JPH0570631B2 - - Google Patents

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JPH0570631B2
JPH0570631B2 JP8190384A JP8190384A JPH0570631B2 JP H0570631 B2 JPH0570631 B2 JP H0570631B2 JP 8190384 A JP8190384 A JP 8190384A JP 8190384 A JP8190384 A JP 8190384A JP H0570631 B2 JPH0570631 B2 JP H0570631B2
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JP
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hydroxy
methylnon
enes
acid
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JP8190384A
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Atsuo Hasato
Toshio Tanaka
Seiji Kurozumi
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Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】
a 産業上の利用分野 本発明は、医薬品製造に有用な中間体である3
(S)−ヒドロキシ−5−メチルノナ−1−エン類
およびその製造法に関する。更に詳細には本発明
はプロスタグランジン類の合成中間体として有用
な光学活性体である3(S)−ヒドロキシ−5(S)
又は(R)−メチルノナ−1−エン類およびその
製造法に関する。 b 従来技術 3(S)−ヒドロキシ−1−ヨード−5(S)−メ
チルノナ−1−エンおよび3(S)−ヒドロキシ−
1−ヨード−5(R)−メチルノナ−1−エンは特
開昭58−32834号公報に記載されている。特開昭
58−32834号公報によれば、該化合物はフローシ
ート−1に示されるように、光学活性なビナフト
ール フローシート−1
【化】 より得られる不斉還元剤を用い、5−メチル−1
−ヨード−ノナ−1−エン−3−オンより得られ
る。 一方、dl体から分割により該化合物を得ること
も可能であり、たとえばJ.H.Fried(J.Am.Chem
−Soc.,94,7827(1972))らの方法によれば、ア
ルコールのヘミフタレートと(−)−α−メチル
ベンジルアミンとの塩を分別再結晶によりわけと
る方法があるが、収率が低い(10〜15%)。 上記の如き3(S)−ヒドロキシ−5−メチルノ
ナ−1−エン類はその中に不斉炭素を2個ふくん
でおり、本発明者が知るかぎり、このような鎖状
アルコールの分割法は知られていない。 また、特開昭54−130556号公報には、下記式
1,2で表わされる化合物を用いた光学分割法が
記載されており、Pestic.Sci,11,188(1980)に
J.J.Martelらの分割法として下記式1,2,3,
4,を用いた光学分割法が記載されており、
Chem.Ber.115,1591(1982)にC.R.Noeの分割法
として下記式5の化合物を用いた光学分割法が記
載されている。
【式】 【式】
【式】
【式】
【式】 こうれらの化合物を用いる数種のアルコールの
光学分割法については上記の文献に記載されてい
るが、前述した3−ヒドロキシ−5−メチルノナ
−1−エン類に関しては何ら記載されていない。 c 発明の目的 本発明者らは、上記した如き点に注目し、分割
により3(S)−ヒドロキシ−5(S)又は(R)−
メチルノナ−1−エン類を得る方法について鋭意
研究した結果、新規な分割法がかかる目的を達成
し得ることを見出し本発明に到達したものであ
る。 しかして、本発明の目的は、プロスタグランジ
ンの合成中間体として有用な3(S)−ヒドロキシ
−5(S)−又は5(R)−メチルノナ−1−エン類
を提供することにある。 d 発明の構成及び作用効果 本発明によれば、下記式[I]
【化】 [式中、Xはハロゲン原子、Yは酸素原子もし
