JPH0571614B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

［産業上の利用分野］ 本発明は、ポリエステルフイルム、更に詳しく
は、包装用、コンデンサー用、および磁気テープ
用ベースフイルムなどとして好適なポリエステル
フイルムに関するものである。 ［従来の技術］ 従来、二軸配向ポリエステルフイルムには、ハ
ンドリング性、易滑性をもたせるために、酸化チ
タン、シリカ、炭酸カルシウム等の不活性物質を
含有させておく手段（例えば、特開昭55−133431
号公報など）が知られている。 ［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、フイルムの加工工程、たとえば
包装用途における印刷工程、磁気媒体用途におけ
る磁性層塗布・カレンダー工程などの工程速度の
増大にともない、フイルムに要求される耐摩耗性
は益々厳しくなつているため、上述の如き従来の
ポリエステルフイルムでは、接触するロールなど
でフイルムの表面が削られることにより、加工工
程上、製品性能上のトラブルとなるという欠点
が、最近、問題となつてきている。 本発明の目的は、かかる課題を解消せしめ、耐
摩耗性、特に耐削れ性、耐スクラツチ性などに優
れたポリエステルフイルムを提供せんとするもの
である。 ［課題を解決するための手段］ 平均粒径が0.08〜3μｍの不活性粒子を0.01〜５
重量％含有する二軸配向ポリエステルフイルムで
あつて、該フイルムと該不活性粒子の密度差が
0.65ｇ／cm³以下であり、かつ該フイルムの厚さ方
向屈折率が1.47〜1.53であることを特徴とする二
軸配向ポリエステルフイルムに関するものであ
る。 本発明のポリエステルは特に限定されないが通
常ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
α，β−ビス（２−クロルフエノキシ）エタン
４，4′−ジカルボキシレート、ポリエチレン２，
６−ナフタレート、ポリブチレンテレフタレート
等が用いられる。中でもポリエチレンテレフタレ
ートが好ましい。 本発明フイルムには該二軸配向フイルムとの密
度差が、0.65ｇ／cm³以下、好ましくは0.55ｇ／cm³
以下、さらに好ましくは0.50ｇ／cm³以下の不活性
粒子が含有されているのが望ましい。該フイルム
と該不活性粒子との密度差が上記範囲より大きい
と、耐削れ性が不良となるので好ましくない。該
フイルムと該不活性粒子との密度差の下限は特に
定められないが、−0.7ｇ／cm³位が製造上の限界で
ある。また、該フイルムと該不活性粒子との密度
差を上記の範囲とするのに好適な不活性粒子とし
ては、例えばシリコン粒子、ポリイミド粒子、架
橋スチレン−ジビニルベンゼン共重合体粒子、架
橋ポリエステル粒子、テフロン（登録商標名）粒
子などの有機高分子粒子、及び窒化ホウ素粒子な
どが挙げられるが、なかでも有機高分子粒子、特
に架橋球状スチレン−ジビニルベンゼン共重合体
粒子などの高分子架橋重合体粒子が好ましい。 本発明のポリエステルフイルムに用いる不活性
粒子の平均粒径は0.08〜3μｍ、好ましくは0.1〜
1.5μｍ、さらに好ましくは0.1〜0.48μｍである。
平均粒径が上記範囲より大きいと耐削れ性が不良
となるので好ましくない。また、平均粒径が上記
範囲より小さくても耐スクラツチ性が不良となる
ので好ましくない。 本発明のポリエステルフイルムには不活性粒子
が0.01〜５重量％、好ましくは0.1〜２重量％含
有されている必要がある。含有量が上記範囲より
多いと耐削れ性が不良となり、少ない耐スクラツ
チ性が不良となるので好ましくない。 本発明のポリエステルフイルムに用いる不活性
粒子の粒度分布は重量平均粒子直径と数平均粒子
直径の比で1.1〜2.0、好ましくは1.15〜1.8の範囲
であると、耐スクラツチ性が特に良好となるので
