JPH0557656B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0557656B2 JPH0557656B2 JP62012085A JP1208587A JPH0557656B2 JP H0557656 B2 JPH0557656 B2 JP H0557656B2 JP 62012085 A JP62012085 A JP 62012085A JP 1208587 A JP1208587 A JP 1208587A JP H0557656 B2 JPH0557656 B2 JP H0557656B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoresist
- diffraction grating
- optical recording
- pattern
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
本発明は読み出し専用の光学的記録媒体の製造
方法に関するものである。
方法に関するものである。
（従来技術）
光学的記録は磁気的記録と比較して記録媒体と
再生ヘツドが非接触であり、且つ高密度な記録が
可能であるなどの利点がある。この光学的記録媒
体としては読みだし専用のものと追加書き込み可
能なもの、消去再書き込み可能なものが知られて
おり、本発明にかかる読みだし専用の光学的記録
媒体としてはまず既に実用化されたコンパクトデ
イスク（CD）や光学式のビデオデイスク等が挙
げられる。これらの光学的記録媒体で採用されて
いる方式は媒体中に形成された凹凸構造に情報が
記録され、情報の記録密度を挙げるため記録ピツ
ト（凹部又は凸部の最小単位）は1μｍ前後の大
きさにし、かつレーザ等の光源を用いて再生光を
該ピツトと同程度の大きさにし、かつレーザ等の
光源を用いて再生光を該ピツトと同程度の大きさ
に絞つて情報を読み出すことが行われているが、
読みだし光のビームが微少なことは再生の為にオ
ートフオーカス、オートトラツキングのための技
術、更に高価なレーザ光線を使わねばならないと
いう問題が生じる。
再生ヘツドが非接触であり、且つ高密度な記録が
可能であるなどの利点がある。この光学的記録媒
体としては読みだし専用のものと追加書き込み可
能なもの、消去再書き込み可能なものが知られて
おり、本発明にかかる読みだし専用の光学的記録
媒体としてはまず既に実用化されたコンパクトデ
イスク（CD）や光学式のビデオデイスク等が挙
げられる。これらの光学的記録媒体で採用されて
いる方式は媒体中に形成された凹凸構造に情報が
記録され、情報の記録密度を挙げるため記録ピツ
ト（凹部又は凸部の最小単位）は1μｍ前後の大
きさにし、かつレーザ等の光源を用いて再生光を
該ピツトと同程度の大きさにし、かつレーザ等の
光源を用いて再生光を該ピツトと同程度の大きさ
に絞つて情報を読み出すことが行われているが、
読みだし光のビームが微少なことは再生の為にオ
ートフオーカス、オートトラツキングのための技
術、更に高価なレーザ光線を使わねばならないと
いう問題が生じる。
一方、他の方式の光学的記録媒体として光学的
に高い反射率を有する部分と低い部分とをそれぞ
れ別の材料によつて構成し、この濃淡パターンを
形成しデジタル情報を記録する光学的記録媒体が
知られている。この方式による濃淡パターンの形
成方法は例えば特開昭60−66346号公報に開示さ
れているように、基板上に光学的低反射層と光学
的高反射層をこの順に積層し、表面にフオトレジ
ストを塗布し、そこへ微細な濃淡パターンをもつ
マスクを介して露光し、その後フオトレジストを
現像してレジストパターンを形成させ、しかる後
レジストパターンを利用してパターン状にエツチ
ングを行つて光学的高反射層を除去させ光学的低
反射層を露出せしめることにより行つている。こ
の方式は高価なレーザ光線を使用しなくてもよい
が、上述の様に製造工程の数が多く、各工程も容
易に行えるものではない。
に高い反射率を有する部分と低い部分とをそれぞ
れ別の材料によつて構成し、この濃淡パターンを
形成しデジタル情報を記録する光学的記録媒体が
知られている。この方式による濃淡パターンの形