くは2個の水素原子を表わし、Aは炭素数3〜15
個を有する炭化水素を表わし、3員環またはビシ
クロ[2,2,1]環を形成する。更に炭化水素
鎖Aは1個若しくは2個以上のキラル原子を含有
するか、さもなければエーテル成分が分子全体の
不斉立体配置の故にキラル性を示すことができる
ものとする。] で表わされる3−ヒドロキシ−5−メチルノナ−
1−エン類の3(S),5(S)体,3(S),5
(R)体,3(R),5(S)体,3(R),5(R)
体もしくはそれらの任意の混合物である3−ヒド
ロキシ−5−メチルノナ−1−エン類が提供され
る。これらの中でもプロスタグランジン類の中間
体として用いることを考慮すれば、特に3(S),
5(S)体,3(S),5(R)体が好ましい。 Xはハロゲン原子を表わし、フツ素、塩素、臭
素、ヨウ素などが挙げられるが、特にプロスタグ
ランジン類を合成する中間体として用いることを
考慮に入れれば、ヨウ素が好ましい。また上記式
〔I〕において、Aを含む次式
【式】 〔ここでAおよびYは上記定義に同じである〕
は好ましくは、(1R,4R,5S)−6,6−ジメチ
ル−2−オキソ−3−オキサビシクロ〔3,1,
0〕ヘキサ−4−イルオキシ基、(1S,4S,5R)
−6,6−ジメチル−2−オキソ−3−オキサビ
シクロ〔3,1,0〕ヘキサ−4−イルオキシ
基、(3R,3aR,4S,7R,7aR)−1−オキソ−
3a,4,7,7a−テトラヒドロ−4,7−メタ
ノ−(3H)−イソベンゾフラン−3−イルオキシ
基、(3S,3aS,4R,7S,7aR)−1−オキソ−
3a,4,7,7a−テトラヒドロ−4,7−メタ
ノ−(3H)−イソベンゾフラン−3−イルオキシ
基、〔2S−(2α,3aα,4α,7α,7aα)〕−2,3

3a,4,5,6,7,7a−オクタヒドロ−7,
8,8−トリメチル−4,7−メタノベンゾフラ
ン−2−イルオキシ基などが挙げられる。 しかして本発明の3−ヒドロキシ−5−メチル
ノナ−1−エン類は下記式〔〕
【化】 〔式中、Xは上記定義に同じである。〕 で表わされる3−ヒドロキシ−5−メチルノナ−
1−エン類と下記式〔〕
【化】 [式中、AおよびYは上記定義に同じであり、
Rは水素原子又は低級アルキル基を表わすか、基
【式】〔式中、AおよびYは上記定義に同 じ。〕を表わし、ダイマーを形成する。] で表わされる化合物とを酸の存在下に反応せしめ
るか、あるいは脱水法により反応せしめることに
よつて製造される。ここで用いられる原料化合物
である3−ヒドロキシ−5−メチルノナ−1−エ
ンは、特開昭58−32834号公報にも記載されてい
るように、以下のフローシート2で示される方法
で製造される。 フローシート2
【化】
【化】
【式】 かかる原料化合物は、3位と5位に不斉炭素を
もつことにより、2つに分離することが可能であ
る。すなわち、3(S),5(R)体,3(R),5
(S)体の混合物および3(R),5(R)体,3
(S),5(S)体の混合物に分離され、この分離
された混合物を用いて反応に供してもよい。 これらの化合物を反応せしめる際に用いる酸と
しては、塩酸、硫酸、次亜塩素酸、強酸性イオン
交換樹脂、パラトルエンスルホン酸、メタンスル
ホン酸、カンフアースルホン酸、三フツ化ホウ素
などの酸性化合物またはそのピリジン塩などが好
ましく挙げられるが、特にパラトルエンスルホン
酸およびそのピリジン塩が好ましい。脱水法とし
ては共沸傾しや法を用いるかまたは脱水剤を用い
るが脱水剤としては例えば、硫酸マグネシウム、
モレキユラーシーブ、活性無水硫酸カルシウムな
どが好ましく挙げられるが、これらのものに限定
されるものではない。 酸の使用量は、3−ヒドロキシ−5−メチルノ
ナ−1−エン類に対して0.01当量から1当量であ
り、特に0.1当量から0.3当量が好ましい。また上
記式〔〕で示される分割剤の使用量は3−ヒド
ロキシ−5−メチルノナ−1−エン類に対して、
0.3当量から3当量であり、特に0.6当量から1.3当
量が好ましい。 反応せしめる際の溶媒として例えば、エーテ
ル、テトラヒドロフラン、アセトン、クロロホル
ム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、石油エーテル、ヘキサ
ンなど一般的な有機溶媒が用いられる。特に共沸
傾しや法を用いる場合には、ベンゼン、トルエン
