JPH0559537A - 蒸着装置 - Google Patents
蒸着装置Info
- Publication number
- JPH0559537A JPH0559537A JP22190791A JP22190791A JPH0559537A JP H0559537 A JPH0559537 A JP H0559537A JP 22190791 A JP22190791 A JP 22190791A JP 22190791 A JP22190791 A JP 22190791A JP H0559537 A JPH0559537 A JP H0559537A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shutter
- vapor deposition
- support
- magnetic metal
- heating element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】シャッターに発熱体を設けることにより、常
に、斜方蒸着の精度を一定に保つことを可能にし、しか
も、シャッターには蒸着されないため、清掃が不必要
な、または、必要でも清掃が簡単にすむ蒸着装置を提供
する。 【構成】ルツボ25に磁性金属２を溶融する蒸着源と磁性
金属が蒸着される支持体１との間に、蒸着物である磁性
金属の入射角を規制するためのシャッター11が配されて
いて、このシャッターに発熱体12を設けることを特徴と
する。
に、斜方蒸着の精度を一定に保つことを可能にし、しか
も、シャッターには蒸着されないため、清掃が不必要
な、または、必要でも清掃が簡単にすむ蒸着装置を提供
する。 【構成】ルツボ25に磁性金属２を溶融する蒸着源と磁性
金属が蒸着される支持体１との間に、蒸着物である磁性
金属の入射角を規制するためのシャッター11が配されて
いて、このシャッターに発熱体12を設けることを特徴と
する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、蒸着装置に関し、更
に詳しくは蒸着により磁気テープの支持体に磁性層を形
成する装置に関する。
に詳しくは蒸着により磁気テープの支持体に磁性層を形
成する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図２に従来の蒸着装置の説明図を、図３
に従来の蒸着装置の要部拡大図を示す。図２において、
従来の蒸着装置は、テープ状の支持体１が巻回されてい
て、この支持体１を送り出す、送り出し側の巻枠21と、
支持体１に磁性層を蒸着するために、この支持体１をＵ
字状に巻回するキャン22と、磁性層が蒸着された支持体
１を巻き戻す、巻き戻し側の巻枠23と、電子銃24と、ル
ツボ25と、シャッター26とからなる。ルツボ25には磁性
金属２が溶融している。磁性金属２を有するルツボ25が
蒸着源となる。なお、27はＯ2 ガスを蒸着装置内に導く
配管である。
に従来の蒸着装置の要部拡大図を示す。図２において、
従来の蒸着装置は、テープ状の支持体１が巻回されてい
て、この支持体１を送り出す、送り出し側の巻枠21と、
支持体１に磁性層を蒸着するために、この支持体１をＵ
字状に巻回するキャン22と、磁性層が蒸着された支持体
１を巻き戻す、巻き戻し側の巻枠23と、電子銃24と、ル
ツボ25と、シャッター26とからなる。ルツボ25には磁性
金属２が溶融している。磁性金属２を有するルツボ25が
蒸着源となる。なお、27はＯ2 ガスを蒸着装置内に導く
配管である。
【０００３】支持体１は送り出し側巻枠21から、キャン
22をＵ字状に巻回し、巻き戻し側の巻枠23に送られる。
その間、電子銃24からルツボ25の磁性金属２に電子ビー
ム３が発射され、ルツボ25から磁性金属２が飛び出し、
支持体１に磁性層を作る。この時シャッター26は支持体
１の斜方蒸着に重要な位置を占めている。即ち、角度θ
だけ支持体１の斜めから磁性金属２を蒸着することによ
り、支持体１に蒸着された磁性層の磁気特性が向上し、
磁気テープとしての電気特性を向上させる。
22をＵ字状に巻回し、巻き戻し側の巻枠23に送られる。
その間、電子銃24からルツボ25の磁性金属２に電子ビー
ム３が発射され、ルツボ25から磁性金属２が飛び出し、
支持体１に磁性層を作る。この時シャッター26は支持体
１の斜方蒸着に重要な位置を占めている。即ち、角度θ
だけ支持体１の斜めから磁性金属２を蒸着することによ
り、支持体１に蒸着された磁性層の磁気特性が向上し、
磁気テープとしての電気特性を向上させる。
【０００４】図３に従来の蒸着装置の要部拡大図として
示すように、シャッター26により支持体１は正面から角
