JPH0572017B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0572017B2 JPH0572017B2 JP57174924A JP17492482A JPH0572017B2 JP H0572017 B2 JPH0572017 B2 JP H0572017B2 JP 57174924 A JP57174924 A JP 57174924A JP 17492482 A JP17492482 A JP 17492482A JP H0572017 B2 JPH0572017 B2 JP H0572017B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- oxygen
- magnetic recording
- recording medium
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/66—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/858—Producing a magnetic layer by electro-plating or electroless plating
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
産業上の利用分野
本発明は、金属薄膜型の磁気記録媒体およびそ
の製造法に関する。 従来例の構成とその問題点 近年、磁気記録の高密度化への要求とともに、
従来の塗布型のものに代つて、プラスチツク基板
上に、磁気記録層として強磁性金属薄膜を設けた
金属薄膜型の磁気記録媒体の開発が活発に進めら
れている。 金属薄膜型の磁気記録媒体はCo，Fe，Ni、あ
るいはこれらの合金の強磁性金属薄膜を斜め入射
蒸着法、斜め入射イオンプレーテイング法により
プラスチツク基板上に形成することによつて得ら
れるが、次に述べるような問題点があることがわ
かつた。 (i) 磁気特性の改善、特に抗磁力を向上させよう
とすると入射角を大きくしなければならないた
め量産性が低下する。 (ii) 一般にこれらの強磁性金属の多くは耐蝕性が
劣つているために何れかの対策を必要とする。 発明の目的 本発明は量産性を低下させることなく抗磁力を
向上させ、かつ耐蝕性をも向上させることを目的
とする。 発明の構成 本発明は標準電極電位が負の金属を酸素雰囲気
中で蒸着して非磁性基板上に前記金属と酸素を含
有する下地層を形成し、さらにこの下地層上に強
磁性金属薄膜層を形成するものである。 実施例の説明 第１図は本発明の磁気記録媒体を製造するため
の装置の一例を示す。図に示すように、真空槽１
は下地形成用の第１真空室２と磁性層形成用の第
２真空室３から成つており、それぞれ独立の真空
排気系４，５により10-4〜10-6torr迄排気されて
いる。この真空槽１内に、巻出しロール６、ガイ
ドロール８、蒸着ロール１０、巻取りロール７よ
り成る基板搬送系が設置されている。非磁性基板
９は主にプラスチツクからなり、これは最初、巻
出しロールに巻回されており、矢印の方向にガイ
ドロール８、蒸着ロール１０に沿つて搬送され、
最後は巻取りロール７に巻き取られる。非磁性基
板９が搬送している間に、第一真空室２において
は、加熱源１２によつて下地金属１１が非磁性基
板９上に蒸着される。この時、ガス導入系１５よ
り酸素ガスが導入され酸素雰囲気中で成膜され
る。続いて、第２真空室３に入り、ここでは加熱
源１４により強磁性金属１３を蒸着する。この
時、斜め蒸着用マスク１７で規定される蒸気の入
射角と、酸素導入系１６からの酸素導入量によつ
て主な磁性特性は決定される。 このようにして製造された磁気記録媒体を第２
図に示す。非磁性基板９は厚さ10〜20μmのプラ
スチツクフイルからなり、一般にはポリエステ
ル、ポリイミド、ポリアミド、ポリカーボネイト
等のフイルムが用いられるが、本発明は基板の材
質に影響されるものでない。磁性層１９は一般に
はCoを中心とした合金系からなり、1000Å／sec