が好ましい。 反応温度は、0℃から150℃であり、好ましく
は室温から90℃である。反応時間は、用いる触媒
や反応温度によつて異なるが、通常5分から120
時間であり、好ましくは2時間から10時間であ
る。かくして上記式〔I〕の3−ヒドロキシ−5
−メチルノナ−1−エン類が得られる。 反応終了後、目的化合物を得るにはクロマトグ
ラフイー等により3−ヒドロキシ−5−メチルノ
ナ−1−エン類骨格の5位の水酸基が結合した不
整炭素原子由来のジアステレオマー、すなわち下
記式〔I−a〕
【化】 〔式中、X,A,Yは上記定義の同じ。〕およ
び下記式〔I−b〕
【化】 で表わされる化合物をそれぞれ分離することが可
能である。かかる分離法は具体的にはシリカゲル
クロマトグラフイー、アルミナクロマトグラフイ
ー、ドライクロマトグラフイー、液体クロマトグ
ラフイー、薄層クロマトグラフイーなどが好まし
く用いられる。 このような分離法によつて、天然型のプロスタ
グランジン類に導き得る上記式〔I−a〕で表わ
される化合物及び上記式〔I−b〕で表わされる
化合物が容易に得られる。しかして上記式〔I−
a〕で表わされる化合物を中性もしくは酸剤の存
在下において、水もしくはアルコール存在下にお
いて反応せしめ、必要に応じて分離精製を行ない
下記式〔′〕
【化】 [式中、Xはハロゲン原子であり、〓は不斉中
心を表わし、R体もしくはS体またはそれらの任
意の混合物を表わす。] で表わされる光学活性な3(S)−ヒドロキシ−5
−メチルノナ−1−エン類が得られる。反応は中
性を行うことも可能であるが、酸剤を用いてもよ
い。酸剤としては、塩酸、硫酸、次亜塩素酸、パ
ラトルエンスルホン酸、カンフアースルホン酸な
どの酸性化合物またはそのピリジン塩などが好ま
しく挙げられるが、特にパラトルエンスルホン酸
およびそのピリジン塩が好ましい。 反応は水、もしくはアルコール存在下において
反応せしめるが、アルコールとしてはメタノー
ル、エタノールが好ましい。反応せしめる際の溶
媒は、水溶性のものが好ましく、たとえばジオキ
サン、テトラヒドロフラン、アセトン、メタノー
ル、エタノール、エチレングリコール、DMSO
などが好ましく挙げることができる。Xはハロゲ
ン原子であるが、特にプロスタグランジン類を合
成する中間体として用いることを考慮に入れれば
ヨウ素が好ましい。反応温度は0℃から150℃で
あり、好ましくは室温から90℃である。反応時間
は、中性であるかまたは用いる酸剤や反応温度に
よつて異なるが、通常5分から120時間であり、
好ましくは2時間から10時間である。 反応後、通常の後処理後カラムクロマトグラフ
イーにて単離精製されるが、ここで原料化合物と
して、上記式〔〕でその5位の不斉炭素が光学
活性であるものを用いた時には、3(S)−ヒドロ
キシ−5(S)−又は−5(R)−メチルノナ−1−
エン類が得られるが、原料化合物として5位の不
斉炭素が光学活性でないものを用いた時には反応
後に3(S)−ヒドロキシ−5−メチルノナ−1−
エン類が得られるため、その5位の立体異性体を
分離する必要がある。かかる分離は通常カラムク
ロマトグラフイー、すなわちシリカゲルクロマト
グラフイー、アルミナカラムクロマトグラフイ
ー、ドライカラムクロマトグラフイー、液体クロ
マトグラフイー、薄層クロマトグラフイーなどが
好ましく用いられる。 このような分離によつて、天然型のプロスタグ
ランジン類に導きうる3(S)−ヒドロキシ−1−
ヨード−5(S)−メチルノナ−1−エンおよび3
(S)−ヒドロキシ−1−ヨード−5(R)−メチル
ノナ−1−エンが得られる。そしてかかる化合物
は下記フローシート−3に示したごとく、シリル
基により水酸素が保護され、次に反応に用いられ
る。 フローシート−3
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】 このように本発明の3(S)−ヒドロキシ−5
(S)又は(R)−メチルノナ−1−エン類は光学
活性なプロスタグランジン類に導くことが可能で
ある。そして上記の如きプロスタグランジン類
は、平滑筋、血圧、脂質代謝、血小板凝集等に作
用する医薬品として有用であり、それ故に本発明
により得られる3(S)−ヒドロキシ−5(S)又
は(R)−メチルノナ−1−エン類は有用な化合
