JPS6087425A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6087425A JPS6087425A JP19711883A JP19711883A JPS6087425A JP S6087425 A JPS6087425 A JP S6087425A JP 19711883 A JP19711883 A JP 19711883A JP 19711883 A JP19711883 A JP 19711883A JP S6087425 A JPS6087425 A JP S6087425A
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- JP
- Japan
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- film layer
- thin film
- ferromagnetic
- metal thin
- metallic film
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は強磁性金属薄膜層を記録層とする磁気記録媒
体に関し、その目的とするところは耐食性に優れた前記
の磁気記録媒体を提供することにある。
体に関し、その目的とするところは耐食性に優れた前記
の磁気記録媒体を提供することにある。
強磁性金属薄膜層を記録層とする磁気記録媒体は、通常
、金属もしくはそれらの合金などを真空蒸着等によりて
ポリエステルフィルム等の基体上に被着してつくられ、
高密度記録に適した特性を有するが、反面空気中の酸素
によって酸化され易く、この酸化によって最大磁束密度
などの磁気特性が劣化するなどの難点がある。
、金属もしくはそれらの合金などを真空蒸着等によりて
ポリエステルフィルム等の基体上に被着してつくられ、
高密度記録に適した特性を有するが、反面空気中の酸素
によって酸化され易く、この酸化によって最大磁束密度
などの磁気特性が劣化するなどの難点がある。
このため、従来から強磁性金属薄膜層上に種々の保護膜
層を設けるか、あるいは強磁性金属薄膜層表面を酸化す
るか、さらにはOrなどの非磁性金属を強磁性金属薄膜
層中に含有させるなどして耐食性を改善することが行わ
れている。ところが、保護膜層を設けたり強磁性金属薄
膜■の表面を酸化する方法では強磁性金属薄膜層の化学
的安定性が充分でなく、またOrなどの非磁性金属を含
有させる方法では強磁性金属薄膜層の化学的安定性は向
上されるものの非磁性金属が強磁性金属薄膜層の全体に
亘って一様に分布しているため、θり気持性が著しく劣
化するなどの難点がある。
層を設けるか、あるいは強磁性金属薄膜層表面を酸化す
るか、さらにはOrなどの非磁性金属を強磁性金属薄膜
層中に含有させるなどして耐食性を改善することが行わ
れている。ところが、保護膜層を設けたり強磁性金属薄
膜■の表面を酸化する方法では強磁性金属薄膜層の化学
的安定性が充分でなく、またOrなどの非磁性金属を含
有させる方法では強磁性金属薄膜層の化学的安定性は向
上されるものの非磁性金属が強磁性金属薄膜層の全体に
亘って一様に分布しているため、θり気持性が著しく劣
化するなどの難点がある。
この発明者は、かかる欠点を解消するため種々検討を行
った結果、強磁性金属薄膜層の上層部にAu、Pd、P
tSAg5.CuXPb、Sn、Al2O3,5iO1
Si02 、TiO2、ZnOから選ばれる少なくとも
1種以上の金属または金属酸化物を偏在させて含有させ
ると、強磁性金属薄膜層の化学的安定性が向上されると
ともに磁気特性が劣化することなく耐食性が改善され、
磁気特性が良好で耐食性に優れた磁気記録媒体が得られ
ることを見いだし、この発明をなすに至った。
った結果、強磁性金属薄膜層の上層部にAu、Pd、P
tSAg5.CuXPb、Sn、Al2O3,5iO1
Si02 、TiO2、ZnOから選ばれる少なくとも
1種以上の金属または金属酸化物を偏在させて含有させ
ると、強磁性金属薄膜層の化学的安定性が向上されると
ともに磁気特性が劣化することなく耐食性が改善され、
