JPH0556571B2 - - Google Patents

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JPH0556571B2
JPH0556571B2 JP59122367A JP12236784A JPH0556571B2 JP H0556571 B2 JPH0556571 B2 JP H0556571B2 JP 59122367 A JP59122367 A JP 59122367A JP 12236784 A JP12236784 A JP 12236784A JP H0556571 B2 JPH0556571 B2 JP H0556571B2
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JP
Japan
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sin
groove
order
light
optical
Prior art date
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Application number
JP59122367A
Other languages
English (en)
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JPS61945A (ja
Inventor
Seiji Nishiwaki
Yoshikazu Goto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP59122367A priority Critical patent/JPS61945A/ja
Publication of JPS61945A publication Critical patent/JPS61945A/ja
Publication of JPH0556571B2 publication Critical patent/JPH0556571B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/24Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B33/00Constructional parts, details or accessories not provided for in the other groups of this subclass
    • G11B33/10Indicating arrangements; Warning arrangements
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optical Recording Or Reproduction (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は光デイスクの溝形状を測定する装置に
関するものである。 従来例の構成とその問題点 高密度大容量の情報記録として期待されている
光デイスクには、記録・再生時のトラツキングを
容易にするため、あらかじめ光デイスク記録面に
トラツキング用の溝を設けている。その断面形状
はトラツキング信号、再生信号と強い関係をもつ
ており、高品質の光デイスクを得るうえで、光デ
イスクの溝形状を正確に測定する方法及び装置の
開発が望まれている。以下に従来の光デイスク溝
形状測定装置について説明する。第1図は従来の
光デイスク溝形状測定装置のレーザー照射部を示
す説明図である。He−Neレーザーより発光され
た波長λの光ビームはその波面法線の光デイスク
トラツク溝直交断面上の方向成分が光デイスク記
録面法線2との角度をなしてデイスク表面3に
入射し、その反射光は記録面上の溝により0次光
4、1次光5、2次光6等に回折される。第2図
は従来の光デイスク溝形状測定装置のレーザー受
光部を示す説明図である。平行光はトラツク溝直
交断面上での入射角でデイスク表面7に入射
し、屈折率nの基材部8を経て溝幅a、溝深d、
溝ピツチbの矩形波形状の溝をもつ光デイスク記
録面9により反射し、その反射回折光は再び基材
部8を経て、光デイスク表面7より出射する。そ
の0次、1次、2次の回折光軸上にそれぞれ集光
レンズ10,11,12を配設し、その焦点位置
