JPH0563783B2 - - Google Patents

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JPH0563783B2
JPH0563783B2 JP17669683A JP17669683A JPH0563783B2 JP H0563783 B2 JPH0563783 B2 JP H0563783B2 JP 17669683 A JP17669683 A JP 17669683A JP 17669683 A JP17669683 A JP 17669683A JP H0563783 B2 JPH0563783 B2 JP H0563783B2
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JP
Japan
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weight
coating
electron beam
fine powder
cured
Prior art date
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Application number
JP17669683A
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JPS6067938A (ja
Inventor
Toshiaki Shibue
Koichi Nagayasu
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
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Publication of JPS6067938A publication Critical patent/JPS6067938A/ja
Publication of JPH0563783B2 publication Critical patent/JPH0563783B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/95Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers rendered opaque or writable, e.g. with inert particulate additives

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
本発明は、ハロゲン化銀写真感光材料に関す
る。さらに詳しくは、電子線照射によ぀お補造さ
れた支持䜓を有し、特に、写真印画玙ずしお奜適
なハロゲン化銀写真感光材料に関する。 先行技術ずその問題点 埓来の写真印画玙甚の支持䜓は、バラむタ塗垃
玙被芆局をもたない䞊質玙が甚いられおい
る。このため、埓来の印画玙の裏面には、氏名、
日付等の蚘録事項を鉛筆で蚘入し、これを消しゎ
ムで容易に消すこずができた。 これに察し、近幎、写真凊理の迅速化等のた
め、玙基材の䞡面にポリ゚チレン等のポリオレフ
むン暹脂を被芆したものが、支持䜓ずしお甚いら
れおいる。 このような支持䜓の裏面には、暹脂被芆局が存
圚するため、鉛筆での蚘入は䞍可胜である。た
た、䞇幎筆等の氎溶性むンクを甚いれば䞀応曞く
こずも可胜であるが、文字が䞍鮮明ずなり、しか
も指先等による摩擊で簡単に消えおしたう。さら
に、ボヌルペン、マゞツク等の油性むンクによれ
ば曞くこずはできるが、このずきには消すこずが
できず、蚂正ができない。 埓぀お、ポリオレフむン暹脂被芆局を有する支
持䜓においおも、バラむタ塗垃玙ず同じように、
鉛筆で曞き蟌みができるようにする芁望が倧き
い。 このため、ポリオレフむン暹脂被芆局に鉛筆筆
蚘性を持たせる提案が、いく぀かなされおいる。 その぀は、れラチン、カれむン、ポリ酢酞ビ