磁気特性が良好で耐食性に優れた磁気記録媒体が得られ
ることを見いだし、この発明をなすに至った。
この発明において、強磁性金属薄膜層の上層部に偏在し
て含有される金属または金属酸化物は、耐食性に優れた
Au、Pd、Pt、Ag、Cu、Pb、Sn等の金属お
よびAl2O3,5iO1Si02、TiO2、ZnO
等の金属酸化物が好ましく使用され、これらから選ばれ
る少な(とも1種以上の金属または金属酸化物が上層部
に偏在して含有される。このようにこれらの金属または
金属酸化物を上層部に偏在して含有する強磁性金属薄膜
層の形成は、基体上にまず強磁性材を真空蒸着するなど
して下層の強磁性金属薄膜層を形成し、次いでこの上に
前記の金属および金属酸化物から選ばれる少なくとも1
種以上の金属または金属酸化物と強磁性材との合金を真
空蒸着するなどしてこれらの合金からなる上層の強磁性
金属薄膜層を形成することによって行われ、この他前記
の金属酸化物から選ばれる少なくとも1種以上の金属酸
化物を強磁性金属薄膜層の上層部に偏在して含有させる
場合は、基体上にまず下層の強磁性金属薄膜層を形成し
た後、強磁性材とAI、St、Ti、Zn等との合金を
酸素ガス雰囲気下で真空蒸着してA12 o、、sio
、5i02、Zr10、TiO2等の少なくとも1種以
上の金属酸化物を含有する上層の強磁性金属薄膜層を形
成することによっても行われる。この場合強磁性相と前
記の金属との合金を酸素ガス雰囲気下で真空蒸着するな
どして酸化と真空蒸着とを同時に行うと、前記の金属が
選択的に酸化されて強磁性材は酸化されず、従って前記
の耐食性に優れた金属酸化物を含有する上層の強磁性金
属薄膜jHが形成される。
て含有される金属または金属酸化物は、耐食性に優れた
Au、Pd、Pt、Ag、Cu、Pb、Sn等の金属お
よびAl2O3,5iO1Si02、TiO2、ZnO
等の金属酸化物が好ましく使用され、これらから選ばれ
る少な(とも1種以上の金属または金属酸化物が上層部
に偏在して含有される。このようにこれらの金属または
金属酸化物を上層部に偏在して含有する強磁性金属薄膜
層の形成は、基体上にまず強磁性材を真空蒸着するなど
して下層の強磁性金属薄膜層を形成し、次いでこの上に
前記の金属および金属酸化物から選ばれる少なくとも1
種以上の金属または金属酸化物と強磁性材との合金を真
空蒸着するなどしてこれらの合金からなる上層の強磁性
金属薄膜層を形成することによって行われ、この他前記
の金属酸化物から選ばれる少なくとも1種以上の金属酸
化物を強磁性金属薄膜層の上層部に偏在して含有させる
場合は、基体上にまず下層の強磁性金属薄膜層を形成し
た後、強磁性材とAI、St、Ti、Zn等との合金を
酸素ガス雰囲気下で真空蒸着してA12 o、、sio
、5i02、Zr10、TiO2等の少なくとも1種以
上の金属酸化物を含有する上層の強磁性金属薄膜層を形
成することによっても行われる。この場合強磁性相と前
記の金属との合金を酸素ガス雰囲気下で真空蒸着するな
どして酸化と真空蒸着とを同時に行うと、前記の金属が
選択的に酸化されて強磁性材は酸化されず、従って前記
の耐食性に優れた金属酸化物を含有する上層の強磁性金
属薄膜jHが形成される。
このようにして上層の強磁性金属薄膜層中に含有させる
金属は、強磁性材よりイオン化ポテンシャルが高い場合
、酸素ガス雰囲気下で真空蒸着するなどして酸化し、金
属酸化物として含有させるのが好ましいが、強磁性材よ
りイオン化ボテンシャルが低い金属は、酸化等を行わず
、金属をそのまま含有させるのが好ましく、このように
して上層の強磁性金属薄膜層中に含有させた前記の金属
または金属酸化物は最上層の表面にいくほど濃度が高く
、下層にいくに従って漸次減少する渉度分布で含有され
、この最上層の表面にいくほど濃度が高い金属または金
属酸化物によって耐食151が充分に向上される。
金属は、強磁性材よりイオン化ポテンシャルが高い場合
、酸素ガス雰囲気下で真空蒸着するなどして酸化し、金
属酸化物として含有させるのが好ましいが、強磁性材よ
りイオン化ボテンシャルが低い金属は、酸化等を行わず
、金属をそのまま含有させるのが好ましく、このように
して上層の強磁性金属薄膜層中に含有させた前記の金属
