びる回動軸線Ｂの周りに
回動調整できるようにする。案内プレート作用位
置において、第１および３図の案内プレート３４
は容器軸線Ａに対して約75゜の角度の傾斜を有す
る。隣接の案内プレートは、第２および４図に示
すように互いにオーバーラツプする。案内プレー
ト３４が容器軸線Ａに対してより少ない角度例え
ば、65゜傾斜させても隣接の案内プレート間にオ
ーバーラツプを生ずる。
すべての案内プレート３４は回動軸線Ｂの周り
に回動して、第５図に示す休止位置をとることが
でき、この休止位置では容器軸線Ａに対して約
90゜傾斜し、互いにほぼ封鎖接触する。この休止
位置において、例えば、スタータ各を渦巻室３２
に導入し、材料１０が入口室３０に落下すること
がほぼなく材料１０を形成することができる。
に回動して、第５図に示す休止位置をとることが
でき、この休止位置では容器軸線Ａに対して約
90゜傾斜し、互いにほぼ封鎖接触する。この休止
位置において、例えば、スタータ各を渦巻室３２
に導入し、材料１０が入口室３０に落下すること
がほぼなく材料１０を形成することができる。
作用位置において、案内プレート３４相互間に
おいて、異なる幅の通路３６，３８を生ずる。第
２または４図の平面図のうちの一方において、ほ
ぼ時計の腕の12時の位置からスタートし、１時の
位置を回つたあたりまで延在する案内プレート３
４を第１案内プレートと規定すると、第１案内プ
レートと第２プレートとの間および第２プレート
と第３プレートとの間に狭い通路３６を形成し、
第３プレートと第４プレートとの間に広い通路３
８を形成する。この順次の配列をすべての４個の
象限で繰り返し、図示の12個の案内プレート３４
で８個の狭い通路３６と４個の広い通路３８を設
ける。
おいて、異なる幅の通路３６，３８を生ずる。第
２または４図の平面図のうちの一方において、ほ
ぼ時計の腕の12時の位置からスタートし、１時の
位置を回つたあたりまで延在する案内プレート３
４を第１案内プレートと規定すると、第１案内プ
レートと第２プレートとの間および第２プレート
と第３プレートとの間に狭い通路３６を形成し、
第３プレートと第４プレートとの間に広い通路３
８を形成する。この順次の配列をすべての４個の
象限で繰り返し、図示の12個の案内プレート３４
で８個の狭い通路３６と４個の広い通路３８を設
ける。
各広い通路３８において、槍状部材４０を配置
し、この部材４０は容器軸線Ａに対して半径方向
に延びる縦方向軸線Ｃを有し、この縦方向軸線の
周りに回転調整できるようにする。図示の実施例
において、４個の槍状部材４０の各々は、ほぼ船
体の横断面のような流線形をなし、この槍状部材
が位置する通路３８を相当狭ばめ、この通路３８
を狭ばめる度合は槍状部材の下側よりも上側の方
を大きくする。従つて、各広い通路３８を通過す
る処理空気は、主に下側を通過し、槍状部材の上
側はほんの少ししか通過しない。
し、この部材４０は容器軸線Ａに対して半径方向
に延びる縦方向軸線Ｃを有し、この縦方向軸線の
周りに回転調整できるようにする。図示の実施例
において、４個の槍状部材４０の各々は、ほぼ船
体の横断面のような流線形をなし、この槍状部材
が位置する通路３８を相当狭ばめ、この通路３８
を狭ばめる度合は槍状部材の下側よりも上側の方
を大きくする。従つて、各広い通路３８を通過す
る処理空気は、主に下側を通過し、槍状部材の上
側はほんの少ししか通過しない。
第１乃至５図の実施例においては、槍状部材４
０を本体１４または底部２０に設けた孔から外側
から内側に半径方向に挿入する。各槍状部材４０
には、複数個の、図示の実施例では２個のノズル
４２を設け、これらノズルを、隣接案内プレート
３４間を通過する処理空気の流れの方向にほぼ沿
うよう上向きにする。案内プレート３４の回動位
置に基づいて、各槍状部材４０は案内プレート３
４により動作がカバーされ、上方からは部分的に
しか見えない。これに対し、ノズル４２は案内プ
レートにカバーされず自由であるため、処理空気
の流れが所要のものよりも弱い場合でもノズルの
上方の案内プレート３４に吹きつけることはな