の成膜速度、最小蒸気入射角は30〜50℃で形成さ
れ、膜厚は1000〜2000Åである。 次に下地層１８の形成条件について述べる。 (i) 下地形成法；下地の形成法としてスパツタ
法、イオンプレーテイング、真空蒸着法といつ
た物理蒸着法について検討した。どの方法にお
いても成膜中に酸素ガスを導入することにより
効果が確認された。成膜速度あるいは簡便さの
点から真空蒸着法を中心にして検討を進めた。 (ii) 下地成膜雰囲気；第１真空室２を10-5〜10-6
torr迄真空排気し、その後ガス導入系１５より
Ar，H2，N2，CH4，O2の各種ガスを導入し、
雰囲気依存性あるいは導入量依存性を検討し
た。その結果雰囲気に関してはO2ガスのみが
効果を示すことが確認され、導入量に関しては
下地材料、膜厚を考慮して実験的に最大効果が
得られるよう調整することを必要とした。 (iii) 下地層金属；下地層金属として、Au，Ag，
Pt，Pd，Cuの正の標準電極電位を有するも
の、またFe，Ni，Co，Al，Sn，Siの負の標準
電極電位を有するものを検討した。その結果、
明らかに両者の間には差があり、標準電極電位
が負であるものが顕著に効果が現われていた
（その詳細は後に述べる）。又、CoやNi等の磁
性材料の場合は酸素導入量を多くし、非磁性と
した方が磁気特性への影響を考慮した場合望ま
しい。 (iv) 下地層；下地層厚は約20〜30Åから効果が見
られ、約300Å迄膜厚と共に改善方向に向い、
それ以上では飽和する傾向にある。 次に本発明によつて得られた磁気記録媒体の磁
気特性、耐蝕性について述べる。先ず、試験した
試料Ａ〜Ｅの製造条件を表に示す。なお、試料Ａ
は下地層が無い場合、Ｄ，Ｅは下地層に酸素を含
まない場合でいずれも比較用である。
の製造法に関する。 従来例の構成とその問題点 近年、磁気記録の高密度化への要求とともに、
従来の塗布型のものに代つて、プラスチツク基板
上に、磁気記録層として強磁性金属薄膜を設けた
金属薄膜型の磁気記録媒体の開発が活発に進めら
れている。 金属薄膜型の磁気記録媒体はCo，Fe，Ni、あ
るいはこれらの合金の強磁性金属薄膜を斜め入射
蒸着法、斜め入射イオンプレーテイング法により
プラスチツク基板上に形成することによつて得ら
れるが、次に述べるような問題点があることがわ
かつた。 (i) 磁気特性の改善、特に抗磁力を向上させよう
とすると入射角を大きくしなければならないた
め量産性が低下する。 (ii) 一般にこれらの強磁性金属の多くは耐蝕性が
劣つているために何れかの対策を必要とする。 発明の目的 本発明は量産性を低下させることなく抗磁力を
向上させ、かつ耐蝕性をも向上させることを目的
とする。 発明の構成 本発明は標準電極電位が負の金属を酸素雰囲気
中で蒸着して非磁性基板上に前記金属と酸素を含
有する下地層を形成し、さらにこの下地層上に強
磁性金属薄膜層を形成するものである。 実施例の説明 第１図は本発明の磁気記録媒体を製造するため
の装置の一例を示す。図に示すように、真空槽１
は下地形成用の第１真空室２と磁性層形成用の第
２真空室３から成つており、それぞれ独立の真空
排気系４，５により10-4〜10-6torr迄排気されて
いる。この真空槽１内に、巻出しロール６、ガイ
ドロール８、蒸着ロール１０、巻取りロール７よ
り成る基板搬送系が設置されている。非磁性基板
９は主にプラスチツクからなり、これは最初、巻
出しロールに巻回されており、矢印の方向にガイ
ドロール８、蒸着ロール１０に沿つて搬送され、
最後は巻取りロール７に巻き取られる。非磁性基
板９が搬送している間に、第一真空室２において
は、加熱源１２によつて下地金属１１が非磁性基
板９上に蒸着される。この時、ガス導入系１５よ
り酸素ガスが導入され酸素雰囲気中で成膜され
る。続いて、第２真空室３に入り、ここでは加熱
源１４により強磁性金属１３を蒸着する。この
時、斜め蒸着用マスク１７で規定される蒸気の入
射角と、酸素導入系１６からの酸素導入量によつ
て主な磁性特性は決定される。 このようにして製造された磁気記録媒体を第２
図に示す。非磁性基板９は厚さ10〜20μmのプラ
スチツクフイルからなり、一般にはポリエステ