付近にそれぞれ光電素子13,14,15を配置
する。以上のように構成された従来の光デイスク
溝形状測定装置について、以下その測定原理につ
いて説明する。第2図に示すようなトラツク溝直
交断面とデイスク表面7の交線をu軸とし、トラ
ツク溝直交断面とデイスク記録面9との交線をx
軸とする。デイスク表面入射前での入射光の振幅
分布g1(u)=〓(u/c)e-j2/usin入射直後から
デイ スク記録面に至るまでの入射光の振幅分布g2(x)は
次式で与えられる。 g2(u)=〓(u/c)e-j2/usin /n デイスク記録面9での反射光の振幅分布g3(x)は
次式で与えられる。 g3(x)=〓(x/c)e-j2/xsin /n〔1/b{〓
(x/a)*〓(x/b)}+1/b{〓(x−b/2
/b−a) *〓(x/b)}e-j4nd/〓〕 この反射光のデイスク表面7出射直後の振幅分
布g4(u)は次式で与えられる。 g4(u)=〓(u/c)e-j2/usin〔1/b{〓(
u/a)*〓(u/b)}+1/b{〓(u−b/2/
b−a)*〓(u/b)}e-j4nd/〓〕 このデイスク表面出射後の反射光のフラウンホ
ーフア領域での振幅分布G(f)は次式で与えられ
る。 G(f)=K1F〔g4(u)〕f=sio/〓 ……(1) ここにK1は比例定数、Fはフーリエ変換記号、
θはデイスク表面法線からの見込み角である。式
(1)を計算し G(f) =K1〔ac{sinc(of)〓(bf)}*sinc(cf) +c(b−a)e-j4nd/〓{e-jbfsinc(b −a)f〓(bf)}*sinc(cf)〕f=sio+sio /〓 c≫bの時には G(f) ≒K1C〔{〓(bf)*sinc(cf)}{asinc(af) +(b−a)e-j(4nd/)+bf) sinc(b−a)f〕f=sio+sio /〓 以下簡単のため、ε=a/b δ=2πnd/λ
とおく。f=0、−1/b、−2/bの時、G(f)はピ
ーク 値をとり、それぞれ0次、1次、2次の回折光の
振幅値を与える。0次、1次、2次の回折光強度
をI0、I1、I2とすると、 I0=K2|G(O)|2=K2 1K2b2c2{ε2+2ε
(1−ε)cos2δ+(1−ε)2} I1=K2|G(1/b)|2=K2/1K22b2c2
π2sin2πε・(1−cos2δ) I2=K2|(G2/b)|2=K2 1K2b2/2π2
sin22πε・(1−cos2δ) よつて I1/I0=2sin2πε・(1−cos2δ)/π2{1−2ε
(1−ε)(1−cos2δ)} ……(2) I2/I1=cos2πε ……(3) またデイスク表面法線と0次回折光4の波面法
線のなす角θ0は0=sinθ0+sin/λよりθ0=−
で ある。よつて、1次回折光5の波面法線と0次回
折光4の波面法線のなす角をθ01とすると −1/b=sin(+θ01)+sin/λ となる。 b=λ/sin(θ01+)−sin ……(4) I0、I1、I2のパワー値を光電素子13,14,
15で検出し、1次回折光と0次回折光のなす角
θ01を光電素子13,14の位置関係により測定
することで、I1/I0、I2/I1、θ01等は測定出来る。
よつて(2)、(3)、(4)の関係式を連立させることによ
り、溝幅a、溝深d、溝ピツチbは測定できる。
しかしながら、上記の構成では溝端の傾斜部すな
わち溝のだれを含んだ台形状の溝を測定すること
が出来ない。 発明の目的 本発明は上記従来の問題点を解消するもので、
溝端に傾斜すなわち溝のだれを含んだ台形状の溝
形状を測定することのできる光デイスク溝形状測
定装置を提供することを目的とする。 発明の構成 本発明は屈折率nの基材におおわれた、溝幅
a、溝深d、溝ピツチb、溝端での傾斜部の幅e
の台形状の溝をもつ光デイスク記録面に波長λの
平行光を照射し、平行光の波面法線の光デイスク
トラツク溝直交断面上の方向成分が光デイスク記
録面法線との角度をなし、平行光の0次、1
次、2次及びm次の反射もしくは回折光の光軸上
に光電素子を配設させて、それぞれの光強度I0
I1、I2、Inを検出し、素子間の位置関係により0
次と1次の反射もしくは透過回折光の光軸のなす
角θを検出し、a/b=ε、(b−a−2e)/b
=ε、2πnd/λ=δとして、 b=λ/{sin(θ+)−sin} I1/I0=sin2πε−2sinπεsinπ
εcos2δ+sin2πε/π2(ε2+2εεcos2δ+ε2 I2/I0=sin22πε+2sin2πεsin2