物である。 以下、本発明を実施例により更に詳細に説明す
る。 参考例 1
【化】 1−ヨード−5−メチルノナ−1−エン−3−
オン8.4g(30mmol)を30mlのエタノールにとか
し、0℃において水素化ホウ素ナトリウム570mg
(15mmol)の10mlエタノール溶液に加えた。45
分攪拌後溶媒を留去し、飽和塩化アンモニウム水
を加え酢酸エチルにて抽出を行ない、無水硫酸マ
グネシウム上で乾燥した。溶媒を減圧下留去し、
カラムクロマトグラフイー(シリカゲル、溶媒;
n−ヘキサン/酢酸エチル=19/1)にて分離精
製を行ない、3(S)−ヒドロキシ−1−ヨード−
5(R)−メチルノナ−1−エン及び3(R)−ヒド
ロキシ−1−ヨード−5(S)−メチルノナ−1−
エンの混合物(TLC;Rf=0.42、溶媒n−ヘキ
サン/酢酸エチル=9/1、シリカゲルプレー
ト)を4g(47%)及び3(S)−ヒドロキシ−1−
ヨード−5(S)−メチルノナ−1−エン及び3
(R)−ヒドロキシ−1−ヨード−5(R)−メチル
ノナ−1−エンの混合物(TLC;Rf=0.36、溶
媒n−ヘキサン/酢酸エチル=9/1、シリカゲ
ルプレート)を3.8g(45%)を得た。 NMR(δppm in CDCl3)(同一スペクトル) 6.55(1H,dd,J=14Hz,5Hz),6.2(1H,d,
J=14Hz),4.1(1H,m),1.2〜1.6(7H,m),
0.85(3H.d,J=6Hz),0.8(3H,m) IR(cm-1,neat)(同一スペクトル) 3350,2950,2900,1610,1460,1380,1170,
950 実施例 1
【化】 参考例−1で得られた3(S)−ヒドロキシ−1
−ヨード−5(R)−メチルノナ−1−エン及び3
(R)−ヒドロキシ−1−ヨード−5(S)−メチル
ノナ−1−エンの混合物208mg(0.74mmol)およ
び(1R,4R,5S)−6,6−ジメチル−4−ヒ
ドロキシ−3−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサ
ン−2−オン115mg(0.81mmol)を30mlのベンゼ
ンにとかし、PPTS(ピリジニウムパラトルエン
スルホネート)40mg(0.16mmol)を加え、この
混合物を加熱還流する。生成した水を共沸傾しや
系でとりのぞきながら6時間反応させる。反応
後、酢酸エチルを加え、水により洗浄することに
よりPPTSをのぞき、乾燥後、溶媒を留去する。
カラムクロマトグラフイー(シリカゲル、溶媒;
ベンゼン/酢酸エチル=20/1)により、(S)−
3−〔(1R,4R,5S)−6,6−ジメチル−2−
オキソ−3−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン
−4−イルオキシ〕−1−ヨード−5(R)−メチ
ルノナ−1−エン(less polar;TLC(シリカゲ
ル),Rf=0.58,溶媒ベンゼン/酢酸エチル=
10/1)130mg(43%)および(R)−3−〔(1R,
4R,5S)−6,6−ジメチル−2−オキソ−3−
オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−4−イルオ
キシ〕−1−ヨード−5(S)−メチルノナ−1−
エン(more polar;TLC(シリカゲル),Rf=
0.50,溶媒ベンゼン/酢酸エチル=10/1)125
mg(42%)を得た。
【式】(less polar part); NMR(δppm in CDCl3) 0.7〜1.0(6H,m),1.1(6H,s),1.0〜1.8
(9H,m),2.0(2H,s),4.2(1H,m),5.1
(1H,s),6.4(2H,m) IR(cm-1,neat) 2950,2900,1780,1600,1460,1380,1350,
1280
【式】(more polar part); NMR(δppm in CDCl3) 0.7〜1.0(6H,m),1.1(6H,s),1.0〜1.8
(9H,m),2.0(2H,s),4.15(1H,m),5.15
(1H,s) IR(cm-1,neat) 2950,2900,1780,1600,1460,1380,1350,
1280 実施例 2
【化】 参考例−1で得られた3(S)−ヒドロキシ−1
−ヨード−5(S)−メチルノナ−1−エン及び3
