JPH0564142B2 - - Google Patents

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JPH0564142B2
JPH0564142B2 JP59228859A JP22885984A JPH0564142B2 JP H0564142 B2 JPH0564142 B2 JP H0564142B2 JP 59228859 A JP59228859 A JP 59228859A JP 22885984 A JP22885984 A JP 22885984A JP H0564142 B2 JPH0564142 B2 JP H0564142B2
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JP
Japan
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phosgene
reaction
dmi
water
dimethylethylenediamine
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Application number
JP59228859A
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JPS61109772A (ja
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Teruyuki Nagata
Nobuyuki Kajimoto
Masaru Wada
Hitoshi Nakayama
Tadao Yamada
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Publication date
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Priority to BR8505449A priority patent/BR8505449A/pt
Priority to US06/794,034 priority patent/US4668793A/en
Priority to KR1019850008126A priority patent/KR870001899B1/ko
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【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は1,3−ジメチル−2−イミダゾリジ
ノンの製造方法に関する。詳しくはN,N′−ジ
メチルエチレンジアミンとホスゲンを反応させて
1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンを得る
に際し、水及び脱塩酸剤の存在下に反応させるこ
とを特徴とする1,3−ジメチル−2−イミダゾ
リジノンの改良された製造方法に関する。
1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(以
下DMIと略称)は極性非プロトン溶媒として有
用な物質である。とくにポリアミド類、ポリ塩化
ビニル、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、
ポリウレタン、フエノール樹脂などの高分子化合
物に優れた溶媒であり、また無機塩類の多くのも
のと錯塩を形成して溶解し、多くの有機反応の溶
媒として用いられる有用な物質である。
従来の技術 DMIの製造方法は多数提案されている。例え
ばエチレンジアミンと尿素を反応後、ホルマリン
を付加させた反応生成物をトリクロロ酢酸、ギ酸
などで還元する方法、また、これらの還元方法を
改良して貴金属触媒を使用し酸性下に水素添加す
る方法が提案されている。
さらにN,N′−ジメチルエチレンジアミンと
ホスゲンを反応させるDMIの製造方法も既に知
られている。ジヤーナル ケミカルソサイアテイ
ー(J.Chem.Soc.1947 307)が、収率は20%未満
に過ぎない。またこれと類似な技術として、ホス
ゲン誘導体であるトリクロロメチルクロロホーメ
ートをホスゲンの替りに使用して、トルエン等有
機溶媒中、脱塩酸剤及び触媒の存在下で反応させ
ることにより収率70%以上でDMIを製造する方
法(特開昭53−73561号公報)も提案されている。
発明が解決しようとする問題点 N,N′−ジメチルエチレンジアミンとホスゲ
ンとを反応させてDMIを製造する方法はこのよ
うに公知であるが、収率が極めて低く工業的方法
としては満足できるものではなかつた。この為の
改良法として、前記のようにホスゲンの替りにト
リクロロメチルクロロホーメートを反応時反応系
内で触媒によつてホスゲンに分解しながら反応さ
せる方法が提案されている。しかしながら該公報
方法はわざわざホスゲン2量体であるトリクロロ
メチルクロロホーメートをつくり、DMI製造時
には再びホスゲンに分解して使用すると言つた廻
りくどい方法であり、直接ホスゲンと反応させて
高収率で得ることができるなら、より安価な工業
的製造方法であることは明白である。
問題点を解決するための手段 本発明者等は、ホスゲンとN,N′−ジメチル
エチレンジアミンとを反応させより安価に、且
つ、高収率でDMIをえる工業的製造方法につき
鋭意検討した結果、水及び脱塩酸剤の存在下に反
応させることによりその目的が達せられることを
見出し本発明を完成した。
通常、ホスゲンを使用する反応は極力水の存在
しない条件下に実施され、さらにホスゲンはアル
カリ性水溶液中にて容易に加水分解されることが
知られており、本発明方法では大過剰量のホスゲ
ンが必要となるであろうことが予想された。しか
し意外にも、本発明方法においては、ホスゲンは
その化学量論量の1.01〜1.5倍で充分であること
が判明した。且つ、水及び脱塩酸剤を存在させて
おくことにより、DMIの収率は従来知られてい
た20%未満から70%以上と飛躍的に向上した。
即ち、本発明はN,N′−ジメチルエチレンジ
アミンとホスゲンを水及び脱塩酸剤の存在下に反
応させることにより高収率でDMIが得られる改
良された製造方法を提供するものである。
本発明方法の通常の態様を述べれば還流冷却
器、温度計、ホスゲン吹き込み管、滴下ロート及
び機械的撹拌機を備えた反応器中に、水及びN,
N′−ジメチルエチレンジアミンを加える。この
液を適当な温度下で撹拌しながら、ホスゲンをホ
スゲン吹き込み管より導入すると同時に脱塩酸剤
を滴下ロートより滴下する。
吹き込み及び滴下終了後、さらに滴下と同一温
度またはこれより若干高い温度で反応マスを熟成
する。熟成終了後、中性付近に調製して蒸留等の
常法によりDMIを取り出す。
本発明で用いられる水は、あらかじめ反応器中
に入れておいてもよいし、脱塩酸剤と一緒に、た
とえばアルカリ金属化合物の水溶液として滴下装
入してもよい。使用する水の量は特に限定されな
いが、均一反応が維持できる程度の充分な量が好
ましく、N,N′−ジメチルエチレンジアミンに
対して0.5〜50倍、好ましくは5〜30重量倍がよ
い。また、ホスゲン、原料アミン及びDMIに不
活性な有機溶媒と併用しても差し支えない。
本発明で用いられる脱塩酸剤は、トリメチルア
ミン、トリエチルアミンのような脂肪族第三級ア