πεcos2δ+sin22πε/4π2(ε2+2εεcos2δ+ε2
In/I0=sin2mπε+2(−1)msi
nmπεsinmπεcos2δ+sin2mπε/mπ2(ε2+2εεc
os2δ+ε2) の4式を連立して溝形状を測定することのできる
ものである。 実施例の説明 第3図は本発明の実施例における光デイスク溝
形状測定装置のレーザー受光部を示す説明図であ
る。平行光はトラツク溝直交断面上での入射角
でデイスク表面7に入射し、屈折率nの基材部8
を経て、溝幅a、溝深d、溝ピツチb、溝端での
傾斜部の幅eの台形状の溝をもつ光デイスク記録
面9′により反射し、その反射回折光は再び基材
部8を経て光デイスク表面7より出射する。その
0次、1次、2次及びm次の回折光軸上にそれぞ
れ集光レンズ10,11,12,11′を配設し、
その焦点位置付近にそれぞれ光電素子13,1
4,15,14′を設置する。以上のように構成
された本実施例の光デイスク溝形状測定装置につ
いて、以下その測定原理について説明する。 第3図に示すように、トラツク溝直交断面とデ
イスク表面7の交線をu軸とし、トラツク溝直交
断面とデイスク記録面9′との交線をx軸とする。
デイスク表面入射前での入射光の振幅分布q1
(u)、入射直後からデイスク記録面に至るまでの
入射光の振幅分布g2(x)は前述のとうりである。デ
イスク記録面9′での反射光の振幅成分g′3(x)は次
式で与えられる。 g3(x)=〓(x/c)e-j2/xsin /n〔1/b{〓
(x/a)*〓(x/b)}+1/b{〓(x−b/2
/b−a−2e) ej2/n(xtan2a-2d)}*〓(x/b)〕 この反射光のデイスク表面7出射直後の振幅分
布g4′(u)は次式で与えられる。 g4′(u)=〓(u/c)e-j2/usin〔1/b{〓
(u/a)*〓(u/b)}+1/b{〓(n−b/2
/b−a−ze) e-j2/n(utan2a-2d)}*〓(u/b) このデイスク表面出射後の反射光のフラウンホ
ーフア領域での振幅分布G(f)は次式で与えられ
る。 G′(f)=K1F〔g′4(u)〕 ……(5) 式(5)を計算し、 G(f) =K1〔ac{sinc(af)〓(bf)}*sinc(cf) +c(b−a−2e)e-j4nd/〓{e-jbf sinc(b−a−ze)f〓(bf)} *sinc(cf)〕f=sio+sio /〓 ただしf0=nsin2d λ c≫bの時には G′(f) ≒K1C〔{〓(bf)*sinc(cf)}{asinc(af) +(b−a−2e)e-j(4nd/)+bf)sinc(b−a −2e)(f−f0)f〕f=sio+sio /〓 以下簡単のため、ε=a/bε=(b−a−
2e)/b、δ=2πnd/λとおく。f=0、−1/b、 −2/b、m/bの時G(f)はピーク値をとり、それぞ
れ 0次、1次、2次の回折光の振幅値を与える。0
次、1次、2次及びm次の回折光強度をI0、I1
I2、Inとすると、I0、I1、I2、Inは次式は次式で与
えられる。 I0=|G′(O)|2=K21K2b2c2 {ε2+2εcos2δ+2} I1=|G′(−1/b)|2=K2/1K22b2c2/π2 (sin2πε−2sinπεsinπεcos2δ+sin2πε) I2=|G′(−2/b|2=K2 1K2b2c2/4π2 (sin22πε+2sin2πεsin2πcos2δ +sin22π) In=|G′(−n/b|2=K2 1K2b2c2/m2π2 (sin2mπε+2(−1)msinmπεsinmπcos2δ+
sin2mπ) よつて以下の(6)、(7)、(8)式が基まる。 I1/I0=sin2πε−2sinπεsinπεcos2δ
+sin2πε/π2(ε2+2εεcos2δ+ε2)……(6) I2/I0=sin22πε+2sin2πεsin2πεcos2
δ+sin22πε/4π2(ε2+2εεcos2δ+ε2)……(7
) In/I0=sin2mπε+2(−1)msinmπεsi
n2πεcos2δ+sin2mπε/m2π2(ε2+2εεcos2δ+
ε2)……(8) また溝幅bは0次と1次の回折光波面法線のな
す角θ01を使つて、前述の(4)式で与えられる。 I0、I1、I2、Inのパワー値を光電素子13,1
4,15,14′で検出し、0次回折光と1次回
折のなす角θ01を光電素子13,14の位置関係
により測定することで、I1/I0、I2/I0、In/I0