または金属酸化物は最上層の表面にいくほど濃度が高く
、下層にいくに従って漸次減少する渉度分布で含有され
、この最上層の表面にいくほど濃度が高い金属または金
属酸化物によって耐食151が充分に向上される。
このように、前記の金属または金属酸化物を含む上層の
強磁性金属薄膜層中におけるこれらの金属または金属酸
化物の含有割合は、強磁(’l材との合計量に対して5
重量%より少ないと耐食性が充分に改善されず、50重
量%より多いと磁気特性が劣化するおそれがあるため5
〜50重引%の範囲内であることが好ましく、この上層
の強磁性金属薄膜層を下層の強磁性材のみからなる強磁
性金属薄膜層上に一体的に積層して形成される強磁性金
属mlJ層全体においては、強磁性材との金言1量に対
して0.1〜30重景%の範囲内であることが好ましい
。またこの上層の強磁性金属薄膜層の厚みは50〜1o
oo人の範囲内、特に50〜500人の範囲内であるこ
とが好ましく、50人より薄いと耐食性が充分に改善さ
れず、1000人より厚いとスペーシングロスが大きく
なって電磁変換特性に悪影響を及ぼすおそれがある。
強磁性金属薄膜層中におけるこれらの金属または金属酸
化物の含有割合は、強磁(’l材との合計量に対して5
重量%より少ないと耐食性が充分に改善されず、50重
量%より多いと磁気特性が劣化するおそれがあるため5
〜50重引%の範囲内であることが好ましく、この上層
の強磁性金属薄膜層を下層の強磁性材のみからなる強磁
性金属薄膜層上に一体的に積層して形成される強磁性金
属mlJ層全体においては、強磁性材との金言1量に対
して0.1〜30重景%の範囲内であることが好ましい
。またこの上層の強磁性金属薄膜層の厚みは50〜1o
oo人の範囲内、特に50〜500人の範囲内であるこ
とが好ましく、50人より薄いと耐食性が充分に改善さ
れず、1000人より厚いとスペーシングロスが大きく
なって電磁変換特性に悪影響を及ぼすおそれがある。
このように、耐食性に優れた金属または金属酸化物を上
層部に偏在させて含有させた強磁性金属薄膜層は、耐食
性に優れた前記の金属または金属酸化物から選ばれる少
なくとも1種以上の金属または金属酸化物を含有する上
層の強磁性金属薄膜層を、下層の強磁性材のみからなる
強磁性金属薄膜層上に一体的に積層して形成され、この
上層部に偏在して含有された金属または金属酸化物によ
って耐食性が充分に向上される。またこれらの金属また
は金属酸化物は強磁性材とともに真空蒸着等によって強
磁性金属薄膜層のJ−IN部に偏在し°ζ含有され、強
磁性金属薄膜層全体に対する含有量も少ないため、磁気
特性が劣化することもなく、化学的安定性も良好で、磁
気特性に優れかつ耐食性に優れた磁気記録媒体が得られ
る。
層部に偏在させて含有させた強磁性金属薄膜層は、耐食
性に優れた前記の金属または金属酸化物から選ばれる少
なくとも1種以上の金属または金属酸化物を含有する上
層の強磁性金属薄膜層を、下層の強磁性材のみからなる
強磁性金属薄膜層上に一体的に積層して形成され、この
上層部に偏在して含有された金属または金属酸化物によ
って耐食性が充分に向上される。またこれらの金属また
は金属酸化物は強磁性材とともに真空蒸着等によって強
磁性金属薄膜層のJ−IN部に偏在し°ζ含有され、強
磁性金属薄膜層全体に対する含有量も少ないため、磁気
特性が劣化することもなく、化学的安定性も良好で、磁
気特性に優れかつ耐食性に優れた磁気記録媒体が得られ
る。
強磁性材としては、Co、Fe、Nis Co−Ni合
金、Co−Cr合金、Co−P合金、Co−Ni−P合
金など一般に真空蒸着に使用される強磁性材が使用され
、これらの強磁性材またはこれらの強磁性材と前記耐食
性に優れた金属または金属酸化物との合金からなる強磁
性金属薄膜層は、真空蒸着の他、イオンブレーティング
およびスパッタリング等によっても基体上に被着形成さ
れる。
金、Co−Cr合金、Co−P合金、Co−Ni−P合
金など一般に真空蒸着に使用される強磁性材が使用され
、これらの強磁性材またはこれらの強磁性材と前記耐食
性に優れた金属または金属酸化物との合金からなる強磁
性金属薄膜層は、真空蒸着の他、イオンブレーティング