好ましい。 また、本発明のポリエステルフイルムに用いら
れる不活性粒子の形状係数は、0.85〜1.0の間で
あることが、耐スクラツチ性をさらに良好とする
のに有効である。 本発明のポリエステルフイルムに高分子架橋重
合体粒子を用いる場合には、高分子架橋重合体粒
子の架橋度は、25％以上、好ましくは35％以上で
あると、突起先端曲率半径βを本発明の範囲内と
するのに有効である。重合方法は特に限定されな
いが、乳化重合を用いると突起先端曲率半径βを
本発明の範囲内とするのに有効である。 本発明のポリエステルフイルムに含有される不
活性粒子の結晶化促進係数は、−５〜＋10℃の範
囲である場合が、突起先端曲率半径を本発明の範
囲内とするのに特に有効である。 本発明フイルムに含有される不活性粒子の弾性
率は、特に限定されないが、400〜10000Kg／mm²、
好ましくは500〜7500Kg／mm²の範囲であると、突
起先端曲率半径βを本発明の範囲内とするのに有
効である。 また、不活性粒子の耐熱温度は350℃以上、好
ましくは380℃以上であることが、突起先端曲率
半径βを本発明の範囲内とするのに極めて有効で
ある。 また該粒子はポリエステルと実質的に反応しな
いほうが好ましい。実質的に反応しない粒子と
は、粒子がポリエステル中に含有されているとき
にポリエステルと化学反応を起こすことなく、か
つ、粒子とポリエステルの間に共有結合やイオン
結合などの化学的結合を持たせない粒子のことを
示す。粒子とポリエステルが反応する場合には、
粒子同志の凝集も多くなり粗大粒子となつて、耐
削れ性が不良となるので好ましくない。 また粒子と共に分散剤を添加することは、粒子
の凝集を防ぎ、耐削れ性をより一層良好とするの
に好ましい。 尚、本発明で用いるポリエステルフイルムに
は、本発明の目的を阻害しない範囲であれば、該
不活性粒子以外の粒子が含まれていてもかまわな
い。 特に本発明で用いるポリエステルフイルムに不
活性粒子として有機高分子粒子を用いる場合に
は、極少量の無機粒子を含有することにより耐ス
クラツチ性が良好となるので好ましい。この時無
機粒子の添加量は0.005〜0.5重量％の範囲で、か
つ、有機高分子粒子の含有量よりも少量である場
合が耐スクラツチ性をより一層良好とするために
好ましい。また、該無機粒子の平均粒径は0.4〜
2.0μｍの範囲であると耐スクラツチ性がより良好
となるので好ましく、この時、該無機粒子の平均
粒径が有機高分子粒子の平均粒径よりも大きいと
耐スクラツチ性がさらに良好となるので好まし
い。無機粒子の種類としては、例えば二酸化チタ
ン、シリカ、炭酸カルシウム、リン酸カルシウ
ム、アルミナなどがあるが、シリカが好ましく、
特にコロイダルシリカが好ましい。 また、内部析出粒子を併用しても良い。 次に本発明フイルムは、厚さ方向屈折率が1.47
〜1.53、好ましくは1.475〜1.52、さらに好ましく
は1.48〜1.51であるのが望ましい。厚さ方向屈折
率が上記範囲より小さいと、耐削れ性が不良とな
り、たとえば磁気テープとした時のドロツプアウ
トが不良となるので好ましくない。また、厚さ方
向屈折率が上記範囲より大きいと、滑り性が不良
となり好ましくない。 本発明のポリエステルフイルムに有機高分子粒
子を用いる場合には、表面に形成される突起高さ
20nｍ以上の全突起のうち、その半数以上の突起
について、好ましくは80％以上の突起について、
突起高さｈ（単位μｍ）と突起先端曲率半径β（単
位μｍ）の関係が下式(1)、更に好ましくは下式(2)
を満足していることが特に好ましい。 0.1×h^-0.3＜β＜1.0×h^-0.9 ……(1) 0.1×h^-0.4＜β＜0.55×h^-0.9 ……(2) 突起高さ20nｍ以上の全突起のうち、その半数
以上の突起についての突起先端曲率半径βが、上
記関係式で示す範囲内でない場合には、耐スクラ