ニル等のバむンダヌ䞭に、酞化ケむ玠、氎酞化ア
ルミニりム等の粉末を含有させた組成物塗膜を、
ポリオレフむン暹脂被芆局衚面に圢成する方法で
ある。 しかし、このずきには、筆圧を倧きくしないず
うたく曞けず、たた硬質の鉛筆で筆蚘する際、筆
圧が高いず筆蚘郚分に凹みを生じおしたうずいう
䞍郜合がある。たた、補造䞊、塗垃、也燥工皋の
工皋増を招き、䜜業䞊煩雑である。 䞀方、特開昭55−43528号には、ポリオレフむ
ン暹脂被芆局䞭に、モヌス硬床〜の無機物質
の埮粉末を含有させる技術が開瀺されおいる。 しかし、このような堎合には、筆蚘性を向䞊さ
せるために無機埮粉末を倧量に添加する必芁があ
り、このずき、ポリオレフむン暹脂溶融抌出機の
ダむス出口端に汚れが生じ、被芆局衚面にスゞが
発生し、衚面性がきわめお悪くな぀おしたう。 たた、被芆局の厚さを倧きくしたずきには、粉
末の粒埄を倧きくし、か぀添加量を倧きくしない
ず効果が生じないので、生産効率䞊、できるだけ
被芆局をうすくするこずが奜たしい。しかし、う
すい被芆局を圢成するためには、ポリオレフむン
暹脂の溶融枩床を320〜360℃皋床にたで高くする
必芁があり、このずき、暹脂の䞀郚に分解がおこ
り、被芆局にピンホヌルや黄倉を生じたり、平面
性が悪化したり、写真乳剀に悪圱響を及がしたり
する。 さらには、筆蚘性を向䞊させるため、埮粉末の
の添加量を倚くするず、被芆局の耐摩耗性、耐刷
性が悪化し、筆蚘文字を消すために消しゎムで匷
く耇数回こするず、無機埮粉末が倧量に脱萜する
ずいう欠点がある。 このように、ポリオレフむン暹脂被芆局を有す
る支持䜓では、実甚䞊十分な筆蚘性をも぀ものが
実珟しおいない。 他方、ポリオレフむン暹脂被芆局を有する支持
䜓にかわる支持䜓ずしお、特に写真画像の鮮鋭性
や、耐氎性等を向䞊する目的で、電子線によ぀お
硬化可胜な組成物を支持䜓玙基材䞊に塗垃
し、これに電子線を照射しお硬化させた被芆局を
蚭けたものが、特開昭57−27257号、特開昭57−
49946号等に提案されおいる。 このような支持䜓は、垞枩にお被芆を行うの
で、鮮鋭性を向䞊させるために、乳剀局偎の被芆
局に倧量に癜色の顔料を含有させるこずができ、
その分散も容易であり、実甚䞊有利である。 しかし、この支持䜓も、裏面の筆蚘性に぀いお
は未だ考慮が払われおおらず、その改良が望たれ
おいる。 発明の目的 本発明の第の目的は、硬質の鉛筆でも裏面に
筆蚘ができ、しかも凹みの発生がなく、さらには
筆圧が䜎くおも筆蚘した文字や蚘号が鮮明に識別
できる支持䜓を甚いたハロゲン化銀写真感光材料
を提䟛するこずにある。 第の目的は、裏面に鉛筆で筆蚘された文字
を、消しゎムで容易に消すこずができ、消去性に
すぐれ、しかも消しゎムで匷く消しおも衚面から
粉末等が脱萜しない、耐摩耗性のすぐれた裏面局
を有する支持䜓を甚いたハロゲン化銀写真感光材
料を提䟛するこずにある。 第の目的は、これらの目的を、電子線により
硬化した裏面局を有する支持䜓においお実珟する
こずにより、垞枩で硬化でき、黄倉、ピンホヌ
ル、分解等がなく、平面性のすぐれた支持䜓を有
するハロゲン化銀写真感光材料を提䟛するこずに
ある。 第の目的は、裏面局ず支持䜓基材ずの接着性
がすぐれ、たた屈曲性が良奜な支持䜓を甚いたハ
ロゲン化銀写真感光材料を提䟛するこずにある。 これら諞目的は、䞋蚘の本発明によ぀お達成さ
れる。 すなわち本発明は、 支持䜓基材の面に、電子線により硬化可胜な
化合物ず、この化合物100重量郚あたり30〜300重
量郚の、モヌス硬床以䞊の硬質埮粉末及び分子
䞭に぀以䞊の異な぀た反応基を有するカツプリ
ング剀ずを含む組成物を蚭眮し、電子線により硬
化しおなる裏面局を有する支持䜓を備え、この支
持䜓の裏面局ず反察偎にハロゲン化銀乳剀局を担
持しおなるこずを特城ずするハロゲン化銀写真感
光材料である。 発明の具䜓的構成 以䞋、本発明の具䜓的構成に぀いお詳现に説明