成方法は例えば特開昭60−66346号公報に開示さ
れているように、基板上に光学的低反射層と光学
的高反射層をこの順に積層し、表面にフオトレジ
ストを塗布し、そこへ微細な濃淡パターンをもつ
マスクを介して露光し、その後フオトレジストを
現像してレジストパターンを形成させ、しかる後
レジストパターンを利用してパターン状にエツチ
ングを行つて光学的高反射層を除去させ光学的低
反射層を露出せしめることにより行つている。こ
の方式は高価なレーザ光線を使用しなくてもよい
が、上述の様に製造工程の数が多く、各工程も容
易に行えるものではない。
レーザ光線を使用しない別方式として情報の最
小単位である記録ピツトを回折格子で構成する光
学的記録媒体が考えられるが、数十μｍオーダー
の回折格子部と平滑部を選択し、回折格子部に回
折格子を形成させるのは容易なことではない。
小単位である記録ピツトを回折格子で構成する光
学的記録媒体が考えられるが、数十μｍオーダー
の回折格子部と平滑部を選択し、回折格子部に回
折格子を形成させるのは容易なことではない。
（発明の目的）
本発明は上記従来技術の問題点に鑑みなされた
ものであり、読み取り用の高価なレーザ光線を使
用せずに、しかも簡便な方法により大量複製を行
うことができる読み出し専用の光学的記録媒体の
製造方法を提供することにある。
ものであり、読み取り用の高価なレーザ光線を使
用せずに、しかも簡便な方法により大量複製を行
うことができる読み出し専用の光学的記録媒体の
製造方法を提供することにある。
（発明の概要）
本発明は基材上にフオトレジストを塗布し、形
成されたフオトレジスト層に微細な濃淡パターン
状に情報が記録されているマスクを用いて露光を
行ない、次いでレーザ光線を用いてホログラフイ
ツクな露光を行ない、その後フオトレジストを現
像させる。得られた記録パターンからスタンパを
起こし、このスタンパにより微細なパターン状に
回折格子が設けられた光学的記録媒体を複製させ
る光学的記録媒体の製造方法である。
成されたフオトレジスト層に微細な濃淡パターン
状に情報が記録されているマスクを用いて露光を
行ない、次いでレーザ光線を用いてホログラフイ
ツクな露光を行ない、その後フオトレジストを現
像させる。得られた記録パターンからスタンパを
起こし、このスタンパにより微細なパターン状に
回折格子が設けられた光学的記録媒体を複製させ
る光学的記録媒体の製造方法である。
（発明の詳述）
以下、本発明を図面に基づき詳細に説明する。
第１図から第５図までは記録パターンスタンパ
母型製造の段階を順に示したもので、第１図は光
学記録材料１の構成を説明するもので基材２上に
フオトレジスト層３が積層されている。フオトレ
ジストはポジ型が使用可能であり、塗布がむらな
く容易に行なえ、しかも高解像力で露光の際の微
細な情報記録パターンを充分に解像しうるものを
選び使用する。このようなフオトレジストの例と
しては、Shpley社製のAZ−1350、東京応化(株)社
製のOFPR−２、OFPR−5000などその他多数挙
げられる。基材２は用途に適した特性、例えば表
面の平滑性、耐性、などを有し、後工程、フオト
レジストの現像やスタンパ成形工程において劣化
や変形などの影響を受けないものを選び使用す
る。
母型製造の段階を順に示したもので、第１図は光
学記録材料１の構成を説明するもので基材２上に
フオトレジスト層３が積層されている。フオトレ
ジストはポジ型が使用可能であり、塗布がむらな
く容易に行なえ、しかも高解像力で露光の際の微
細な情報記録パターンを充分に解像しうるものを
選び使用する。このようなフオトレジストの例と
しては、Shpley社製のAZ−1350、東京応化(株)社
製のOFPR−２、OFPR−5000などその他多数挙
げられる。基材２は用途に適した特性、例えば表
面の平滑性、耐性、などを有し、後工程、フオト
レジストの現像やスタンパ成形工程において劣化
や変形などの影響を受けないものを選び使用す
る。
微細な濃淡パターン状に情報が記録されている
マスク４を介してフオトレジスト層３を露光させ
（第２図）、次いでレーザ露光装置を用いてフオト
レジスト層３にホログラフイツクな露光を行ない
回折格子の潜像を形成させる（第３図）。使用す
るレーザ光源としてはアルゴンレーザ（458n