(R)−ヒドロキシ−1−ヨード−5(R)−メチル
ノナ−1−エンの混合物1g(3.5mmol)および
(1R,4R,5S)−6,6−ジメチル−4−ヒドロ
キシ−3−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−
2−オン560mg(3.9mmol)およびPPTS200mg
(0.8mmol)の100mlベンゼン溶液より、実施例1
と同様にして、(S)−3−〔(1R,4R,5S)−6,
6−ジメチル−2−オキソ−3−オキサビシクロ
〔3.1.0〕ヘキサン−4−イルオキシ〕−1−ヨー
ド−5(S)−メチルノナ−1−エン(less
polar;TLC(シリカゲル),Rf=0.58,溶媒ベン
ゼン/酢酸エチル=10/1)600mg(42%)およ
び(R)−3−〔(1R,4R,5S)−6,6−ジメチ
ル−2−オキソ−3−オキサビシクロ〔3.1.0〕
ヘキサン−4−イルオキシ〕−1−ヨード−5
(R)−メチルノナ−1−エン(more polar;
TLC(シリカゲル),Rf=0.50,溶媒ベンゼン/
酢酸エチル=10/1)585mg(41%)を得た。
【式】(less polar part);mp.56〜58 ℃ NMR(δppm in CDCl3) 0.7〜1.0(6H,m),1.1(6H,s),1.0〜1.7
(9H,m),2.0(2H,s),4.2(1H,m),5.15
(1H,s),6.4(2H,m) IR(cm-1,KBr) 2950,2900,1770,1600,1460,1400,1380,
1350,1280
【式】(more polar part);mp.51〜56 ℃ NMR(δppm in CDCl3) 0.8〜1.0(6H,m),1.1(6H,s),1.0〜1.8
(9H,m),2.0(2H,s),4.15(1H,m),5.2
(1H,s),6.45(2H,m) IR(cm-1,KBr) 2950,2900,1765,1610,1460,1400,1380,
1340,1280,1240 実施例 3
【化】 参考例−1で得られた3(S)−ヒドロキシ−1
−ヨード−5(R)−メチルノナ−1−エン及び3
(R)−ヒドロキシ−1−ヨード−5(S)−メチル
ノナ−1−エンの混合物2801mg(1mmol)およ
び(1S,4S,5R)−6,6−ジメチル−4−ヒド
ロキシ−3−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン
−2−オン156mg(1.1mmol)およびPPTS50mg
(0.2mmol)の20mlベンゼン溶液より、実施例−
1と同様にして、(S)−3−〔(1S,4S,5R)−
6,6−ジメチル−2−オキソ−3−オキサビシ
クロ〔3.1.0〕ヘキサン−4−イルオキシ〕−1−
ヨード−5(R)−メチルノナ−1−エン(more
polar;TLC(シリカゲル)Rf=0.50,溶媒ベン
ゼン/酢酸エチル=10/1)185mg(45%)およ
び(R)−3−〔(1S,4S,5R)−6,6−ジメチ
ル−2−オキソ−3−オキサビシクロ〔3.1.0〕
ヘキサン−4−イルオキシ〕−1−ヨード−5
(S)−メチルノナ−1−エン(less polar;TLC
(シリカゲル)Rf=0.58,溶媒ベンゼン/酢酸エ
チル=10/1)173mg(43%)を得た。
【式】(less polar part); NMR(δppm in CDCl3) 0.7〜1.0(6H,m),1.1(6H,s),1.0〜1.8
(9H,m),2.0(2H,s),4.15(1H,m),5.15
(1H,s),6.4(2H,m) IR(cm-1,neat) 2950,2900,1780,1600,1460,1380,1350,
1280
【式】(less polar part); NMR(δppm in CDCl3) 0.7〜1.0(6H,m),1.1(6H,s),1.0〜1.8
(9H,m),2.0(2H,s),4.2(1H,m),5.1
(1H,s),6.4(2H,m) IR(cm-1,neat) 2950,2900,1780,1600,1460,1380,1350,
1280, 実施例 4
【化】
【化】 3(S)−ヒドロキシ−1−ヨード−5(R)−メ
チルノナ−1−エン及び3(R)−ヒドロキシ−1
−ヨード−5(S)−メチルノナ−1−エンの混合