度θまでが覆われているので、斜方蒸着ができるが、シ
ャッター26の先端部に、2aで示す蒸着物が堆積物として
次第に堆積して行く。この堆積物2aは斜方蒸着角度θを
変化させて行き、磁気テープの電気特性に影響する。特
に従来のシャッター26はステンレス鋼でできていて、冷
却配管を用いて水冷しており、自己清掃機能は持ってい
ない。つまり、シャッターとしての機能、精度を保つた
めには、頻繁の清掃を必要とした。
示すように、シャッター26により支持体１は正面から角
度θまでが覆われているので、斜方蒸着ができるが、シ
ャッター26の先端部に、2aで示す蒸着物が堆積物として
次第に堆積して行く。この堆積物2aは斜方蒸着角度θを
変化させて行き、磁気テープの電気特性に影響する。特
に従来のシャッター26はステンレス鋼でできていて、冷
却配管を用いて水冷しており、自己清掃機能は持ってい
ない。つまり、シャッターとしての機能、精度を保つた
めには、頻繁の清掃を必要とした。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、このよう
な従来の問題点を解消するためになされたものであっ
て、シャッターに発熱体を設けることにより、常に、斜
方蒸着の精度を一定に保つことを可能にし、しかも、シ
ャッターには蒸着されないため、清掃が不必要な、また
は必要でも清掃が簡単にすむ蒸着装置を提供することを
課題にしている。
な従来の問題点を解消するためになされたものであっ
て、シャッターに発熱体を設けることにより、常に、斜
方蒸着の精度を一定に保つことを可能にし、しかも、シ
ャッターには蒸着されないため、清掃が不必要な、また
は必要でも清掃が簡単にすむ蒸着装置を提供することを
課題にしている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明の蒸着装置は、
蒸着源と蒸着される支持体との間に、蒸着物の入射角を
規制するためのシャッターが配されていて、このシャッ
ターに発熱体を設けることを特徴とする。及びこの発熱
体を設けたシャッターの温度は、５００℃〜１７００℃
であることを特徴とする。
蒸着源と蒸着される支持体との間に、蒸着物の入射角を
規制するためのシャッターが配されていて、このシャッ
ターに発熱体を設けることを特徴とする。及びこの発熱
体を設けたシャッターの温度は、５００℃〜１７００℃
であることを特徴とする。
【０００７】
【作用】このようにすることにより、シャッターには蒸
着物が堆積しなくなる。
着物が堆積しなくなる。
【０００８】
【実施例】以下、この発明の実施例を図１のこの発明の
蒸着装置の要部拡大図を使って説明する。蒸着装置全体
については、従来の技術で説明したので、その説明は省
略する。同一部分には同一符号を付す。図１において、
テープ状の支持体１をＵ状に巻回するキャン21であり、
蒸着源であるルツボ25には磁性金属２が溶融している。
図２に示した電子銃24から電子ビーム３がルツボ25の磁
性金属２に発射され、ルツボ25から磁性金属２が飛び出
し、支持体１に磁性層を作る。
蒸着装置の要部拡大図を使って説明する。蒸着装置全体
については、従来の技術で説明したので、その説明は省
略する。同一部分には同一符号を付す。図１において、
テープ状の支持体１をＵ状に巻回するキャン21であり、
蒸着源であるルツボ25には磁性金属２が溶融している。
図２に示した電子銃24から電子ビーム３がルツボ25の磁
性金属２に発射され、ルツボ25から磁性金属２が飛び出
し、支持体１に磁性層を作る。
【０００９】蒸着物の入射角を規制するためのシャッタ
ー11が配されている。θは既に説明した斜方蒸着角度で
ある。この発明の特徴はシャッター11に、発熱体12を設
けることにある。このようにすることにより、シャッタ
ー11に自己清掃機能を持たせる。または、製造工程中の
シャッター11の清掃を簡単にする。発熱体12としては、
遠赤外線ヒーターを用いる。その他に、タングステン、
カンタル等の電気抵抗高温発熱体を直接シャッター11内
部に内蔵付加することもできる。シャッター11の温度
は、５００℃〜１７００℃とＣｏ８０Ｎｉ２０の沸点を
避けるためにも１８００℃以下が望ましい。
ー11が配されている。θは既に説明した斜方蒸着角度で
ある。この発明の特徴はシャッター11に、発熱体12を設
けることにある。このようにすることにより、シャッタ
ー11に自己清掃機能を持たせる。または、製造工程中の
シャッター11の清掃を簡単にする。発熱体12としては、
遠赤外線ヒーターを用いる。その他に、タングステン、
カンタル等の電気抵抗高温発熱体を直接シャッター11内
部に内蔵付加することもできる。シャッター11の温度