ル、ポリイミド、ポリアミド、ポリカーボネイト
等のフイルムが用いられるが、本発明は基板の材
質に影響されるものでない。磁性層１９は一般に
はCoを中心とした合金系からなり、1000Å／sec
の成膜速度、最小蒸気入射角は30〜50℃で形成さ
れ、膜厚は1000〜2000Åである。 次に下地層１８の形成条件について述べる。 (i) 下地形成法；下地の形成法としてスパツタ
法、イオンプレーテイング、真空蒸着法といつ
た物理蒸着法について検討した。どの方法にお
いても成膜中に酸素ガスを導入することにより
効果が確認された。成膜速度あるいは簡便さの
点から真空蒸着法を中心にして検討を進めた。 (ii) 下地成膜雰囲気；第１真空室２を10-5〜10-6
torr迄真空排気し、その後ガス導入系１５より
Ar，H2，N2，CH4，O2の各種ガスを導入し、
雰囲気依存性あるいは導入量依存性を検討し
た。その結果雰囲気に関してはO2ガスのみが
効果を示すことが確認され、導入量に関しては
下地材料、膜厚を考慮して実験的に最大効果が
得られるよう調整することを必要とした。 (iii) 下地層金属；下地層金属として、Au，Ag，
Pt，Pd，Cuの正の標準電極電位を有するも
の、またFe，Ni，Co，Al，Sn，Siの負の標準
電極電位を有するものを検討した。その結果、
明らかに両者の間には差があり、標準電極電位
が負であるものが顕著に効果が現われていた
（その詳細は後に述べる）。又、CoやNi等の磁
性材料の場合は酸素導入量を多くし、非磁性と
した方が磁気特性への影響を考慮した場合望ま
しい。 (iv) 下地層；下地層厚は約20〜30Åから効果が見
られ、約300Å迄膜厚と共に改善方向に向い、
それ以上では飽和する傾向にある。 次に本発明によつて得られた磁気記録媒体の磁
気特性、耐蝕性について述べる。先ず、試験した
試料Ａ〜Ｅの製造条件を表に示す。なお、試料Ａ
は下地層が無い場合、Ｄ，Ｅは下地層に酸素を含
まない場合でいずれも比較用である。
【表】
標準電極電位が負の金属はいずれも酸素との親
和力が強く、酸素を多く下地層中に取り込む性質
があり、この酸素が強磁性金属薄膜層内に拡散し
磁気特性や耐食性の改善につながるものと考えら
れる。なお、前頁の表中の記号「←」は「同左」
の意味である。第３図はこれら試料の磁気特性を
示したものである。測定は試料振動型の磁束計で
行つた。横軸には磁性層形成時の酸素導入量を、
縦軸には抗磁力を示している。この図から酸素を
含有した下地層を設けることにより、抗磁力を大
幅に改善できることがわかる。これは、とりもな
おさず、従来と同じ抗磁力を得ようとした場合、
磁性層形成時の入射角をもつと低くでき、したが
つて、その分だけ蒸気を有効に使用できる量産性
が向上することになる。 第４図は各試料の耐蝕性を示すもので（この場
合、磁性層の酸素導入量が0.2／mmのものをそ
れぞれ用いた）、60℃、90％湿度中での放置日数
に対する飽和磁束密度の変化を示したものであ
る。この図より耐蝕性の低下は飽和磁束密度の低
下となつて現れるが、耐蝕性の点においても、酸
素を含有した下地層のあるものの方が優れている
ことがわかる。 これらの現象は、下地層形成時にとり込まれた
酸素が磁性層の粒界に拡散していくことによつて
ひき起こされるものとも考えられる。 発明の効果 本発明によると、量産性を低下させることな
く、高抗磁力を有しかつ耐蝕性にすぐれた磁気記
録媒体を容易に得ることができる。
和力が強く、酸素を多く下地層中に取り込む性質
があり、この酸素が強磁性金属薄膜層内に拡散し
磁気特性や耐食性の改善につながるものと考えら
れる。なお、前頁の表中の記号「←」は「同左」
の意味である。第３図はこれら試料の磁気特性を
示したものである。測定は試料振動型の磁束計で
行つた。横軸には磁性層形成時の酸素導入量を、
縦軸には抗磁力を示している。この図から酸素を
含有した下地層を設けることにより、抗磁力を大
幅に改善できることがわかる。これは、とりもな
おさず、従来と同じ抗磁力を得ようとした場合、
磁性層形成時の入射角をもつと低くでき、したが
つて、その分だけ蒸気を有効に使用できる量産性