物228mg(0.8mmol)および〔2R,2R′−(2α,
2′α,3aα,3a′α,4α,4′α,7α,7′α,7aα,
7a′α)〕−2,2′−オキシビス(2,3,3a,4,
5,6,7,7a−オクタヒドロ7,8,8−ト
リメチル−4,7−メタノベンゾフラン(MBF
−O−MBFと略す)116mg(0.31mmol)を10ml
の乾燥エーテルにとかし、モレキユラーシーブ
(4Å)1gを加え、p−トルエンスルホン酸10mg
(0.06mmol)を加え、室温にて1時間攪拌する。
反応後溶媒を留去し、直接薄層クロマトグラフイ
ー(溶媒;n−ヘキサン/エーテル=30/1,シ
リカゲル)にて分離精製を行ない、O−MBF−
3(R)−ヒドロキシ−1−ヨード−5(S)−メチ
ルノナ−1−エン121mg(43%)(TLC;Rf=
0.6、溶媒n−ヘキサン/エーテル=19/1シリ
カゲル)およびO−MBF−3(S)−ヒドロキシ
−1−ヨード−5(R)−メチルノナ−1−エン93
mg(33%)(TLC;Rf=0.5、溶媒n−ヘキサ
ン/エーテル=19/1シリカゲル)を得た。
【式】(less polar part); NMR(δppm in CDCl3) 0.7〜1.0(6H,m),0.85(3H,s),0.9(3H,
s),0.95(3H,s),1.0〜1.9(16H,m),2.65〜
3.2(1H,m),4.2(2H,m),5.3(1H,s),6.3
(2H,m) IR(cm-1,neat) 2950,2900,1600,1450,1370,1170,1090,
1070,1040,990,950
【式】(more polar part); NMR(δppm in CDCl3) 0.7〜1.0(6H,m),0.85(3H,s),0.9(3H,
s),0.95(3H,s),1.0〜1.9(16H,m),2.6〜
3.1(1H,m),4.1(2H,m),4.2(1H,m),5.35
(1H,m),6.25(1H,d.J=15Hz),6.6(1H,dd,
J=15Hz,5Hz) IR(cm-1,neat) 2970,2950,2900,1610,1460,1390,1370,
1320,1210,1180,1100,1080,1040,1010,
1000,960 実施例 5
【化】 3(S)−ヒドロキシ−1−ヨード−5(S)−メ
チルノナ−1−エン及び3(R)−ヒドロキシ−1
−ヨード−5(R)−メチルノナ−1−エンの混合
物157mg(0.56mmol)およびMBF−O−MBF96
mg(0.26mmol)を10mlの乾燥エーテルにとかし、
モレキユラーシーブ(4Å)1gを加え、p−ト
ルエンスルホン酸10mg(0.06mmol)を加え、室
温にて1時間攪拌する。溶媒を留去し、そのまま
直接薄層クロマトグラフイー(溶媒;n−ヘキサ
ン/エーテル=30/1,シリカゲル)にて分離精
製を行ない、O−MBF−3(R)−ヒドロキシ−
1−ヨード−5(R)−メチルノナ−1−エン85mg
(43%)(TLC;Rf=0.6、溶媒n−ヘキサン/エ
ーテル=19/1シリカゲル)およびO−MBF−
3(S)−ヒドロキシ−1−ヨード−5(S)−メチ
ルノナ−1−エン67mg(34%)(TLC;Rf=0.5、
溶媒n−ヘキサン/エーテル=19/1シリカゲ
ル)を得た。
【式】(less polar part); NMR(δppm in CDCl3) 0.7〜1.0(6H,m),0.85(3H,s),0.9(3H,
s),0.95(3H,s),1.0〜1.9(16H,m),2.65〜
3.2(1H,m),4.2(2H,m),5.3(1H,s),6.3
(2H,m) IR(cm-1,neat) 2970,2950,2900,1600,1490,1450,1390,
1370,1310,1270,1260,1210,1180,1110,
1090,1070,1030,1010,990,950
【式】(more polar part); NMR(δppm in CDCl3) 0.7〜1.0(6H,m),0.85(3H,s),0.9(3H,
s),0.95(3H,s),1.0〜1.9(16H,m),2.65〜
3.2(1H,m),4.0(1H,m),4.2(2H,m),5.35
(1H,s),6.35(2H,m) 実施例 6
【化】 実施例−1で得られた(S)−3−〔(1R,4R,