は、５００℃〜１７００℃とＣｏ８０Ｎｉ２０の沸点を
避けるためにも１８００℃以下が望ましい。
【００１０】また、この温度範囲の低温域では現状のス
テンレス鋼のシャッター11でも問題ないが、高温域で
は、レンガ、アルミナ等の材質を考慮することが望まし
い。
テンレス鋼のシャッター11でも問題ないが、高温域で
は、レンガ、アルミナ等の材質を考慮することが望まし
い。
【００１１】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の蒸着装
置は、シャッターに発熱体を設けることにり、シャッタ
ーに蒸着物が堆積しなくなり、常に、斜方蒸着の精度を
一定に保つことができ、しかも、清掃が必要ない。また
は、必要でも清掃か簡単にすむ。
置は、シャッターに発熱体を設けることにり、シャッタ
ーに蒸着物が堆積しなくなり、常に、斜方蒸着の精度を
一定に保つことができ、しかも、清掃が必要ない。また
は、必要でも清掃か簡単にすむ。
【図１】この発明の蒸着装置の要部拡大図
【図２】従来の蒸着装置の説明図
【図３】従来の蒸着装置の要部拡大図
１ 支持体 ２ 磁性金属 ３ 電子ビーム 11 シャッター 12 発熱体 22 キャン 25 ルツボ
Claims (2)
- 【請求項１】 蒸着源と蒸着される支持体との間に、蒸
着物の入射角を規制するためのシャッターが配された蒸
着装置において、 前記シャッターに、発熱体を設けることを特徴とする蒸
着装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の蒸着装置において、 前記シャッターの温度は、５００℃〜１７００℃である
ことを特徴とする蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22190791A JPH0559537A (ja) | 1991-09-03 | 1991-09-03 | 蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22190791A JPH0559537A (ja) | 1991-09-03 | 1991-09-03 | 蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0559537A true JPH0559537A (ja) | 1993-03-09 |
Family
ID=16774029
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22190791A Pending JPH0559537A (ja) | 1991-09-03 | 1991-09-03 | 蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0559537A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9690496B2 (en) | 2004-10-21 | 2017-06-27 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Using external memory devices to improve system performance |
| US10216637B2 (en) | 2004-05-03 | 2019-02-26 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Non-volatile memory cache performance improvement |
-
1991
- 1991-09-03 JP JP22190791A patent/JPH0559537A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10216637B2 (en) | 2004-05-03 | 2019-02-26 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Non-volatile memory cache performance improvement |
| US9690496B2 (en) | 2004-10-21 | 2017-06-27 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Using external memory devices to improve system performance |
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