ツチ性が不良となるので好ましくない。 また突起個数は特に限定されないが、20000〜
250000個／mm²の範囲であると耐スクラツチ性がさ
らに良好となるので好ましい。 更に、本発明フイルムの平均表面粗さは特に限
定されないが、少なくとも片面の平均表面粗さが
0.003〜0.060μｍの範囲にある場合に滑り性及び
耐削れ性が共により一層良好となるので望まし
い。 また本発明フイルムの静摩擦係数は、特に限定
されないが、少なくとも片面の静摩擦係数が0.2
〜3.0の範囲にある場合に耐削れ性がより一層良
好となるので望ましい。 更に、本発明のポリエステルフイルムは突起高
さ標準偏差が1μｍ以下、好ましくは0.5μｍ以下の
範囲であると、耐スクラツチ性がより一層良好と
なるので望ましい。 次に本発明フイルムの製造方法を説明する。 まず、所定のポリエステルに不活性粒子を含有
せしめる方法としては、重合前、重合中、重合後
のいずれに添加してもよいが、ポリエステルのジ
オール成分であるエチレングリコールなどに、ス
ラリーの形で混合、分散せしめて添加する方法を
用いると本発明の効果がいつそう大きくなるので
好ましい。また、この時、微細なガラスビース等
のメデイアとして分散させたのち、ガラスビーズ
を除去するメデイア分散法などで高度に粒子を分
散させると、高精度濾過が容易となり、厚さ方向
屈折率を本発明の範囲内とするのに極めて有効で
ある。また、エチレングリコールスラリーの段階
で粒子に加熱処理を行なうことは突起先端曲率半
径を本発明の範囲内とするのに好適である。 また、粒子の含有量を調節する方法としては、
高濃度のマスターペレツトを製膜時に稀釈する方
法を用いると本発明の効果がいつそう大きくなる
ので好ましい。 次に、このポリエステルを十分乾燥した後、押
出機に供給し、高精度濾過した後スリツト状口金
から溶融押出し、冷却固化せしめて未延伸フイル
ムを作る。この時、フイルムと含有粒子の密度差
が小さいと、特異な相互作用が現われるため、高
精度濾過を行なわないと、このあとの延伸を満足
に行なうことができず、本発明の厚さ方向屈折率
を得るのが困難となる。この時、押出温度は低い
方が好ましく、265℃〜300℃の間で押し出すこと
が、突起先端曲率半径βを本発明の範囲内とする
のに好適である。特に、押出機の原料供給部の温
度は265℃〜280℃の範囲であることが好ましい。
また、ポリエステルの押出機中での滞留時間は短
い方が良く、滞留時間が30分以内である場合が、
突起先端曲率半径βを本発明の範囲内とするのに
好適である。 またキヤスト時のドラフト比（口金のスリツト
幅／未延伸フイルムの厚み）は３〜10倍程度の高
い値であることが好ましい。フイルムと含有粒子
の密度差が小さいと、特異な相互作用が現われる
ため、ドラフト比が高くないと十分な延伸ができ
ず、厚さ方向屈折率を本発明の範囲内とするのが
難しい。 次にこの未延伸フイルムを二軸延伸し、二軸配
向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法
または同時二軸延伸法を用いることができる。た
だし、最初に長手方向、次に幅方向の延伸を行な
う逐次二軸延伸法を用いた方が、突起先端曲率半
径βを本発明の範囲内とするのに好適である。 長手方向の延伸条件は100〜130℃という高温
で、しかも２段または３段に分けて、４〜５倍延
伸する方法が、突起先端曲率半径βを本発明の範
囲内とするのに好適である。 幅方向の延伸は、80〜120℃で３〜４倍延伸す
るのが好ましいが、幅方向の延伸温度が長手方向
の延伸温度より低いと、突起先端曲率半径βを本
発明の範囲内とするのに好適である。 また、一旦、二軸延伸したフイルムを少なくと
も一方向に更に延伸しても良い。 また必要に応じて、この延伸フイルムを熱処理
することもできる。この場合の熱処理条件として
は、定長下で150〜220℃、好ましくは170〜210℃