い。
０を本体１４または底部２０に設けた孔から外側
から内側に半径方向に挿入する。各槍状部材４０
には、複数個の、図示の実施例では２個のノズル
４２を設け、これらノズルを、隣接案内プレート
３４間を通過する処理空気の流れの方向にほぼ沿
うよう上向きにする。案内プレート３４の回動位
置に基づいて、各槍状部材４０は案内プレート３
４により動作がカバーされ、上方からは部分的に
しか見えない。これに対し、ノズル４２は案内プ
レートにカバーされず自由であるため、処理空気
の流れが所要のものよりも弱い場合でもノズルの
上方の案内プレート３４に吹きつけることはな
い。
図示の実施例において、ノズル４２は２材料ノ
ズルとし、噴射空気で霧状にした液体を噴霧す
る。従つて、各槍状部材４０は、縦方向軸線Ｃに
平行であり、可撓管４６を介してまた第１乃至５
図の実施例においては管状通路４８を介して液体
源に接続した液体通路４４を有する。管状通路４
８は底部リング５０に形成し、この底部リングは
底部２０に下方から押し付けて封鎖する。更に、
各槍状部材４０には、やはり縦方向軸線Ｃに平行
な噴霧空気通路５２を設け、この通路５２を可撓
管５４を介してまた第１乃至５図の実施例におい
ては、底部リング５０の管状の第２通路５６を介
して圧縮空気源に接続する。
ズルとし、噴射空気で霧状にした液体を噴霧す
る。従つて、各槍状部材４０は、縦方向軸線Ｃに
平行であり、可撓管４６を介してまた第１乃至５
図の実施例においては管状通路４８を介して液体
源に接続した液体通路４４を有する。管状通路４
８は底部リング５０に形成し、この底部リングは
底部２０に下方から押し付けて封鎖する。更に、
各槍状部材４０には、やはり縦方向軸線Ｃに平行
な噴霧空気通路５２を設け、この通路５２を可撓
管５４を介してまた第１乃至５図の実施例におい
ては、底部リング５０の管状の第２通路５６を介
して圧縮空気源に接続する。
第１乃至５図の実施例においては、各槍状部材
４０は円形フランジ５８を有し、このフランジを
容器１２の外部に配置したクランプ装置６０によ
り槍状部材４０の選択した回転角度位置で容器に
クランプする。フランジ５８には、スケールを設
けて或る回転角度をセツトしやすくし、このこと
は槍状部材４０によつて有利なことである。クラ
ンプ装置６０は回動自在にし、槍状部材４０を容
器１２から半径方向外方に引き出すことができる
ようにする。槍状部材４０を引き出すと、案内プ
レートを第５図に示す休止位置に回動するとき自
由空間が得られる。
４０は円形フランジ５８を有し、このフランジを
容器１２の外部に配置したクランプ装置６０によ
り槍状部材４０の選択した回転角度位置で容器に
クランプする。フランジ５８には、スケールを設
けて或る回転角度をセツトしやすくし、このこと
は槍状部材４０によつて有利なことである。クラ
ンプ装置６０は回動自在にし、槍状部材４０を容
器１２から半径方向外方に引き出すことができる
ようにする。槍状部材４０を引き出すと、案内プ
レートを第５図に示す休止位置に回動するとき自
由空間が得られる。
第１，２，６および７図の実施例において、渦
巻室３２内には、上方に頂点が指向する円錐形の
移動体６２を容器１２に同軸状に配置する。
巻室３２内には、上方に頂点が指向する円錐形の
移動体６２を容器１２に同軸状に配置する。
第３乃至５図の実施例においては、やはり移動
体を設けるが、容器の上方から同軸状に容器１２
に挿入する浸漬管６４とし、この浸漬管６４をス
トツパ２４の近傍まで突出させる。この実施例の
処理空気は浸漬管６４から導入し、ストツパ２４
の湾曲した上面により入口室３０に向かつて上方
に転向する。
体を設けるが、容器の上方から同軸状に容器１２
に挿入する浸漬管６４とし、この浸漬管６４をス
トツパ２４の近傍まで突出させる。この実施例の
処理空気は浸漬管６４から導入し、ストツパ２４
の湾曲した上面により入口室３０に向かつて上方
に転向する。
第６および７図の実施例において、案内プレー
ト３４および槍状部材４０は中心容器インサート
６６に取付ける。この容器インサート６６は垂直