5S)−6,6−ジメチル−2−オキソ−3−オキ
サビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−4−イルオキシ〕
−1−ヨード−5(R)−メチルノナ−1−エン
120ml(0.3mmol)を3mlのジオキサンにとかし、
3mlの水を加える。p−トルエンスルホン酸を5
mg加え、80℃に加熱し2時間攪拌する。反応後減
圧下溶媒を留去し、反応混合物を酢酸エチルにと
かし、飽和重ソウ水で洗浄を行う。水層を塩酸に
より酸性化し、酢酸エチルにより抽出を行うこと
により(1R,4R,5S)−6,6−ジメチル−2
−オキソ−3−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサ
ン−4−オール40mg(95%)が回収される。 有機層をさらに飽和食塩水にて洗浄を行い、乾
燥後溶媒を減圧下留去し、シリカゲルクロマトグ
ラフイー(溶媒;n−ヘキサン/酢酸エチル=
9/1)により3(S)−ヒドロキシ−1−ヨード
−5(R)−メチルノナ−1−エン76mg(90%)を
得た。 〔α〕23/D−1.64°(C=0.4 MeOH) 実施例 7
【化】 実施例−2で得られた(S)−3−〔(1R,4R,
5S)−6,6−ジメチル−2−オキソ−3−オキ
サビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−4−イルオキシ〕
−1−ヨード−5(S)−メチルノナ−1−エン
250ml(0.62mmol)を5mlのジオキサンおよび5
mlの水にとかし、p−トルエンスルホン酸を10mg
加え、80℃に加熱する。2時間攪拌後、実施例−
6と同様にして(1R,4R,5S)−6,6−ジメ
チル−2−オキソ−3−オキサビシクロ〔3.1.0〕
ヘキサン−4−オール81mg(92%)を回収し、3
(S)−ヒドロキシ−1−ヨード−5(S)−メチル
ノナ−1−エン160mg(95%)を得た。 〔α〕23 D−8.95°(C=0.9 MeOH) 実施例 8
【式】 実施例−5で得られたO−MBF−3(S)−ヒ
ドロキシ−1−ヨード−5(S)−メチルノナ−1
−エン65mg(0.14mmol)を2mlのメタノールに
とかし、p−トルエンスルホン酸を加え、10時間
攪拌後する。反応後酢酸エチルを加え、飽和重ソ
ウ水で洗浄後、溶媒を留去し、薄素クロマトグラ
フイー溶媒n−ヘキサン/酢酸エチル=9/1シ
リカゲル)により3(S)−ヒドロキシ−1−ヨー
ド−5(S)−メチルノナ−1−エン36mg(95%、
Rf=0.36)およびO−MBF−メタノール25mg
(85%、Rf=0.9)を得た。 〔α〕22 D+8.9°(C=0.6 MeOH)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 下記式[I] 【式】 [式中、Xはハロゲン原子、Yは酸素原子もし
    くは2個の水素原子を表わし、Aは炭素数3〜15
    個を有する炭化水素を表わし、3員環またはビシ
    クロ[2,2,1]環を形成する。更に炭化水素
    鎖Aは1個もしくは2個以上のキラル原子を含有
    するか、さもなければエーテル成分が分子全体の
    不斉立体配置の故にキラル性を示すことができる
    ものとする。] で表わされる3−ヒドロキシ−5−メチルノナ−
    1−エン類の3(S),5(S)体,3(S),5
    (R)体,3(R),5(S)体,3(R),5(R)
    体もしくはそれらの任意の混合物である3−ヒド
    ロキシ−5−メチルノナ−1−エン類。 2 上記式[I]において、Xがヨウ素原子であ
    る特許請求の範囲第1項記載の3−ヒドロキシ−
    5−メチルノナ−1−エン類。 3 上記式[I]において、Aを含む次式 【式】 (ここでAおよびYは上記定義に同じである)
    が 【式】 (1R,4R,5S)−6,6−ジメチル−2−オ
    キソ−3−オキサビシクロ[3,1,0]ヘキサ
    −4−イルオキシ基、 【式】 (1S,4S,5R)−6,6−ジメチル−2−オキ
    ソ−3−オキサビシクロ[3,1,0]ヘキサ−
    4−イルオキシ基、 【式】 [2S−(2α,3aα,4α,7α,7aα)]−2,3,