の範囲で0.5〜30秒間行なうことが好ましい。 また、このフイルムにカレンダー処理を行なう
ことは、突起先端曲率半径を本発明の範囲内とす
るのに有効である。カレンダーの条件は特に限定
されないが、温度30〜90℃で線圧30〜250Kg／cm
の範囲が好ましい。カレンダー処理は熱処理の後
に行なつても良いが、熱処理の前に行なつても良
い。 ［作用］ 本発明フイルムは、含有する粒子フイルムとの
密度差を特定の範囲とし、かつ粒子の粒径と添加
量が特定の範囲であり、かつ厚さ方向屈折率を特
定の範囲としたため、粒子とポリエステルの親和
性が向上し特異な相互作用を示し、効果的に表面
突起が生成し、かつ粒子の脱落がなくなるものと
推定される。 ［特性の測定法］ 本発明の特性値は次の測定法、評価基準による
ものである。 平均粒径 粒子をエチレングリコール中に均一に分散し
てスラリーとし、これを測定に便利な濃度に希
釈し、遠心沈降式粒子径測定装置（島津製作所
製SA−CP2型）で測定する。得られた粒子径
分布を対数確率紙にプロツトし、積算通過百分
率が50％となつた点のメジアン径を、その粒子
の平均粒径とした。 粒子含有量 析出粒子量の測定：ポリエステルを溶解さ
せ、かつ粒子を溶解させない溶媒にポリエステ
ル100グラムを加えて加熱し、完全にポリエス
テルを溶解させる。この溶液を日立工機(株)製超
遠心機55P−72を用い、30000rpmで40分間遠
心分離を行ない、得られた粒子を真空乾燥す
る。該粒子を走査形差動熱量計にて測定した
時、ポリエステルに相当する融解ピークが認め
られる場合には該粒子に再び溶媒を加え、加熱
溶解後、遠心分離操作を行なう。融解ピークが
認められなくなつた時、この粒子の重量を測定
する。この重量を100グラムで割り、パーセン
ト表示したものを含有量とした。 なお、通常遠心分離操作は３回程度で十分で
ある。 また、必要に応じて熱分解ガスクロマトグラ
フイーや赤外吸収、ラマン散乱、SEM−XMA
などを利用して定量する。 結晶化促進係数 パーキンエルマー社製のDSC（示差走査熱量
計）型を用いて測定したポリマの冷結晶化温
度Tccとガラス転移点Tgの差（Tcc−Tg）を
ΔTcgと定義し、１重量％の粒子を含有するポ
リエステルのΔTcg（）、およびこれと同粘度
の粒子を含有しないポリエステルのΔTcg（）
を測定し、ΔTcg（）とΔTcg（）の差
［ΔTcg（）−ΔTcg（）］をもつて、その粒子
の結晶化促進係数とした。 なお、DSCの測定条件は次の通りである。
すなわち、試料10mgをDSC装置にセツトし、
300℃の温度で５分間溶融した後、液体窒素中
に急冷する。この急冷試料を10℃／分で昇温
し、ガラス転移点Tgを検知する。さらに昇温
を続け、ガラス状態からの結晶化発熱ピーク温
度をもつて冷結晶化温度Tccとした。 粒子の弾性率 ダイヤモンド圧子を備えた超微小硬度計を用
いて、粒子をダイヤモンド圧子で押し込み、押
し込み深さと荷重の関係より弾性率を算出す
る。また粒子と同じ組成を持つた樹脂片を用い
算出することもできる。 密度 フイルムと含有粒子の密度差は、（含有粒子
の密度）−（フイルムの密度）をもつて密度差と
した。ただし、上記密度は、それぞれ次の測定
法に基づき測定した。 ａ 含有粒子の密度 JIS−Ｚ−8807に基づき測定した。 ｂ フイルムの密度 四塩化炭素とｎ−ヘプタンからなる密度勾
配管を用いて、25℃にて測定した。 屈折率 ナトリウムＤ線（波長589nｍ）を光源とし
てアツベ屈折率計を用いて25℃、65％RHにて
測定した。なお、マウント液にはヨウ化メチレ
ン溶液を用いた。 突起個数、突起高さ標準偏差 ２検出器方式の走査型電子顕微鏡［ESM−
3200、エリオニクス(株)製］と断面測定装置
［PMS−１、エリオニクス(株)製］においてフイ
ルム表面の平坦面の高さを０として走査した時
の突起の高さ測定値を画像処理装置
［IBAS2000、カールツアイス(株)製］（512×512