ｍ）、ヘリウム−カドミニウムレーザ（442nｍ）、
などが挙げられる。単位長さ当りの回折格子の溝
数はレーザの波長とレーザ露光装置の設定条件を
定めることにより任意に制御することができる。
さらに溝の形状が鋸歯状化された回折格子（ブレ
ーズド型回折格子）もレーザ露光装置の設定条件
により形成することができる。またレーザ光によ
り直接回折格子を形成するため精度の高い回折格
子が得られる。
マスク４を介してフオトレジスト層３を露光させ
（第２図）、次いでレーザ露光装置を用いてフオト
レジスト層３にホログラフイツクな露光を行ない
回折格子の潜像を形成させる（第３図）。使用す
るレーザ光源としてはアルゴンレーザ（458n
ｍ）、ヘリウム−カドミニウムレーザ（442nｍ）、
などが挙げられる。単位長さ当りの回折格子の溝
数はレーザの波長とレーザ露光装置の設定条件を
定めることにより任意に制御することができる。
さらに溝の形状が鋸歯状化された回折格子（ブレ
ーズド型回折格子）もレーザ露光装置の設定条件
により形成することができる。またレーザ光によ
り直接回折格子を形成するため精度の高い回折格
子が得られる。
その後、まずフオトレジストを現像し、回折格
子が形成されたレジストパターンを形成させ（第
４図）、次にフオトレジスト層３及び基材２の表
面に金属層５を形成させる（第５図）。金属層５
は後工程の第４図の形態（母型）のスタンパを起
こす技術方法（例えば電鋳法）を適用する際に不
都合でない金属を選び、それを真空蒸着又はスパ
ツタリングを行なうことで形成される。それがさ
らに光学的に高い反射率を有する金属の場合に
は、この状態に読み出し光を照射すると再生も可
能となり記録状態の確認を行なうことができる。
金属層５の例としてはAu、Ag、Cr、Cuなどが
挙げられる。電鋳法などの技術により得られた母
型からスタンパを起こし、そして得られたスタン
パ６により光学的記録媒体の大量複製を行なう
（第６図）。複製方法としては射出成形法、圧縮成
形法、紫外線硬化樹脂を使つた方法などが挙げら
れるが、複製品が良質で効率よく製造できる方法
を選んでから行なう。複製された基材７の表面に
は光学的に高い反射率を有する金属を選び、真空
蒸着又はスパツタリングにより金属層８を形成さ
せ、その上部には光学的に透明な材料９で保護層
を形成させる（第７図）。この場合読み取り光は
材料９の側から照射するが、逆に基材７を光学的
に透明な性質をも備えた材料を使い基材７の側か
ら読み出し光を照射する方式も可能である。ま
た、その表面に光学的に高い反射率を有する金属
薄膜を設けた熱可塑性樹脂にスタンパ６で圧縮成
形を行ない光学的記録情報を転写させる方法も可
能である。このようにして得られた光学的記録媒
体において、回折格子の形状が正弦波形でその深
さが0.16μｍの場合、He−Neレーザー（632.8n
ｍ）を入射角0°で照射した時の回折効率は33％で
あり、反射率は平滑部１００に対し回折格子部３
４となり約60％のコントラストが確認される。読
み取り光は前記レーザー光に限定されるものでは
なく、例えば発光ダイオード等、特別な光源を選
ばずとも読み取りを可能とするものを提供するも
のである。
子が形成されたレジストパターンを形成させ（第
４図）、次にフオトレジスト層３及び基材２の表
面に金属層５を形成させる（第５図）。金属層５
は後工程の第４図の形態（母型）のスタンパを起
こす技術方法（例えば電鋳法）を適用する際に不
都合でない金属を選び、それを真空蒸着又はスパ
ツタリングを行なうことで形成される。それがさ
らに光学的に高い反射率を有する金属の場合に
は、この状態に読み出し光を照射すると再生も可
能となり記録状態の確認を行なうことができる。
金属層５の例としてはAu、Ag、Cr、Cuなどが
挙げられる。電鋳法などの技術により得られた母
型からスタンパを起こし、そして得られたスタン
パ６により光学的記録媒体の大量複製を行なう
（第６図）。複製方法としては射出成形法、圧縮成
形法、紫外線硬化樹脂を使つた方法などが挙げら
れるが、複製品が良質で効率よく製造できる方法
を選んでから行なう。複製された基材７の表面に
は光学的に高い反射率を有する金属を選び、真空
蒸着又はスパツタリングにより金属層８を形成さ