ミン、ピリジン、ピラジンのような複素環式第三
級アミンなどのような第三級アミンまたは、水酸
化ナトリウム、炭酸ナトリウムのようなアルカリ
金属化合物が好適である。
また、本発明における反応温度は特に限定され
ないが、好ましくは0〜70℃で行なう。
本発明で用いられるホスゲン及び脱塩酸剤量
は、特に限定されないが原料ジアミンに対して化
学量論量の1.01〜1.5倍で充分である。また、ホ
スゲンに対する脱塩酸剤量はほぼ化学量論量でよ
い。
本発明方法では、従来のホスゲンを用いる反応
にくらべて70%以上の高収率でDMIが得られる。
その理由はよくわからないが、脱塩酸剤と水を併
用することにより、脱塩酸剤がカルバモイルクロ
ライドの生成で生じる副生塩酸と、カルバモイル
クロライドのDMIへの閉環反応で生じる副生酸
性のキヤツチに都合よく作用するためと思われ
る。
もし脱塩酸剤を使用しなければ、原料自体が副
生酸性のキヤツチ剤となり、それ以上反応を進め
ることは困難である。
また、本発明の有利な点は、溶媒として安価な
水を使用するので原料ジアミンは水に可溶であ
り、脱塩酸剤またはその生成塩も水に可溶で、通
常反応は均一液下で行なわれ、反応速度が速く、
収率が向上する。
さらに、この発明のもう一つの有利な点は、塩
基存在下の水溶液中の反応であつてもホスゲンの
損失がほとんどなく、ほぼ当モル量で反応が進行
することである。
以下実施例及び比較例をあげさらに詳細に説明
する。
実施例 1 還流冷却器、温度計、滴下ロート、ホスゲン吹
き込み管及び撹拌機を備えた300mlの四つ口フラ
スコ中に水100ml、N,N′−ジメチルエチレンジ
アミン8.8g(0.1モル)を入れ、一方滴下ロート
中にトリエチルアミンを20.2g(0.2モル)用意
した。フラスコを20℃に維持し、撹拌しながらホ
スゲンをホスゲン吹き込み管を通して10g/hrで
1時間吹き込んだ。同時に、トリエチルアミンを
滴下ロートより1時間かけて滴下した。吹き込み
及び滴下終了後、20℃で1時間熟成した。この反
応マスをサンプリングしてガスクロマトグラフイ
ーによりDMIの定量を行なつた。理論収率は75.1
%であつた。
比較例 還流冷却器、温度計、ホスゲン吹き込み管及び
撹拌機を備えた300mlの四つ口フラスコ中に、ト
ルエン100ml、N,N′−ジメチルエチレンジアミ
ン8.8g(0.1モル)を入れた。フラスコを20℃に
維持し、撹拌しながらホスゲンをホスゲン吹き込
み管を通じて、10g/hrで1時間吹き込んだ。吹
き込み終了後、同一温度で1時間熟成した。この
反応マスのガスクロマトグラフイー分析を行な
い、DMIの定量を行なつたところ、理論収率19.2
%でDMIが生成しているにすぎなかつた。
実施例 2 トルエチルアミンの代わりに、10%炭酸ソーダ
水溶液212g(0.2モル)を用いたことを除いて実
施例1と全く同様に反応を行なつた。
ガスクロマトグラフイー分析による理論収率は
70.8%であつた。
実施例 3 トリエチルアミンの代わりに、10%水酸化ナト
リウム水溶液80g(0.20モル)を用いた以外は、
実施例1と全く同様の反応を行なつた。
ガスクロマトグラフイー分析による理論収率は
81.3%であつた。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 N,N′−ジメチルエチレンジアミンとホス
    ゲンを反応させて、1,3−ジメチル−2−イミ
    ダゾリジノンを得るに際し、水及びトリメチルア
    ミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピラジン、
    水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリ
    ウム、炭酸カリウムから選ばれた少なくとも一種
    の脱塩酸剤の存在下、ホスゲンをN,N′−ジメ
    チルエチレンジアミンに対し化学量論量の1.01〜
    1.5倍用い、均一溶液で反応させることを特徴と
    する1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンの
    製造方法。
JP59228859A 1984-11-01 1984-11-01 1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンの製造方法 Granted JPS61109772A (ja)

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JP59228859A JPS61109772A (ja) 1984-11-01 1984-11-01 1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンの製造方法
EP85113840A EP0183076B1 (en) 1984-11-01 1985-10-30 Process for producing 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone
CA000494275A CA1259321A (en) 1984-11-01 1985-10-30 Process for producing 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone
DE8585113840T DE3578879D1 (de) 1984-11-01 1985-10-30 Verfahren zur herstellung von 1,3-dimethyl-2-imidazolidinon.
BR8505449A BR8505449A (pt) 1984-11-01 1985-10-31 Processo para producao de 1,3-dimetil-2-imidazolidinona
US06/794,034 US4668793A (en) 1984-11-01 1985-11-01 Process for producing 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone
KR1019850008126A KR870001899B1 (ko) 1984-11-01 1985-11-01 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논의 제조방법

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WO2002055505A1 (en) 2001-01-04 2002-07-18 Mitsui Chemicals, Inc. Process for producing 1,3-dialkyl-2-imidazolidinone compound
CN112176372B (zh) * 2020-09-27 2021-10-15 东北大学 一种以二氯化钴和五氯化钽为原料低温制备钴钽合金涂层的方法

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JPS61109772A (ja) 1986-05-28

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