する。 本発明においお甚いる電子線により硬化可胜な
化合物ずしおは、電子線照射によ぀おラゞカル等
を発生しお、重合ないし架橋しお硬化するよう
な、分子鎖䞭に䞍飜和二重結合を個以䞊含む化
合物であるこずが奜たしい。 埓぀お、アクリル酞、メタクリル酞あるいはこ
れらの゚ステルのようなアクリル系二重結合、ゞ
アリルフタレヌトのようなアリル系二重結合、マ
レむン酞、マレむン酞誘導䜓のような䞍飜和結合
等を有する、写真支持䜓甚あるいは各皮技術分野
で公知の電子線により硬化可胜なモノマヌ、オリ
ゎマヌ、ポリマヌは、いずれを甚いおもよい。 なお、電子線により硬化可胜な化合物の分子量
ずしおは、20000以䞋、特に500〜20000、特に奜
たしくは1000〜20000皋床であるこずが奜たしい。 以䞋に、電子線により硬化可胜な化合物の代衚
的具䜓䟋を挙げる。
【衚】
【衚】 これら電子線により硬化可胜な化合物は、その
皮以䞊を混合しお䜿甚するこずができる。 さらに、柔軟性や支持䜓基材の接着性を向䞊す
る目的で、䞋蚘に代衚される熱可塑性の暹脂を混
合しお甚いるこずもできる。 (1) セルロヌス誘導䜓 ニトロセルロヌス、セルロヌスアセテヌトブチ
レヌト、゚チルセルロヌス、ブチルセルロヌス等 (2) ポリビニルアルコヌル系暹脂 ポリビニルアルコヌル、ポリビニルブチラヌ
ル、ポリビニルアセタヌル等 (3) ポリブタゞ゚ンおよびブタゞ゚ン共重合䜓 ポリブタゞ゚ン、アクリルニトリルブタゞ゚ン
共重合䜓、スチレン−ブタゞ゚ン共重合䜓等 (4) 塩化ビニル系共重合䜓 塩化ビニル−酢酞ビニル共重合䜓、塩化ビニル
−酢酞ビニル−マレむン酞共重合䜓等 (5) ポリりレタン暹脂 (6) 䞍飜和、飜和ポリ゚ステル暹脂 (7) ポリアミド暹脂 など これらの熱可塑性暹脂は、アクリル倉性二重結
合が導入されおいおもよいし、そううでなくおも
よい。 これら熱可塑性暹脂は、前蚘電子線により硬化
可胜な化合物の総量に察し、80/20〜40/60重量
の混合比率ずするこずが奜たしい。 本発明における硬質埮粉末は、モヌス硬床が
以䞊のものである。たた、透明ないし癜色のもの
である。 このような硬質埮粉末のうち無機のものずしお
は、石英埮粉末、ガラス埮粉末、焌成アルミナ、
溶融アルミナコランダム、ザクロ石等がある。 これらの䞭では、硬化裏面局に突出しお筆蚘性
が向䞊する点で、石英埮粉末、ガラス埮粉末が奜
たしい。 なお、モヌス硬床が未満では、鉛筆の加筆性
が十分でない。 たた、硬質埮粉末の平均粒埄は、0.5〜30Ό、
特に〜20Όが奜たしい。 平均粒埄が30Όより倧きいず、筆蚘時に衚面
のザラ぀きが感じられ、たた、芋た目には濃く蚘
入されるずしおも、鉛筆芯の枛率が激しく、か぀
甚玙が汚れやすい。 䞀方、平均粒埄が0.5Ό未満のものでは、鉛筆
による筆蚘性が䞍良である。 なお、硬質有機埮粉末も適甚できる。 その代衚䟋ずしおは、メチルメタアクリレヌト
暹脂、プノヌル暹脂、ベンゟグアナミン・ホル
ムアルデヒド暹脂、ポリスチレン暹脂等を挙げる
こずができる。 電子線により硬化可胜な化合物100重量郚䞭の、
硬質埮粉末の量は、30〜300重量郚であるこずが
奜たしく、特に奜たしくは40〜250重量郚である。 30重量郚未満では、鉛筆加筆性が十分でなく、
300重量郚より倧では、被芆局が脆くなるずずも
に支持䜓基材ずの接着性も䜎䞋する。たた、良奜
な被芆面が埗られない。 このような構成物質からなる組成物䞭には、さ
らにカツプリング剀が含有されるこずが奜たし
い。 甚いるカツプリング剀は、その分子䞭に぀以
䞊の異な぀た反応基を有する化合物であり、これ
ら反応基の぀は、硬質埮粉末ず化孊反応するも
のメトキシ基、゚トキシ基、シラノヌル基等
であり、もう぀は、電子線により硬化可胜な化
合物ず化孊結合する反応基ビニル基、゚ポキシ
基、メタアクリル基、アミノ基等である。 このようなカツプリング剀は、電子線により硬
化可胜な化合物ず硬質埮粉末ずの間に、化孊結合
による橋かけの圹目を果たす働きをも぀おいるも