せ、その上部には光学的に透明な材料９で保護層
を形成させる（第７図）。この場合読み取り光は
材料９の側から照射するが、逆に基材７を光学的
に透明な性質をも備えた材料を使い基材７の側か
ら読み出し光を照射する方式も可能である。ま
た、その表面に光学的に高い反射率を有する金属
薄膜を設けた熱可塑性樹脂にスタンパ６で圧縮成
形を行ない光学的記録情報を転写させる方法も可
能である。このようにして得られた光学的記録媒
体において、回折格子の形状が正弦波形でその深
さが0.16μｍの場合、He−Neレーザー（632.8n
ｍ）を入射角0°で照射した時の回折効率は33％で
あり、反射率は平滑部１００に対し回折格子部３
４となり約60％のコントラストが確認される。読
み取り光は前記レーザー光に限定されるものでは
なく、例えば発光ダイオード等、特別な光源を選
ばずとも読み取りを可能とするものを提供するも
のである。
この光学的記録媒体の製造方法は、格子部と平
滑部を選択的に形成が行なえ、しかも大量複製も
効率よく行なうことができる。
滑部を選択的に形成が行なえ、しかも大量複製も
効率よく行なうことができる。
（実施例）
以下本発明を実施例により説明するが、本発明
は実施例だけに限定されるものではない。
は実施例だけに限定されるものではない。
縦６〜７cm、横５〜６cmの表面が平滑なガラス
板上にフオトレジスト（AZ−1350）をスピナー
塗布し、乾燥後（90℃）、微細なパターンを有す
るマスクを介して露光を行ない、次いでArレー
ザー（458nｍ）を用いてホログラフイツクな露
光により回折格子の潜像を形成させ、その後フオ
トレジストを現像し、レジストパターンを形成
し、しかる後得られたレジストパターン上に金蒸
着を行ない導電性薄膜を形成した後これをスルフ
アミン酸ニツケル浴を用いたニツケル電鋳でニツ
ケルスタンパを作成し、厚さ0.5mmのポリ塩化ビ
ニルシート上にニツケルスタンパの形状を圧縮成
形で転写させ、得られた転写表面にアルミニウム
蒸着を行ない、回折格子の設けられている部分と
設けられていない部分、つまり平滑な部分とを顕
微鏡で観察したところ両者がはつきりと区別さ
れ、また発光ダイオードを読み取り光として
CCDラインセンサーで読み取つたところ実用に
充分なＳ／Ｎ比が得られた。
板上にフオトレジスト（AZ−1350）をスピナー
塗布し、乾燥後（90℃）、微細なパターンを有す
るマスクを介して露光を行ない、次いでArレー
ザー（458nｍ）を用いてホログラフイツクな露
光により回折格子の潜像を形成させ、その後フオ
トレジストを現像し、レジストパターンを形成
し、しかる後得られたレジストパターン上に金蒸
着を行ない導電性薄膜を形成した後これをスルフ
アミン酸ニツケル浴を用いたニツケル電鋳でニツ
ケルスタンパを作成し、厚さ0.5mmのポリ塩化ビ
ニルシート上にニツケルスタンパの形状を圧縮成
形で転写させ、得られた転写表面にアルミニウム
蒸着を行ない、回折格子の設けられている部分と
設けられていない部分、つまり平滑な部分とを顕
微鏡で観察したところ両者がはつきりと区別さ
れ、また発光ダイオードを読み取り光として
CCDラインセンサーで読み取つたところ実用に
充分なＳ／Ｎ比が得られた。
（本発明の効果）
本発明により回折格子部と平滑部を選択的に形
成が行なえ、しかもレーザ光学装置の組み換え方
により精度の高い種々の回折格子の形成も可能と
なり、しかも効率よく光学的記録媒体の大量複製
も行なうことができる。
成が行なえ、しかもレーザ光学装置の組み換え方
により精度の高い種々の回折格子の形成も可能と
なり、しかも効率よく光学的記録媒体の大量複製
も行なうことができる。
第１図から第７図は本発明の各工程に於ける断
面図の拡大図である。 １：光学的記録材料、２：基材、３：フオトレ
ジスト層、４：マスク、５：金属層、６：スタン
パ、７：複製された基材、８：金属層、９：光学
的に透明な材料。
面図の拡大図である。 １：光学的記録材料、２：基材、３：フオトレ
ジスト層、４：マスク、５：金属層、６：スタン
パ、７：複製された基材、８：金属層、９：光学
的に透明な材料。
Claims (1)
- １ 光学的に高い反射率を有する材料で凹凸パタ
ーンが形成され該凹凸パターンの凹部又は凸部の