画素）に送り、画像処理装置上にフイルム表面
突起画像を再構築する。この測定された個々の
突起部分の中で最も高い値をその突起の高さと
し、個々の突起について突起高さを求める。こ
の測定を場所をかえて50回繰返す。この時、突
起高さが20nｍ以上の突起個数をカウントし、
１mm²あたりに換算したものを突起個数とした。 また、上記の測定された全ての突起の高さ
を、突起高さ０を中心とする正規分布に当ては
め、この時の標準偏差を突起高さ標準偏差とし
た。 尚、走査型電子顕微鏡の倍率は、通常3000倍
であるが、突起の大きさに応じて2000〜5000倍
の範囲の間で最適な倍率を選択することができ
る。 突起先端曲率半径β 上記突起高さ標準偏差、及び突起個数を測定
する時と同時に、走査型電子顕微鏡及び断面測
定装置からの高さ情報を、画像処理装置（512
×512画素）上に送りフイルム表面突起画像と
して再構築し、測定された個々の突起のうち突
起高さが20nｍ以上のものについて、突起先端
曲率半径βを次の定義に基づき計算した。 画像処理装置（512×512画素）上で、フイル
ム表面突起画像の突起の頂点を通る突起の断面
曲線（ｙ＝ｆ(x)）において、突起の頂点を中心
とする前後合わせて９画素の部分に対応する高
さの値を、下式(3)で表わす関数に最小二乗法で
補間し、下式(4)に従い長手方向の曲率半径
βMDと幅方向の曲率半径βTDを計算した。次
に、この値より、突起先端曲率半径βを下式(5)
により算出した。 なお、走査型電子顕微鏡の倍率は、通常3000
倍であるが、突起の大きさに応じて2000〜5000
倍の範囲の間で最適な倍率を選択することがで
きる。 ｙ＝ax²＋bx＋ｃ ……(3) β_MD,TD＝１／｜y″｜ ……(4) β＝2β_MDβ_TD／（β_MD＋β_TD） (5) 滑り性 フイルムを1/2インチにスリツトし、テープ
走行性試験機TBT−300型（(株)横浜システム研
究所製）を使用し、20℃、60％RH雰囲気で走
行させ、初期のμKを下記の式より求めた。 μK＝0.733log（T₁／T₂） ここでT₂は入側張力、T₁は出側張力である。
ガイド径は６mmφであり、ガイド材質は
SUS27（表面粗度0.2S）、巻き付け角は180°、走
行速度は3.3cm／秒である。 上記μKが0.35以下であるものを滑り性良好
とした。μKが0.35という値はフイルム加工時
または、製品としたときの滑り性が極端に悪く
なるかどうかの臨界の値である。 耐削れ性 フイルムを幅1/2インチにテープ状にスリツ
トしたものに片刃を垂直に押しあて、さらに
0.5mm押し込んだ状態で20cm走行させる（走行
張力：500ｇ、走行速度：6.7cm／秒）。この時
片刃の先に付着したフイルム表面の削れ物の高
さを顕微鏡で読みとり、削れ量とした（単位は
μｍ）。この削れ量が8μｍ以下の場合は耐削れ
性：良好、8μｍを越える場合は耐削れ性：不
良と判定した。この8μｍという値は、フイル
ム加工時や製品としたときの走行時にフイルム
表面が摩耗して発生する摩耗粉が製品の品質に
影響を及ぼすか否かの臨界値である。 耐スクラツチ性 フイルムを幅1/2インチのテープ状にスリツ
トし、張力300ｇ、走行速度200ｍ／分で、ビデ
オカセツトのテープガイドピン（表面粗さが
Rtで2500nｍ程度の表面を持つたステンレス製
ガイドピン）上を巻き付け角90°で走行させ、
その時につく傷の量を次の基準にしたがい目視
で判定した。 まつたく傷のないもの……５点 浅い傷のあるもの……３点 深い傷が多数あるもの……１点 また、５点と３点の中間を４点、３点と１点
の中間を２点とした。この時、３点以上を耐ス
クラツチ性良好、３点未満を耐スクラツチ性不
良とした。 この時の判定で３点未満のフイルムは、フイ
ルムの加工時や製品としたときの走行時にフイ
ルム表面が摩耗して深い傷が発生するため、製