方向下方に延在し、容器の底部２０の案内プシユ
６８に案内して上下動できる管とする。この調整
移動のため、軸線に平行なピストン−シリンダユ
ニツト７０を設け、このユニツト７０を容器底部
２０に懸垂し、またユニツト７０に支持リング７
２を担持し、この支持リング７２に容器インサー
ト６６を支持する。容器インサート６６は更に、
接線方向のピストン−シリンダユニツト７４によ
つて支持リング７２に連結して回転自在する。２
個のピストン−シリンダユニツト７０，７４を同
期作動させることにより、容器インサート６６は
螺旋状に移動し、第６図の実線で示す作動位置ま
たは点線で示す休止位置を選択的にとることがで
きる。休止位置では、本体１４は、案内プレート
３４およびノズル４２になんら損傷を与えずに取
り外すことができる。作動位置では、本体１４は
容器１２のベース２０に対して膨張可能シール７
８によりシールすることができる。
ト３４および槍状部材４０は中心容器インサート
６６に取付ける。この容器インサート６６は垂直
方向下方に延在し、容器の底部２０の案内プシユ
６８に案内して上下動できる管とする。この調整
移動のため、軸線に平行なピストン−シリンダユ
ニツト７０を設け、このユニツト７０を容器底部
２０に懸垂し、またユニツト７０に支持リング７
２を担持し、この支持リング７２に容器インサー
ト６６を支持する。容器インサート６６は更に、
接線方向のピストン−シリンダユニツト７４によ
つて支持リング７２に連結して回転自在する。２
個のピストン−シリンダユニツト７０，７４を同
期作動させることにより、容器インサート６６は
螺旋状に移動し、第６図の実線で示す作動位置ま
たは点線で示す休止位置を選択的にとることがで
きる。休止位置では、本体１４は、案内プレート
３４およびノズル４２になんら損傷を与えずに取
り外すことができる。作動位置では、本体１４は
容器１２のベース２０に対して膨張可能シール７
８によりシールすることができる。
図示しないが、第３および６図の特徴を組み合
わせた変更実施例も可能であり、この場合、中心
容器インサート６６に浸漬管６４を設け、この浸
漬管６４を介して加熱空気または他のガスを上方
から入口室３０に導入することができる。
わせた変更実施例も可能であり、この場合、中心
容器インサート６６に浸漬管６４を設け、この浸
漬管６４を介して加熱空気または他のガスを上方
から入口室３０に導入することができる。
第１図は、本発明の装置の第１実施例の作動状
態の縦断面図、第２図は、第１図の−線上の
横断面図、第３図は、本発明装置の第２の実施例
の作動状態の縦断面図、第４図は、第３の−
線上の横断面図、第５図は、第３図の装置の休止
状態を示す部分縦断面図、第６図は、本発明装置
の第３の実施例の縦断面図、第７図は、第６図の
−線上の横断面図である。 １０……粒状材料、１２……容器、１４……本
体、１６……上方球形セグメント、１８……下方
球形セグメント、２０……底部、２２……垂直
管、２４……ストツパ、２６……断熱材、２８…
…入口、３０……入口室、３２……渦巻室、３４
……案内プレート、３６，３８……通路、４０…
…槍状部材、４２……ノズル、４４……流体通
路、４６，５４……可撓管、４８……管状通路、
５０……底部リング、５２……噴霧空気通路、５
６……第２通路、５８……円形フランジ、６０…
…クランプ装置、６２……移動体、６４……浸漬
管、６６……容器インサート、６８……案内ブシ
ユ、７０，７４……ピストン−シリンダユニツ
ト、７２……支持リング、７８……膨張可能シー
ル。
態の縦断面図、第２図は、第１図の−線上の
横断面図、第３図は、本発明装置の第２の実施例
の作動状態の縦断面図、第４図は、第３の−
線上の横断面図、第５図は、第３図の装置の休止
状態を示す部分縦断面図、第６図は、本発明装置
の第３の実施例の縦断面図、第７図は、第６図の
−線上の横断面図である。 １０……粒状材料、１２……容器、１４……本
体、１６……上方球形セグメント、１８……下方
球形セグメント、２０……底部、２２……垂直
管、２４……ストツパ、２６……断熱材、２８…