のである。 この堎合、特に、本発明で奜適に䜿甚されるカ
ツプリング剀ずしおは、カツプリンング䜜甚を瀺
すアルコキシ基等ずずもに、電子線の照射によ぀
お硬化する䞍飜和二重結合を有するものであるこ
ずが奜たしく、この二重結合ず電子線により硬化
可胜な化合物の䞍飜和二重結合より発生するラゞ
カルずでラゞカル重合反応を生じ、架橋構造を圢
成し硬化するものがある。 このようなカツプリング剀は、䞀方では硬質埮
粉末ず、たた他方では電子線により硬化可胜な化
合物ず、匷固に結合する。 このため、このような䞍飜和二重結合を有する
カツプリング剀では、硬質埮粉末に察し効果的に
界面補匷ができ、耐摩耗性が向䞊し、筆蚘文字を
消しゎムで䜕回も匷くこす぀おも、硬質埮粉末が
脱萜しないずいう効果が生じる。 たた、硬質埮粉末を効果的に界面補匷でき、充
填性が改善され、衚面平滑性が䞀段ず向䞊する。 なお、䞊蚘したように、カツプリング剀は、必
ずしも䞍飜和二重結合をもたなくおもよい
が、分子内に二重結合を有しないカツプリング剀
では、硬質埮粉末ずず化孊結合する反応基メト
キシ基、゚トキシ基、シラノヌル基等を有する
が、硬質埮粉末ず硬化された化合物からなるバむ
ンダヌずの結合が十分ずはいいがたい。 すなわち、硬化されたバむンダヌず匷固に化孊
結合するのではなく、バむンダヌずのなじみが良
奜であるにすぎず、バむンダヌずの匷固な結合に
は至぀おいないものである。 埓぀お、硬質埮粉末ずバむンダヌの匷固な結合
は生じず、䞊蚘の効果は認められるものの、二重
結合をも぀ものず比范するず、十分ではない。 この堎合、カツプリング剀ずしおは、シランカ
ツプリング剀たたはチタンカツプリング剀が奜適
であり、硬質埮粉末の衚面を被芆するように添加
されるものである。 すなわち、カツプリング剀は、硬質埮粉末の氎
酞基や、その衚面を郚分的に被芆しおいる金属酞
化物局䞭の氎酞基ず、化孊結合するものである。 すなわち、シランカツプリング剀では、シラノ
ヌル基を圢成する基およびたたはシラノヌル基
を有しおいるため、シラノヌル基の圢で、硬質埮
粉末の氎酞基や、衚面を郚分的に被芆しおいる金
属酞化物衚面にある氎酞基等ず反応しお、硬質埮
粉末ずの間に化孊結合を圢成する。 たた、チタンカツプリング剀では、硬質埮粉末
の氎酞基や、衚面を郚分的に被芆しおいる金属酞
化物衚面にある氎酞基等ず匷力に反応し、チタン
原子ず
【匏】あるいは−ORずの結合が切れお、 ゚ヌテル結合か゚ステル結合の化孊結合を圢成す
る。 以䞋に、本発明のカツプリング剀のうち、特に
奜適に甚いられるものの具䜓䟋を挙げる。 分子内に䞍飜和二重結合を有するシランカツ
プリング剀 (1) CH2CHSiOC2H53 (2) CH2CHSiOC2H4OCH33 (3) CH2CCH3CO2CH2CH2SiOCH33 (4) CH2CHCO2CH2CH2SiOCH33 (5) CH2CCH3CO2CH2CH2SiOCH2CH33 (6) CH2CHCO2CH2CH2SiOCH2CH33 (7) CH2CCH3CO2CH2CH2CH2SiOCH33 (8) CH2CHCO2CH2CH2CH2SiOCH33 (9) CH2CCH3CO2CH2CH2CH2Si
OCH2CH33 (10) CH2CCH3CO2CH2CH2CH2CH2Si
OCH33 (11) CH2CHCO2CH2CH2CH2CH2SiOCH33 (12) CH2CHCO2CH2CH2CH2CH2Si
OCH2CH33 (13) CH2CHCH2NHCH2CH2CH3SiOCH33 (14) CH2
CHCH2NHCH2CH2NHCH2CH2CH2SiOCH33 分子内に二重結合を有するチタンカツプリン
グ剀 このようなカツプリング剀を被芆局䞭に含有さ
せるには、䞋蚘のような方法がある。 すなわち第の方法は、前述した皮たたは混
合した皮以䞊の電子線により硬化可胜な化合物
䞭に、硬質埮粉末ず、溶剀䞭に溶解した前蚘のカ
ツプリング剀を同時に添加し、分散混合した埌、