およびスパッタリング等によっても基体上に被着形成さ
れる。
また、基体としては、ポリエステル、ポリイミド、ポリ
アミド等一般に使用されている高分子成形物からなるプ
ラスチックフィルム、および銅などの非磁性金属からな
る金属フィルムが使用される。
アミド等一般に使用されている高分子成形物からなるプ
ラスチックフィルム、および銅などの非磁性金属からな
る金属フィルムが使用される。
次に、この発明の実施11+1について説明する。
実施例1
第1図に示すように真空槽1および2を隣接し、真空槽
l内に円筒状キャン3と強磁性材蒸発源4を配設し、同
様に真空槽2内に円筒状キャン5と強磁性材蒸発源6を
配設してなる真空蒸着装置を使用し、厚さlOμのポリ
エステルフィルム7を真空槽1内の原反ロール8よりガ
イドロール9を介して円筒状キャン3の周側面に沿って
移動させ、さらにガイドロールlOおよび真空槽2内の
ガイドロール11を介して円筒状キャン5の周側面に沿
って移動させ、ガイドロール12を介して巻き取りロー
ル13に巻き取るようにセントした。同時に真空槽1内
の強磁性材蒸発源4内に0014をセントし、真空槽2
内の強磁性材蒸発源6内にCo−Pd合金(重量比9:
1)15をセットした。次いで排気系16および17で
真空槽1および2内を5M10’)−ルまで真空排気し
、強磁性材蒸発源4内のCo14を加熱蒸発してポリエ
ステルフィルム7上にCoからなる厚さが1000人の
強磁性金属Wf、膜層を形成し、次に強磁性材蒸発源6
内のCo−Pd合金15を加熱蒸発して前記のGoから
なる強磁性金属薄膜層を含めて1200人の強磁性金属
薄膜層を形成した。しかる後、所定の巾に裁11iして
磁気テープをつくった。このようにして得られた磁気テ
ープの強磁性金属薄膜層を、電子顕微鏡で観察したとこ
ろ、第2図に示すように柱状の結晶構造を有するCo粒
子18がポリエステルフィルム7上に析出形成され、か
つその上部に同じ柱状の結晶構造を有するGo−、Pd
粒子19が析出形成されて強磁性金属薄膜層20が形成
されていた。また、この強磁性金属薄膜層中のPdの濃
度分布をオーシュ電子分光針によって關べた結果、第3
図の曲線へに示されるように厚み方向の分析で厚み20
0AまででPdの濃度分布が検知された。なお、第3図
において曲線BはCoの濃度分布であり、7はポリエス
テルフィルムである。
l内に円筒状キャン3と強磁性材蒸発源4を配設し、同
様に真空槽2内に円筒状キャン5と強磁性材蒸発源6を
配設してなる真空蒸着装置を使用し、厚さlOμのポリ
エステルフィルム7を真空槽1内の原反ロール8よりガ
イドロール9を介して円筒状キャン3の周側面に沿って
移動させ、さらにガイドロールlOおよび真空槽2内の
ガイドロール11を介して円筒状キャン5の周側面に沿
って移動させ、ガイドロール12を介して巻き取りロー
ル13に巻き取るようにセントした。同時に真空槽1内
の強磁性材蒸発源4内に0014をセントし、真空槽2
内の強磁性材蒸発源6内にCo−Pd合金(重量比9:
1)15をセットした。次いで排気系16および17で
真空槽1および2内を5M10’)−ルまで真空排気し
、強磁性材蒸発源4内のCo14を加熱蒸発してポリエ
ステルフィルム7上にCoからなる厚さが1000人の
強磁性金属Wf、膜層を形成し、次に強磁性材蒸発源6
内のCo−Pd合金15を加熱蒸発して前記のGoから
なる強磁性金属薄膜層を含めて1200人の強磁性金属
薄膜層を形成した。しかる後、所定の巾に裁11iして
磁気テープをつくった。このようにして得られた磁気テ
ープの強磁性金属薄膜層を、電子顕微鏡で観察したとこ
ろ、第2図に示すように柱状の結晶構造を有するCo粒
子18がポリエステルフィルム7上に析出形成され、か
つその上部に同じ柱状の結晶構造を有するGo−、Pd
粒子19が析出形成されて強磁性金属薄膜層20が形成
されていた。また、この強磁性金属薄膜層中のPdの濃
度分布をオーシュ電子分光針によって關べた結果、第3
図の曲線へに示されるように厚み方向の分析で厚み20
0AまででPdの濃度分布が検知された。なお、第3図
において曲線BはCoの濃度分布であり、7はポリエス
テルフィルムである。