少なくとも一方に回折格子が形成されている光学
的記録媒体の製造方法に於て、基材上にフオトレ
ジストを塗布し、形成されたフオトレジスト層に
微細な濃淡パターン状に情報が記録されたマスク
を用いて露光を行い、次いでレーザ光線を用いて
ホログラフイツクな露光をさせ回折格子の潜像を
形成し、その後フオトレジストを現像し、得られ
た記録パターンのスタンパを起こし、該スタンパ
により微細なパターン状に回折格子が設けられた
光学的記録媒体を複製することを特徴とする光学
的記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62012085A JPS63181142A (ja) | 1987-01-21 | 1987-01-21 | 光学的記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62012085A JPS63181142A (ja) | 1987-01-21 | 1987-01-21 | 光学的記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63181142A JPS63181142A (ja) | 1988-07-26 |
| JPH0557656B2 true JPH0557656B2 (ja) | 1993-08-24 |
Family
ID=11795744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62012085A Granted JPS63181142A (ja) | 1987-01-21 | 1987-01-21 | 光学的記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63181142A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0291833A (ja) * | 1988-09-27 | 1990-03-30 | Toppan Printing Co Ltd | 光学的記録媒体及びその製造方法 |
| JP4495722B2 (ja) * | 2003-04-22 | 2010-07-07 | オーファオデー キネグラム アーゲー | ミクロ構造の作成方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5652282B2 (ja) * | 1974-01-16 | 1981-12-11 | ||
| US4108367A (en) * | 1977-02-25 | 1978-08-22 | Rca Corporation | Token and reader for vending machines |
| JPS5850073A (ja) * | 1981-09-19 | 1983-03-24 | Anritsu Corp | ホログラムカ−ド読取り装置 |
| JPS5886503A (ja) * | 1981-11-18 | 1983-05-24 | Dainippon Printing Co Ltd | パタ−ン状回折格子の製造方法 |
| JPS58200275A (ja) * | 1982-05-18 | 1983-11-21 | Dainippon Printing Co Ltd | パタ−ン状フレネルホログラムの製造方法 |
| JPS6066346A (ja) * | 1983-09-21 | 1985-04-16 | Dainippon Printing Co Ltd | 情報記録体の製造方法 |
| JPS60168279A (ja) * | 1984-02-13 | 1985-08-31 | Sanyo Electric Co Ltd | 情報検出方法 |
-
1987
- 1987-01-21 JP JP62012085A patent/JPS63181142A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63181142A (ja) | 1988-07-26 |
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