支持䜓基材䞊に塗垃し硬化する方法である。 たた第の方法は、カツプリング剀を適圓な溶
剀䞭に溶解させ、この溶液䞭に硬質埮粉末を浞挬
しお予め衚面凊理し、也燥し、これを皮たたは
混合した皮以䞊の電子線により硬化可胜な化合
物䞭に分散混合しお組成液を調補埌、支持䜓基材
䞊に塗垃し硬化する方法である。 そしお第の方法は、前述した皮たたは混合
した皮以䞊の電子線により硬化可胜な化合物を
適圓な有機溶剀に溶解し、予めカツプリング剀で
衚面凊理し、也燥した硬質埮粉末を分散混合した
埌、支持䜓基材䞊に塗垃し硬化する方法である。 さらに第の方法は、電子線により硬化可胜な
化合物を添加する前に、カツプリング剀を有機溶
剀䞭で硬質埮粉末ず分散し、その埌、電子線によ
り硬化可胜な化合物を添加しお、分散混合しお組
成液を調補埌、支持䜓基材䞊に塗垃し硬化する方
法である。 これらの䞭では、予めカツプリング剀で凊理也
燥した硬質埮粉末を甚いる方法が奜たしい。 なお、これらにおいお、有機溶剀を䜿甚する堎
合には、組成液の粘床が䜎くなり、硬質埮粉末の
充填性が向䞊し、裏面局の衚面平滑性は䞀段ず向
䞊する。 これらカツプリング剀の䜿甚量は、硬質埮粉末
に察しお0.1〜20重量の範明で䜿甚するこずが
奜たしい。 0.1重量より少ないず所期の効果が埗られず、
20重量をこえるず経時によりブリヌドアりトす
る恐れがある。 この堎合、カツプリング剀は、より奜たしくは
0.5〜10重量の範囲で䜿甚するのがよい。 本発明における裏面局塗垃甚の組成物は、これ
ら電子線により硬化可胜な化合物ず硬質埮粉末か
らなるが、この組成物䞭には、溶剀を加えるこず
ができる。 この堎合、特に有機溶剀を䜿甚する堎合には、
塗垃組成液の粘床がより䜎くなるため、硬質埮粉
末の充填性がさらに向䞊し、衚面平滑性がさらに
䞀段ず向䞊する。 甚いる溶剀ずしおは特に制限はなく、甚いる電
子線により硬化可胜な化合物やカツプリング剀等
の溶解性、盞溶性等を考慮しお適宜遞択される。 組成物を調補する䞊で奜適に䜿甚できる溶剀ず
しおは、 メタノヌル、゚タノヌル、む゜プロパノヌル、
ブタノヌルのアルコヌル アセトン、メチル゚チルケトン、メチルむ゜ブ
チルケトン、シクロヘキサノン等のケトン 酢酞メチル、酢酞゚チル、酢酞ブチル、酪酞゚
チルの゚ステル ゚チレングリコヌルゞメチル゚ヌテル、゚チレ
ングリコヌルモノ゚チル゚ヌテル、ゞオキサン等
のグリコヌル゚ヌテル ベンれン、トル゚ン、キシレン等の芳銙族炭化
氎玠 ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化氎玠 あるいは、これらの混合物が挙げられる。 本発明に甚いられる支持䜓基材ずしお、垂販の
䞭質玙、䞊質玙の他に、倩然パルプ、合成パル
プ、あるいはそれらの混合物よりなる玙基材が䜿
甚できる。 あるいは、ポリ゚ステル類、ポリオレフむン類
のベヌスに、必芁に応じ無機癜色顔料が分散され
たフむルムを甚いおもよい。 なお、玙基材の秀量は、60〜250m2、より
奜たしくは80〜190m2であるこずが奜たしく、
その衚面は平滑でも粗くおもよい。 本発明における塗垃甚の組成物は、以䞋のよう
にしお調補される。 すなわち、前述した各成分を、党お同時に、あ
るいは個々順次に、混緎機に投入する。 塗垃組成物の混緎分散には、各皮の混緎機が䜿
甚される。 䜿甚可胜な混緎機ずしおは、二本ロヌルミル、
䞉本ロヌルミル、ペプルミル、ボヌルミル、サン
ドグラむンダヌ、高速ストヌンミル、高速床衝撃
ミル、ニヌダヌ、ホモゞナむザヌ等がある。 たた、塗垃方法ずしおは、゚アヌドクタヌコヌ
ト、ブレヌドコヌト、スクむズコヌト、゚アヌナ
むフコヌト、リバヌスロヌルコヌト、キダストコ
ヌト等の方法が甚いられる。 そしお、塗垃厚は、〜100Ό、より奜たし
くは〜50Όずするこずが奜たしい。 1Ό未満では所期の目的が達成できず、たた、
100Όをこえるずコスト増ずなる。 このような塗垃甚の組成物は、支持䜓基材の裏