実施例2
実施例1において、強磁性材蒸発源4内にC。
に14代えてCo−Ni合金(重量比8:2)14を使
用し、強磁性金属薄膜1−蒸発源6内にG。
用し、強磁性金属薄膜1−蒸発源6内にG。
−Pd合金15に代えてCo−A1合金(電量比7:3
)15を使用し、さらに真空槽2に取りつけたガス導入
管/21から酸素ガスを導入して酸素ガス圧をlXll
0−’)−ルとした以外は実施例1と同様にして磁気テ
ープをつくった。得られた磁気テープの強磁性金属薄膜
層を実施例1と同様にして電子顕微鏡で観察したところ
、第4図に示すように、柱状の結晶構造を有するGo−
Ni粒子22がポリエステルフィルム7上に析出形成さ
れ、かつその上部に同じ柱状の結晶構造を有毒るCo−
Al2O3粒子23が析出形成されて強磁性金属薄膜層
20が形成されていた。またこの強磁性金属薄膜層中の
AIの濃度分布をオージェ電子分光針によって調べた結
果、第5図の曲線Cに示されるように厚み方向の分析で
厚み200人まででAIの濃度分布が検知された。なお
、第5図において曲線りはGo−Niの濃度分布であり
、曲線Eは酸素の濃度分布である。また7はポリエステ
ルフィルムである。
)15を使用し、さらに真空槽2に取りつけたガス導入
管/21から酸素ガスを導入して酸素ガス圧をlXll
0−’)−ルとした以外は実施例1と同様にして磁気テ
ープをつくった。得られた磁気テープの強磁性金属薄膜
層を実施例1と同様にして電子顕微鏡で観察したところ
、第4図に示すように、柱状の結晶構造を有するGo−
Ni粒子22がポリエステルフィルム7上に析出形成さ
れ、かつその上部に同じ柱状の結晶構造を有毒るCo−
Al2O3粒子23が析出形成されて強磁性金属薄膜層
20が形成されていた。またこの強磁性金属薄膜層中の
AIの濃度分布をオージェ電子分光針によって調べた結
果、第5図の曲線Cに示されるように厚み方向の分析で
厚み200人まででAIの濃度分布が検知された。なお
、第5図において曲線りはGo−Niの濃度分布であり
、曲線Eは酸素の濃度分布である。また7はポリエステ
ルフィルムである。
比較例1
実施例1において、強磁性材蒸発源6内でのCo−Pd
合金の真空蒸着を省いた以外は実施例1と同様にして磁
気テープをつくった。
合金の真空蒸着を省いた以外は実施例1と同様にして磁
気テープをつくった。
比較例2
実施例2において、強磁性材蒸発源6内でのCo−Al
合金の真空蒸着を省いた以外は実施例2と同様にして磁
気テープをつくった。
合金の真空蒸着を省いた以外は実施例2と同様にして磁
気テープをつくった。
各実施例および各比較例で得られた磁気テープを60℃
、90%RHの条件下に放置し、時間の経過に伴う最大
磁束密度の劣化率を、放置前の磁気テープの最大磁束密
度を100%として測定し、耐食性を調べた。第6図は
その最大磁束密度の劣化率の変化をグラフで表したもの
で、グラフ八は実施例1で得られた磁気テープ、グラフ
13は実施例2で得られた磁気テープ、グラフCば比較
例1で得られた磁気テープ、グラフDは比較例2で得ら
れた磁気テープを示す。これらのグラフから明らかなよ
うに、比較例1および2で得られた磁気テープは、時間
の経過に伴って劣化率が非常に大きくなるが、この発明
で得られた磁気テープ(実施例1および2)はいずれも
時間が経過してもそれほど劣化率が大きくならず、この
ことからこの発明によって得られる磁気記録媒体は耐食
性に優れていることがわかる。
、90%RHの条件下に放置し、時間の経過に伴う最大
磁束密度の劣化率を、放置前の磁気テープの最大磁束密
度を100%として測定し、耐食性を調べた。第6図は
その最大磁束密度の劣化率の変化をグラフで表したもの
で、グラフ八は実施例1で得られた磁気テープ、グラフ
13は実施例2で得られた磁気テープ、グラフCば比較
例1で得られた磁気テープ、グラフDは比較例2で得ら
れた磁気テープを示す。これらのグラフから明らかなよ
うに、比較例1および2で得られた磁気テープは、時間
の経過に伴って劣化率が非常に大きくなるが、この発明
で得られた磁気テープ(実施例1および2)はいずれも
時間が経過してもそれほど劣化率が大きくならず、この