θ01等は測定出来る。よつて(2)、(3)、(4)、(6)の関
係式を連立させることにより台形状の溝寸法であ
る溝幅a、溝深d、溝ピツチb、溝端での傾斜部
の幅eの測定が出来る。 以上のように、本実施例によれば0次、1次、
2次及びm次の反射回折光の光軸上に光電素子を
配設させて、それぞれの光強度を測定し、0次と
1次の回折光光軸のなす角を検出することによ
り、光デイスク記録面の溝幅、溝深、溝ピツチ、
及び溝端の傾斜部の幅を測定することのできるも
のである。なお上記実施例では反射回折光の検出
による測定方法を説明したが、透過回折光の検出
によつても同様の測定が可能である。さらに、デ
イスクに照射する平行光がトラツク溝断面に傾斜
して入射する光であつても溝形状を測定する算出
式に変化はない。 発明の効果 本発明の光デイスク溝形状測定装置は、0次、
1次、2次及びm次の反射もしくは透過回折光の
軸上に光電素子を配設させて、それぞれの光強度
を測定し、0次と1次の回折光の光軸のなす角を
検出することにより、台形状の溝形状をなす光デ
イスク記録面の溝幅、溝深、溝ピツチ、及び溝端
の傾斜部の幅を測定を実現するものであり、その
実用的効果は大きい。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の光デイスク溝形状測定装置のレ
ーザー照射部を示す図、第2図は従来の光デイス
ク溝形状測定装置のレーザー受光部を示す図、第
3図は本発明の実施例における光デイスク溝形状
測定装置のレーザー受光部を示す図である。 7……光デイスク表面、8……基材部、9,
9′……記録面、10,11,11′,12……集
光レンズ、13,14,14′,15……光電素
子。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 屈折率nの基材におおわれた、溝幅a、溝深
    d、溝ピツチb、溝端での傾斜部の幅eの台形状
    の溝をもつ光デイスク記録面に波長λの平行光を
    照射し、前記平行光の波面法線の光デイスクトラ
    ツク溝直交断面上の方向成分が前記光デイスク記
    録面法線との角度をなし、前記平行光の0次、
    1次、2波及びm次の反射もしくは回折光の光軸
    上に光電素子を配設させて、それぞれの光強度
    I0、I1、I2、Inを検出し、前記素子間の位置関係
    により前記0次と1次の反射もしくは透過回折光
    の光軸のなす角θを検出し、a/b=ε、(b−
    a−2e)/b=、2πnd/λ=δとして b=λ/{sin(θ+)−sin} I1/I0=sin2πε−2sinπεsinπεcos
    2δ+sin2π/π2(ε2+2εεcos2δ+ε2 I2/I0=sin22πε+2sin2πεsin2πε
    cos2δ+sin22πε/4π2(ε2+2εεcos2δ+ε2 In/I0=sin2mπε+2(−1)msinmπ
    εsinmπεcos2δ+sin2mπε/m2π2(ε2+2εεcos2
    δ+ε2) の4式を連立して溝形状を測定することを特徴と
    する光デイスク溝形状測定装置。
JP59122367A 1984-06-14 1984-06-14 光デイスク溝形状測定装置 Granted JPS61945A (ja)

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JPS61945A JPS61945A (ja) 1986-01-06
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0261511A (ja) * 1988-08-29 1990-03-01 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 周期性表面構造の測定装置
CA2132270A1 (en) * 1993-10-28 1995-04-29 Erich Lerch Automatic pipetting apparatus having a cleaning device

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JPS61945A (ja) 1986-01-06

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