面偎に塗垃され、その埌電子線照射を行い、硬化
されお裏面局ずされる。 この堎合、支持䜓基材の裏面局ず反察偎の乳剀
局担持偎の衚面には、前蚘したような電子線によ
り硬化可胜な化合物ず、無機癜色顔料ず、必芁に
応じ熱可塑性暹脂、各皮カツプリング剀、溶剀等
ずを含む組成物を塗垃し、これを電子線により硬
化させた䞋塗局を蚭けるこずが奜たしい。 この堎合に甚いる無機癜色顔料ずしおは、酞化
チタンアナタヌれ型、ルチル型、硫酞バリり
ム、炭酞カルシりム、酞化アルミニりム、酞化マ
グネシりムなど、いずれも䜿甚できる。 たた、酞化チタンを、含氎酞化金属酞化物、䟋
えば、含氎酞化アルミナ、含氎酞化プラむト等
の金属酞化物で、その衚面を郚分的に被芆しおも
よい。 無機癜色顔料は、前蚘電子線により硬化可胜な
化合物100重量郚䞭、30〜300重量郚の範囲である
こずが奜たしい。 30重量郚未満では、鮮鋭性が十分でなく、300
重量郚をこえるず、接着性、衚面平滑性の点で十
分でない。この堎合、30〜200重量郚がより奜た
しい。 なお、顔料の平均粒子埄は、0.1〜10Όが奜た
しい。 たた、電子線により硬化可胜な化合物ず、必芁
に応じ添加される熱可塑性暹脂の量比等は、前蚘
ず同様である。 さらに、カツプリング剀、溶剀を甚いる堎合、
その量比は前蚘ず同様でよく、溶剀の皮類も前蚘
同様でよいが、カツプリング剀は、必ずしも二重
結合をもたないものであ぀おもよい。 たた、塗垃方法や塗垃膜厚も、裏面局ず同様で
よい。 支持䜓基材䞊に、これら裏面局および䞋塗局の
塗垃甚の組成物を塗垃するには、二段のコヌタヌ
ヘツドを甚い、乳剀塗垃面ずその反察面を同時に
塗垃し、盎ちに加熱也燥を行い、溶剀の䞀郚たた
は党郚を陀去した埌、電子線照射を行い被芆局を
硬化した埌、ロヌルに巻き取ればよい。 あるいは、塗垃埌盎ちに電子線照射を行い、被
芆局を硬化した埌、加熱也燥を行い、硬化局の溶
剀を陀去した埌、ロヌルに巻き取぀おもよい。 二段のコヌタヌヘツドを有しおいない堎合は、
たず乳剀塗垃面に塗垃し、䞊蚘ず同様の方法で也
燥、硬化を行぀た埌、䞀旊ロヌルに巻き取り、続
いお反察面を塗垃し、䞊蚘ず同様の方法で也燥、
硬化を行぀おロヌルに巻き取る方法でもよい。 䞊蚘の各方法に埓぀お塗垃、巻き取りを行うず
き、組成液の調補埌、枩湿床の倉化や䜿甚する玠
材の濃床の倉化を受けず安定であり、しかも塗垃
しおも凝集やゲルの発生がなく、長時間安定した
塗垃操䜜ができる。 たた、支持䜓基材ず、支持䜓基材に最初に塗
垃、硬化した局ずが重ねあわさ぀たり、反察面に
塗垃、硬化した局ずが重ねあわさ぀たりする際、
カツプリング剀等のブリヌドアりト等によるブロ
ツキングはおこらないので、塗垃操䜜性が䜎䞋し
たり、被芆局の面状態が悪化するこずはない。 そしお、本発明による組成液は、硬質埮粉末を
倚量に含んでも、長時間保存埌塗垃したずきも、
凝集およびゲルの発生はなく、塗垃操䜜性が良奜
であり、しかもロヌル巻き取りの際、ブロツキン
グを生じるこずもない。 本発明の裏面局および䞋塗局は、平滑化凊理を
斜しお鏡面に仕䞊げるこずができるし、必芁に応
じ型付けを斜すこずもできる。 鏡面仕䞊げを行うには、凊理したい面を鏡面ロ
ヌルず接觊し、その背面から電子線を照射しお硬
化しお、鏡面仕䞊げを斜すこずができる。たた、
予め予備照射を行い衚面を䞀郚硬化した埌、鏡面
ロヌルず接觊しお、剥離し、二次照射を行い、完
党に硬化する方法を甚いおもよい。 鏡面ロヌルずしおは、クロルメツキロヌル、ス
テンレスロヌル等がある。 たた、型付けを斜すずきに、鏡面ロヌルにかえ
お甚いる型付けロヌルずしお、ステンレスロヌ
ル、クロムメツキロヌル等のロヌルに衚面研摩、
蒞着法、゚ツチング法、メツキ法などによ぀お、
絹目、埮粒面等所望の型付けを圢成したロヌルを
甚いるこずができる。 鏡面仕䞊げ、型付け凊理を斜すには、組成液を
塗垃埌、有機溶剀の䞀郚たたは党郚を陀去した埌
に斜しおもよいし、型付けを行぀た埌に有機溶剀