品の品質が著しく悪くなる。 粒子耐熱温度 島津製作所製TG−30Mを用いて、昇温速度
10℃／分、窒素中で熱重量分析を行ない、10％
減量時の温度を熱分解温度とした。尚、試料重
量は５mgとした。 形状係数 電子顕微鏡にて粒子を観察し、イメージアナ
ライザーにてひとつの粒子について最大直径と
円相当径を測定し、最大直径と円相当径の比を
求める。この測定を500個の粒子について測定
し、この最大直径と円相当径の比の平均を形状
係数とした。 重量平均粒子直径、数平均粒子直径 電子顕微鏡にて粒子を観察し、イメージアナ
ライザーにて粒子の円相当径（Di）を500個に
ついて測定し、数平均粒子直径（Dn）、重量平
均粒子直径（Dw）を下式(6)、(7)に基づいて計
算する。 Dn＝ΣDi／500（ｉ＝１〜500） ……(6) Dw＝（ΣDi³／500）^(1/3)（ｉ＝１〜500）
……(7) 表面粗さ 小坂研究所製の高精度薄膜段差測定器ET−
10を用いて測定した。条件は下記のとおりであ
り、20回の測定の平均値をもつて表面粗さとし
た。 ●触針先端半径：0.5μｍ ●触針荷重：５mg ●測定長：１mm ●カツトオフ値：0.08mm ［実施例］ 次に実施例に基づき、本発明の実施態様を説明
する。 実施例 １（第１表） 平均粒径0.4μｍ、密度1.13ｇ／cm³の架橋スチレ
ン−ジビニルベンゼン共重合体粒子をメデイア分
散法でエチレングリコール中に均一に分散させ、
ジメチルテレフタレートと重合して、ポリエチレ
ンテレフタレートのペレツトを得た。ポリエステ
ルに対する粒子の含有量は、0.25重量％であつ
た。 このペレツトを、180℃で３時間減圧乾燥
（3Torr）した後、押出機に供給し、高精度濾過
した後300℃で溶融押出し、静電印加キヤスト法
を用いて表面温度30℃のキヤステイングドラムに
巻きつけて冷却固化し、厚さ約150μｍの未延伸
フイルムを作つた。この時のドラフト比は6.7で
あつた。 この未延伸フイルムを90℃にて長手方向に3.4
倍延伸した。この一軸フイルムをステンタを用い
て100℃で幅方向に3.6倍延伸し、定長下で210℃
にて５秒間熱処理し、厚さ12μｍのフイルムを得
た。 このフイルムの厚さ方向屈折率は1.490であつ
た。 また、このフイルムの密度は1.381ｇ／cm³であ
り、含有粒子との密度差は−0.251ｇ／cm³であつ
た。 このフイルムの平均表面粗さは、0.0165μｍで
あつた。 次にこのフイルムの耐削れ性を測定すると、
3.5μｍであり、非常に良好であつた。また滑り性
も0.20で非常に良好であつた。 このように、フイルムと含有粒子との密度差を
特定の範囲とし、かつ粒子の平均粒径と含有量を
特定の範囲とし、しかも厚さ方向屈折率を特定の
範囲とすることにより、滑り性と耐削れ性を共に
満足する優れたフイルムとなり得ることが分る。 実施例２〜４、比較例１〜５（第１表） 含有する粒子の種類、平均粒径、含有量、製膜
条件などを種々変えて、実施例１と同様にポリエ
チレンテレフタレートの二軸配向フイルムとし
た。フイルムと含有粒子との密度差、粒子の平均
粒径、含有量、厚さ方向屈折率の全てが本発明の
範囲内であるものは、滑り性と耐削れ性が共に良
好であつた。（実施例２〜４）。 しかし、フイルムと含有粒子との密度差、粒子
の平均粒径、含有量、厚さ方向屈折率のいずれか
が本発明外であるときは、滑り性と耐削れ性を共
に満足させることはできなかつた（比較例１〜
５）。 実施例 ５（第２表、第３表） 平均粒径0.29μｍで重量平均粒子直径と数平均
粒子直径の比が1.2であり、かつ結晶化促進係数
が0.8℃、粒子耐熱温度が420℃の架橋球状スチレ
ン−ジビニルベンゼン共重合体粒子をエチレング
リコール中に均一に分散させ、190℃で１時間加
熱処理をおこなつた。このスラリーをジメチルテ
レフタレートと重合して、ポリエチレンテレフタ
レートのペレツトを得た。ポリマーに対する粒子