ことからこの発明によって得られる磁気記録媒体は耐食
性に優れていることがわかる。
第1図はこの発明の磁気記録媒体を製造するのに使用す
る真空蒸着装置の1例を示す概略断面図、第2図および
第4図はこの発明で得られた磁気テープの電子顕微鏡で
観察した強磁性金属薄膜層の拡大断面説明図、第3図お
よび第5図はこの発明で得られた磁気テープの強磁性金
属薄膜層中における強磁性材および金属の分布状態をオ
ージェ電子分光針によって調べた結果を示す説明図、第
6図はこの発明で得られた磁気テープの劣化率と経過時
間との関係図である。 7・・・ポリエステルフィルム(基体)、20・・・強
磁性金属薄膜層 特許出願人 日立マクセル株式会社 第2図 第3図 表 厚 み (A) 而 第4図 第5図 ” 厚 み(λ) 曲
る真空蒸着装置の1例を示す概略断面図、第2図および
第4図はこの発明で得られた磁気テープの電子顕微鏡で
観察した強磁性金属薄膜層の拡大断面説明図、第3図お
よび第5図はこの発明で得られた磁気テープの強磁性金
属薄膜層中における強磁性材および金属の分布状態をオ
ージェ電子分光針によって調べた結果を示す説明図、第
6図はこの発明で得られた磁気テープの劣化率と経過時
間との関係図である。 7・・・ポリエステルフィルム(基体)、20・・・強
磁性金属薄膜層 特許出願人 日立マクセル株式会社 第2図 第3図 表 厚 み (A) 而 第4図 第5図 ” 厚 み(λ) 曲
Claims (1)
- 1、基体上に強磁性金属薄膜層を設けた磁気記録媒体に
おいて、強磁性金属薄膜層の上層部に、A 11、Pd
、Pt、Ag、CuSPb、Sn、、A1203 、S
iO−S k02 、TiO2、ZnOから選ばれる
少なくとも1種以上の金属または金属酸化物を偏在させ
て含有させたことを9・N徴とする磁気記録媒体
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19711883A JPS6087425A (ja) | 1983-10-20 | 1983-10-20 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19711883A JPS6087425A (ja) | 1983-10-20 | 1983-10-20 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6087425A true JPS6087425A (ja) | 1985-05-17 |
Family
ID=16369028
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19711883A Pending JPS6087425A (ja) | 1983-10-20 | 1983-10-20 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6087425A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62107432A (ja) * | 1985-10-31 | 1987-05-18 | Teijin Ltd | 薄膜型磁気記録媒体 |
| JPS63195824A (ja) * | 1987-02-05 | 1988-08-12 | ウリ コ−ヘン | 耐摩擦金属被覆を持つた記録部材及びその製造方法 |
-
1983
- 1983-10-20 JP JP19711883A patent/JPS6087425A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62107432A (ja) * | 1985-10-31 | 1987-05-18 | Teijin Ltd | 薄膜型磁気記録媒体 |
| JPS63195824A (ja) * | 1987-02-05 | 1988-08-12 | ウリ コ−ヘン | 耐摩擦金属被覆を持つた記録部材及びその製造方法 |
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