を陀去しおもよい。 裏面局および䞋塗局の也燥枩床は、玄50〜120
℃皋床、奜たしくは70〜100℃、特に奜たしくは
80〜90℃であり、也燥時間は、玄10秒〜10分間皋
床、奜たしくは20秒〜分間皋床である。 そしお、甚いる電子線加速噚ずしおは、゚レク
トロカヌテンシステム、フアングラフ型のスキダ
ニング、ダブルスキダニングシステム等いずれで
もよい。 たた、電子線特性ずしおは、透過力の面から
100〜750KV、奜たしくは150〜300KVの電子線
加速噚を甚い、吞収線量は0.5〜20Mradになるよ
うにするのが奜適である。 なお、電子線の照射に際しおはN2、He、CO2
等の䞍掻性ガス雰囲気䞭で照射するのが望たし
い。 本発明の塗垃甚組成物液には、最滑剀、研摩
剀、垯電防止剀などを必芁に応じ添加しおもよ
い。 たた、感光性ハロゲン化銀乳剀局ずの接着性を
向䞊する目的で、䞋塗局にはコロナ凊理等の衚面
凊理を行぀たり、あるいは他の䞋塗局を䞋塗局の
衚面に斜しおもよい。 なお、奜たしくはこのような䞋塗局䞊に蚭眮さ
れるハロゲン化銀乳剀局およびハロゲン化銀写真
感光材料の局構成等は、公知の任意のものであ぀
およい。 発明の具䜓的䜜甚効果 本発明によれば、硬質の鉛筆でも裏面に筆蚘が
でき、しかも凹みの発生がなく、ささらには筆圧
が䜎くおも筆蚘した文字や蚘号が鮮明に識別でき
る。 たた、裏面に鉛筆で筆蚘された文字を、消しゎ
ムで容易に消すこずができ、消去性にすぐれ、し
かも消しゎムで匷く消しおも衚面から粉末等が脱
萜しない耐摩耗性のすぐれた裏面局がえられる。 そしお、これらの効果が、電子線により硬化し
た裏面局を有する支持䜓においお実珟するので、
垞枩で硬化でき、黄倉、ピンホヌル、分解等がな
く、平面性のすぐれた支持䜓がえられる。 さらに、裏面局ず支持䜓基材ずの接着性がすぐ
れ、たた屈曲性が良奜で応力亀裂や応力ひび割れ
のきわめお少ない支持䜓がえられる。 さらに、塗垃甚の組成物の安定性等も良奜であ
る。 本発明者らは、本発明の効果を確認するため
皮々実隓を行぀た。 以䞋にその䟋を瀺す。 実隓䟋 (1) サンプルNo.の䜜補 モヌス硬床 平均粒埄5Όの石英埮粉末
50重量郹 りレタンアクリレヌト系オリゎマヌ〔䟋瀺化合
物(5)10〕 50重量郹 CH2CHCOOCH23C−C2H5 20重量郹 ポリりレタン暹脂B.F.Goodrich瀟補
Estane 5702 30重量郹 メチル゚チルケトントル゚ン混合
50重量郹 よりなる組成物を調補し、ボヌルミルで32時間
混合分散した。 この埌、この組成物を秀量150m2の䞊質玙
の片面に、カヌテンコヌタヌを甚い30Όの厚さ
で被芆し、次いで、この被芆物の溶剀を也燥
100℃ 分間陀去した埌、電子線加速装眮を
甚い、窒玠ガス雰囲気䞋で、150KV 5Mradの照
射量でこの被芆物に電子線を照射した埌、硬化し
た被芆局を䞀旊巻き取぀た。 この詊料サンプルをNo.ずする。 (2) サンプルNo.〜の䜜補 サンプルNo.の石英埮粉末の代わりに、平均粒
子埄がそれぞれ10Ό20Ό50Όの石英埮粉
末50重量郚を甚い、No.ず同様の操䜜で被芆、也
燥、硬化を行぀た埌、巻き取぀た。 それぞれの詊料サンプルをNo.No.No.ず
する。 (3) サンプルNo.の䜜補 モヌス硬床 平均粒埄10Όのガラス埮粉末
100を、アセトンを甚いお掗浄也燥させた埌、
䟋瀺カツプリング剀(7)を溶解したメタノヌル
溶液500ml䞭に入れ、時間混合攪拌し、その埌
玄時間攟眮した。枛圧䞋で溶媒を陀去し、ガラ
ス埮粉末を130℃10分間熱凊理した。 次いで、 䞊蚘衚面凊理したガラス埮粉末 50重量郹 アクリル倉性ブタゞ゚ンTEA−1000日本曹
達瀟補 70重量郹 CH2CH−COO−CH26−OOC−CHCH2
20重量郹 トリメチロヌルプロパントリアクリレヌト
10重量郹 メチル゚チルケトントル゚ン混合
50重量郹 よりなる組成物を調補し、ボヌルミルで48時間
混合分散した埌、この組成物を秀量180m2の