    3a,4,5,6,7,7a−オクタヒドロ−7,
    8,8−トリメチル−4,7−メタノベンゾフラ
    ン−2−イルオキシ基のいずれかである特許請求
    の範囲第1項又は第2項記載の3−ヒドロキシ−
    5−メチルノナ−1−エン類。 4 下記式[] 【式】 [式中、Xはハロゲン原子である。] で表わされる3−ヒドロキシ−5−メチルノナ−
    1−エン類と下記式[] 【式】 [式中、Yは酸素原子もしくは2個の水素原子
    を表わし、Aは炭素数3〜15個を有する炭化水素
    を表わし、3員環またはビシクロ[2,2,1]
    環を形成する。更に炭化水素鎖Aは1個若しくは
    2個以上のキラル原子を含有するか、さもなけれ
    ばエーテル成分が分子全体の不斉立体配置の故に
    キラル性を示すことができるものとする。Rは水
    素原子又は低級アルキル基を表わすか、基
    【式】[式中、AおよびYは上記定 義に同じ]を表わしダイマーを形成する。] で表わされる化合物とを酸の存在下に反応せしめ
    るか、あるいは脱水法により反応せしめることを
    特徴とする下記式[I] 【式】 [式中、XおよびA,Yは上記定義に同じであ
    る。] で表わされる3−ヒドロキシ−5−メチルノナ−
    1−エン類の製造法。 5 下記式[] 【式】 [式中、Xは上記定義に同じである。] において、3位、5位の炭素の立体化学の組み合
    せが3(S),5(R)体と3(R),5(S)体の混
    合物又は3(S),5(S)体と3(R),5(R)体
    の混合物を用いて行なう特許請求の範囲第4項記
    載の3−ヒドロキシ−5−メチルノナ−1−エン
    類の製造法。 6 式[]で示される化合物が、(1R,4R,
    5S)−6,6−ジメチル−4−ヒドロキシ−3−
    オキサビシクロ[3,1,0]ヘキサン−2−オ
    ン、又は(1S,4S,5R)−6,6−ジメチル−4
    −ヒドロキシ−3−オキサビシクロ[3,1,
    0]ヘキサン−2−オン、又は(3R,3aR,4S,
    7R,7aS)−3−ヒドロキシ−3a,4,7,7a−
    テトラヒドロ−4,7−メタノ−(3H)−イソベ
    ンゾフラン−1−オン、又は(3S,3aS,4R,
    7S,7aR)−3−ヒドロキシ−3a,4,7,7a−
    テトラヒドロ−4,7−メタノ−(3H)−イソベ
    ンゾフラン−1−オン、又は[2S−(2α,3aα,
    4α,7α,7aα)]−2,3,3a,4,5,6,7,
    7a−オクタヒドロ−7,8,8−トリメチル−
    4,7−メタノベンゾフラン−2−オール、又は
    [2R,2′R−(2α,2′α,3aα,3a′α,4α,7α,
    7′α,7aα,7a′α)]−2,2′−オキシビス(2,
    3,3a,4,5,6,7,7a−オクタヒドロ−
    7,8,8−トリメチル−4,7−メタノベンゾ
    フラン)である特許請求の範囲第4項〜第5項の
    いずれか1項記載の3−ヒドロキシ−5−メチル
    ノナ−1−エン類の製造法。 7 酸が、塩酸、硫酸からなる群より選ばれた少
    なくとも一種である特許請求の範囲第4項〜第6
    項のいずれか1項記載の3−ヒドロキシ−5−メ
    チルノナ−1−エン類の製造法。 8 酸が、パラトルエンスルホン酸、メタンスル
    ホン酸、カンフアースルホン酸、それらのピリジ
    ン塩からなる群より選ばれた少なくとも1種であ
    る特許請求の範囲第4項〜第6項のいずれか1項
    記載の3−ヒドロキシ−5−メチルノナ−1−エ
    ン類の製造法。 9 脱水法を共沸傾しや法を用いて行なう特許請
    求の範囲第4項〜第6項のいずれか1項記載の3
    −ヒドロキシ−5−メチルノナ−1−エン類の製
    造法。 10 脱水法を、モレキユラーシーブ、活性無水
    硫酸カルシウム、無水硫酸マグネシウムからなる
    群より選ばれた少なくとも1種を用いて行なう特
    許請求の範囲第4項〜第6項のいずれか1項記載
    の3−ヒドロキシ−5−メチルノナ−1−エン類
    の製造法。
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