…入口、３０……入口室、３２……渦巻室、３４
……案内プレート、３６，３８……通路、４０…
…槍状部材、４２……ノズル、４４……流体通
路、４６，５４……可撓管、４８……管状通路、
５０……底部リング、５２……噴霧空気通路、５
６……第２通路、５８……円形フランジ、６０…
…クランプ装置、６２……移動体、６４……浸漬
管、６６……容器インサート、６８……案内ブシ
ユ、７０，７４……ピストン−シリンダユニツ
ト、７２……支持リング、７８……膨張可能シー
ル。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 粒状物質１０の製造および／または他の処理
を行うため、少なくともほぼ垂直方向の容器軸線
Ａに関して少なくともほぼ回転対称の容器１２を
具え、この容器１２の内部を −底部から頂部にガス、特に乾燥空気が移動する
入口室３０と、 −前記入口室３０の上方に配置し、材料１０を流
動させる形状の渦巻室３２と、 −前記入口室３０と渦巻室３２との管に上向きガ
ス流にひねりを与えるリング状に配列した案内
プレート３４と、 −粒状化を行う材料を渦巻室３２に導入するノズ
ル４２と により構成した流動床装置において、 −前記容器軸線Ａの方向に見て案内プレート３４
を互いにオーバーラツプさせ、 −前記案内プレート３４間において槍状部材４０
を前記容器軸線Ａに対して少なくともほほ半径
方向に配置し、各槍状部材４０に少なくとも１
個のノズル４２をガスの流れの方向に指向させ
て配置した ことを特徴とする流動床装置。 ２ 容器軸線Ａの方向に上方から見た各槍状部材
４０は、この槍状部材の上方に位置する案内プレ
ート３４により部分的にカバーされる構成とした
請求項１記載の流動床装置。 ３ 各案内プレート３４を、半径方向回動軸線Ｂ
の周りに作動位置から渦巻室３２を入口室３０か
ら分離する休止位置に回動自在にした請求項１ま
たは２記載の流動床装置。 ４ 案内プレート３４を、作動位置では容器軸部
線Ａに対して65゜から85゜の範囲の角度だけ傾斜さ
せた請求項３記載の流動床装置。 ５ 槍状部材４０を、この槍状鵜材の縦方向軸線
Ｃの周りに回転調整可能に構成した請求項１乃至
４のうちのいずれか一項に記載の流動床装置。 ６ 前記槍状部材４０を共通のポツト状容器底部
２０に取付けた請求項１乃至５のうちのいずれか
一項に記載の流動床装置。 ７ 前記槍状部材４０を、容器１２に同軸状に配
置しかつ入口室３０にガスを導入する浸漬管６４
の少なくとも近傍まで突出させた請求項６記載の
流動床装置。 ８ 前記槍状部材４０および案内プレート３４を
中心容器インサート６６に取付けた請求項１乃至
７のうちのいずれか一項に記載の流動床装置。 ９ 入口室３０にガスを導入する浸漬管６４を前
記中心容器インサート６６に設けた請求項８記載
の流動床装置。 １０ 前記ノズル４２を多物質ノズルとした請求
項１乃至９のうちのいずれか一項に記載の流動床
装置。
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|---|---|---|---|
| DE3839723.4 | 1988-11-24 | ||
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03128A JPH03128A (ja) | 1991-01-07 |
| JPH0556183B2 true JPH0556183B2 (ja) | 1993-08-18 |
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| EP (1) | EP0370167B1 (ja) |
| JP (1) | JPH03128A (ja) |
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| DK (1) | DK175441B1 (ja) |
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