䞊質玙の片面に、カヌテンコヌタヌを甚い30Ό
の厚さで被芆した。 次いで、この被芆物の溶剀を也燥100℃分
間陀去した埌、電子線加速装眮を甚いお窒玠ガ
ス雰囲気䞋で、150KV 7Mradの照射量で、被芆
物に電子線を照射した埌、硬化した被芆局を巻き
取぀た。 この詊料サンプルをNo.ずする。 (4) サンプルNo.〜の䜜補 サンプルNo.の衚面凊理されたガラス埮粉末の添
加量を、それぞれ100重量郚、200重量郚、400重
量郚ずした組成物を、No.ず同様の操䜜で被芆、
也燥、硬化を行぀お䜜補した詊料を、それぞれサ
ンプルNo.ずする。 (5) サンプルNo.の䜜補 モヌス硬床 平均粒埄10Όの石英埮粉末
40重量郹 アクリル倉性ブタゞ゚ンTEA−1000日本曹
達瀟補 70重量郹 CH2CH−COO−CH26−OOC−CHCH2
20重量郹 トリメチロヌルプロパントリアクリレヌト
10重量郹 䟋瀺化合物(15)のチタンカツプリング剀重量郚 メチル゚チルケトントル゚ン混合
50重量郹 よりなる組成物を調補し、ボヌルミルで72時間
混合分散した埌、No.ず同様の操䜜を行い䜜補し
た詊料をNo.ずする。 (6) サンプルNo.1011の䜜補 サンプルNo.の石英埮粉末の代わりに、モヌス
硬床 平均粒埄1Όの炭酞カルシりムおよび
モヌス硬床〜1.5平均粒埄5Όのタルクを甚い、
同様の操䜜で被芆、也燥、硬化を行い詊料を䜜補
した。 それぞれサンプルNo.1011ずする。 (7) サンプルNo.1213の䜜補 サンプルNo.においお、衚面凊理しない平均粒
埄10Ό、50Όのガラス埮粉末を同量甚い、No.
ず同様の操䜜で䜜補した詊料を、それぞれサン
プルNo.1213ずする。 埗られた各サンプルを、次に蚘茉する方法に埓
い評䟡した。 (1) 衚面仕䞊り 平滑性を目芖で評䟡した。 (2) 筆蚘性 東掋粟機補筆蚘詊隓機を甚いお枬定した。 詊料台䞊に䜜補した詊料サンプルを眮き、シダ
ヌプペンシルの鉛筆芯2H 芯埄0.5mmに100
の荷重をかけ、次いでこの鉛筆芯を10cmサンプ
ル䞊を移動させ、描かれた線の濃床を枬定した。 筆蚘性優15以䞊 筆蚘性良10〜15 実甚的に䜿える 筆蚘性䞍良10以䞋 実甚的に䜿甚䞍可 (3) 消しゎム消去の際の粉萜ち 筆蚘した文字を消しゎムで消し、これを10回く
り返し、その際の粉萜ちの皋床を芳察した。 〇粉萜ちの党くないもの △䞀郚粉萜ちするもの ×〜回で容易に粉萜ちするもの (4) 塗膜の接着性 詊料の塗膜面に25mm×25mm角のセロテヌプニ
チバンを貌り぀け、䞀瞬のうちにセロテヌプを
はがしたずきの塗膜の状態を、次の段階基準で
評䟡した。 ◎ 党く異垞なし 〇 䞀郚剥離 △ 半分以䞊剥離 × 完党に剥離 (5) 屈曲性折り曲げテスト 折り曲げ詊隓噚を甚いた。 塗垃面を倖偎にしお、曲げの曲率半埄mm、曲
げ角床180゜における塗膜状態を、䞋蚘の段階基
準で評䟡した。 ◎ 10回くり返しおも党く異垞なし 〇 回くり返しお䞀郚ひび割れ △ 回くり返しお党䜓にひび割れ × 回で党䜓にひび割れ (6) 鉛筆筆蚘した文字の消去性 目芖により、〇△×の段階評䟡を行぀た。 これらの結果を衚−に瀺す。
【衚】 衚−に瀺される結果から、本発明の効果があ
きらかである。

Claims (1)

    【特蚱請求の範囲】
  1.  支持䜓基材の面に、電子線により硬化可胜
    な化合物ず、この化合物100重量郚あたり30〜300
    重量郚の、モヌス硬床以䞊の硬質埮粉末及び分
    子䞭に぀以䞊の異な぀た反応基を有するカツプ
    リング剀ずを含む組成物を蚭局し、電子線により
    硬化しおなる裏面局を有する支持䜓を備え、この
    支持䜓の裏面局ず反察偎にハロゲン化銀乳剀局を
    担持しおなるこずを特城ずするハロゲン化銀写真
    感光材料。
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