の含有量は、0.25重量％であつた。 このペレツトを、160℃で３時間減圧乾燥
（3Torr）した後、押出機に供給し、280℃で溶融
押出し、高精度濾過を行なつた後、静電印加キヤ
スト法を用いて表面温度30℃のキヤステインドラ
ムに巻きつけて冷却固化し、厚さ約230μｍの未
延伸フイルムを作つた。尚、この時のドラフト比
は5.8であつた。 この未延伸フイルムを120℃にて長手方向に３
段階に分けて延伸した。延伸倍率はそれぞれ
1.705倍、1.1倍、2.4倍であつた。この一軸フイル
ムをステンタを用いて延伸速度2000％／分で105
℃で幅方向に3.6倍延伸し、定長下で210℃にて５
秒間熱処理したのち、温度50℃、線圧40Kg／cmで
カレンダー処理を行ない、厚さ14.5μｍのフイル
ムを得た。なお、ポリエステルの押出機中での滞
留時間は５分であつた。 このフイルムの20nｍ以上の突起個数は70000
個／mm²であり、また突起高さｈと突起先端曲率半
径βの関係は(1)式で示す範囲に95％が入つてい
た。 また、このフイルムの突起高さ標準偏差は
0.075μｍであつた。 つぎにこのフイルムの耐スクラツチ性を測定す
ると４点であり良好であつた。また滑り性も0.22
で良好であつた。 このように、フイルムと含有粒子との密度差を
特定の範囲とし、かつ突起先端曲率半径βが特定
の範囲であるものは、耐スクラツチ性も良好であ
るフイルムとなり得ることがわかる。 実施例６〜８、比較例６〜７（第２表、第３表） フイルムと含有粒子との密度差、含有する粒子
の粒径、含有量及び突起先端曲率半径βを種々変
えて、実施例５と同様にポリエチレンテレフタレ
ートのフイルムとした。突起先端曲率半径βが本
発明の範囲内である場合は、耐スクラツチ性が良
好であつた（実施例６〜７）。 しかし、突起先端曲率半径βが本発明の範囲外
である場合は、耐スクラツチ性を満足させること
はできなかつた（実施例８、比較例６〜７）。

【表】

【表】

【表】

【表】 ［発明の効果］ 本発明は、フイルムと含有粒子との密度差を特
定の範囲とし、かつ粒子の平均粒径と含有量を特
定の範囲とし、しかも厚さ方向屈折率を特定の範
囲とした二軸配向ポリエステルフイルムとしたの
で、粒子とポリエステルとが、特異な相互作用を
示すため、次の如き優れた効果を奏するものであ
る。 フイルムの加工工程で、加工速度が増大して
もフイルム表面が削られることがないため、削
れ物によるトラブルがなくなる。 滑り性がよく、透明性もよいので包装材料
用、工業材料用として好適である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 平均粒径が0.08〜3μｍの不活性粒子を0.01〜
   ５重量％含有する二軸配向ポリエステルフイルム
   であつて、該フイルムと該不活性粒子の密度差が
   0.65ｇ／cm³以下であり、かつ該フイルムの厚さ方
   向屈折率が1.47〜1.53であることを特徴とする二
   軸配向ポリエステルフイルム。 ２ 平均粒径0.08〜3μｍの有機高分子粒子を0.01
   〜５重量％含有し、かつ表面に形成される突起高
   さ20nｍ以上の全突起のうち、その半数以上の突
   起について、突起高さｈ（単位μｍ）と突起先端
   曲率半径β（単位μｍ）の関係が下式(1)を満足す
   ることを特徴とする二軸配向ポリエステルフイル
   ム。 0.1×h^-0.3＜β＜1.0×h^-0.9 ……(1) ３ 有機高分子粒子が高分子架橋重合体粒子であ
   る請求項２記載の二軸配向ポリエステルフイル
   ム。 ４ 有機高分子粒子が架橋球状スチレン−ジビニ
   ルベンゼン共重合体粒子である請求項２記載の二
   軸配向ポリエステルフイルム。 ５ 平均粒径0.4〜2μｍの無機粒子を0.005〜0.5重
   量％同時に含有する請求項２記載の二軸配向ポリ
   エステルフイルム。