が向上することになる。 第４図は各試料の耐蝕性を示すもので（この場
合、磁性層の酸素導入量が0.2／mmのものをそ
れぞれ用いた）、60℃、90％湿度中での放置日数
に対する飽和磁束密度の変化を示したものであ
る。この図より耐蝕性の低下は飽和磁束密度の低
下となつて現れるが、耐蝕性の点においても、酸
素を含有した下地層のあるものの方が優れている
ことがわかる。 これらの現象は、下地層形成時にとり込まれた
酸素が磁性層の粒界に拡散していくことによつて
ひき起こされるものとも考えられる。 発明の効果 本発明によると、量産性を低下させることな
く、高抗磁力を有しかつ耐蝕性にすぐれた磁気記
録媒体を容易に得ることができる。
第１図は本発明による磁気記録媒体を製造する
ための装置の一例を示す図、第２図は本発明によ
る磁気記録媒体の断面図、第３図、第４図はそれ
ぞれ本発明の効果を説明するための図で、このう
ち第３図は磁性層形成時の酸素導入量と抗磁力と
の関係を示し、第４図は湿度雰囲気中での飽和磁
束密度の経時変化を示す。 １……真空槽、４，５……真空排気系、９……
非磁性基板、１０……蒸着ロール、１８……下地
層、１９……磁性層。
ための装置の一例を示す図、第２図は本発明によ
る磁気記録媒体の断面図、第３図、第４図はそれ
ぞれ本発明の効果を説明するための図で、このう
ち第３図は磁性層形成時の酸素導入量と抗磁力と
の関係を示し、第４図は湿度雰囲気中での飽和磁
束密度の経時変化を示す。 １……真空槽、４，５……真空排気系、９……
非磁性基板、１０……蒸着ロール、１８……下地
層、１９……磁性層。
Claims (1)
- １ 非磁性基板上に標準電極電位が負であるFe，
Ni，Co，Al，Sn，Siの中の少くとも一つの金属
を酸素雰囲気中で蒸着して下地層を形成し、その
後強磁性金属を蒸着して前記下地層上に強磁性金
属薄膜層を形成することを特徴とする磁気記録媒
体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57174924A JPS5963027A (ja) | 1982-10-04 | 1982-10-04 | 磁気記録媒体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57174924A JPS5963027A (ja) | 1982-10-04 | 1982-10-04 | 磁気記録媒体およびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5963027A JPS5963027A (ja) | 1984-04-10 |
| JPH0572017B2 true JPH0572017B2 (ja) | 1993-10-08 |
Family
ID=15987091
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57174924A Granted JPS5963027A (ja) | 1982-10-04 | 1982-10-04 | 磁気記録媒体およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5963027A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63313322A (ja) * | 1987-06-17 | 1988-12-21 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5921085B2 (ja) * | 1976-05-31 | 1984-05-17 | セイコーエプソン株式会社 | 磁気記録体 |
-
1982
- 1982-10-04 JP JP57174924A patent/JPS5963027A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5963027A (ja) | 1984-04-10 |
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