JPH0575930B2 - - Google Patents

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JPH0575930B2
JPH0575930B2 JP59144137A JP14413784A JPH0575930B2 JP H0575930 B2 JPH0575930 B2 JP H0575930B2 JP 59144137 A JP59144137 A JP 59144137A JP 14413784 A JP14413784 A JP 14413784A JP H0575930 B2 JPH0575930 B2 JP H0575930B2
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JP
Japan
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air
clean
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room
cleanliness
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JP59144137A
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JPS6124932A (ja
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Katsuto Yagi
Juji Isayama
Hiroto Nagatomo
Fumio Suzuki
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Priority to JP14413784A priority Critical patent/JPS6124932A/ja
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Publication of JPH0575930B2 publication Critical patent/JPH0575930B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24FAIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F3/00Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
    • F24F3/12Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
    • F24F3/16Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
    • F24F3/167Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ventilation (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は半導体の製造等に用いられる清浄作業
室装置に係り、特に製造ラインごとにトンネル状
の清浄作業室を設け、それらを主通路部に枝状に
接続した形式の大規模な清浄作業室装置に関す
る。
〔発明の背景〕
この種の清浄作業室装置の基本的構成について
は特開昭58−127035号公報に開示されているが、
この従来例では、主通路部を高清浄度に保つため
高価な高性能フイルタを多量に必要とし、設備費
や運転経費が高くなるとともに、主通路部での発
塵が清浄作業室内の清浄度に影響を与えやすいと
いう問題点があつた。
以下、第8図〜第12図によりさらに詳しく説
明する。
第8図はこの清浄作業室装置を半導体の製造に
適用した場合の概略平面図で、建屋1の中に外界
から遮蔽された主通路部2を設けるとともに、こ
の主通路部2に枝状に接続したトンネル状の清浄
作業室3を露光、拡散、CVD、エツチング、メ
タライズ等の製造ラインごとに設け、この清浄作
業室3の内にそれぞれの製造ライン用機器4を設
置する。そして、隣り合う清浄作業室3の間およ
び清浄作業室3と建屋1の壁面との間に保全域5
を設け、この保全域5に製造ラインへガス、電気
等を供給するための配管6を設置することによ
り、高清浄度に維持する清浄化区域および空調対
象区域を必要最小限にするとともに、製造ライン
別の空調温度制御を可能にしている。主通路部2
は両端を建屋1の壁で仕切つて外界から遮蔽し、
外部の一般室7との間の出入口にはエアーシヤワ
ー8を設置して塵埃の侵入を防止している。
第9図は第8図の−断面図、第10図は同
−断面図である。
第11図は清浄作業室3の詳細断面図で、製造
ライン用機器4を室内に2列に配置した例を示
す。
清浄作業室3内には製造ライン用機器4を設置
した作業部9と作業者が通行する通行路10をそ
れぞれ紙面に直角の方向に細長く形成してあり、
天井部には空気浄化要素である送風機11,1
2、高性能フイルタ13,14と照明灯15,1
6を収納し、作業部9と通路部10の各天井部に
清浄空気吹出口17,18をそれぞれ設けてあ
る。送風機11,12によりプレフイルタ19を
通して吸込まれた外部空気はそれぞれ高性能フイ
ルタ13,14を通つて清浄化され、清浄空気吹
出口17,18から作業部9と通路10へ吹出さ
れる。吹出された清浄空気は矢印で示すように室
内を流れ、清浄作業室3の両側壁下部に設けられ
た排気口20から保全域5へ排出される。これに
より、清浄作業室3の室内を外気に対し正圧に保
つて外部の汚染空気が室内に侵入することを防止
するとともに、室内で発生した塵埃を速やかに排
出し、室内を所要の清浄度に維持する。洗浄空気
吹出口17,18の吹出風量、風速は作業部9と
通路部10のそれぞれの所要清浄度に応じて設定
し、洗浄空気吹出口17の直下の作業部で清浄度
が最も高くなるようにしている。
第12図は主通路部2の詳細断面図である。こ
の従来例では、主通路部2の内部空間21と第8
図に示す各清浄作業室3の室内とがそれらの間を
人の往来とともに、空気が自由に流通できるよう
に清浄作業室の入口3aで接続されているため、
主通路部内部空間21も清浄作業室3の通路部1
0と同程度の高清浄度に保つ必要がある。このた
め、第12図に示すように主通路部2の天井部に
空気浄化要素である送風機22、高性能フイルタ
23と照明灯24を収納し、内部空間21の天井
面に長手方向のほぼ全長にわたり清浄空気吹出口
25を設け、送風機22によりプレフイルタ26
を通して吸込まれた外部空気を高性能フイルタ2
3に通して清浄化して、清浄空気吹出口25から
吹出し、内部空間21を流れた清浄空気を主通路
部2の両側壁下部に設けた排気口27から保全域
5へ排出することにより、内部空間21の清浄度
を高くしている。
このように従来例では、主通路部内部空間21
を高清浄度に保つ必要上、清浄空気吹出口25の
面積を大きくとり、吹出風量を多くしていたた
め、高価な高性能フイルタ23を多量に必要とす
るとともに、送風機22の循環風量も多くなり、
設備費や運転経費が高くなる。また、主通路部内
部空間21の吹出風量が多い割に、第8図からも
分るように保全域5へ空気を排出する排気口27
の設置スペースが十分取れないため、主通路部内
部空間21の圧力が高くなつて、主通路部内部空
間21から清浄作業室3内へ空気が流入する傾向
となり、このため、主通路部2を通行する作業者
からの発塵が清浄作業室3内の清浄度に影響を与
えやすく、製造ラインにおける製品の品質をそこ
なう恐れがあつた。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、主通路部から清浄作業室への
塵埃の侵入を防止することにより、清浄作業室の
清浄度を所要レベルに維持しながら、主通路部の
清浄度を必要最小限に抑えて設備費および運転経
費を低減した清浄作業室装置を提供することにあ
る。
〔発明の概要〕
本発明は、外界から遮蔽された主通路部と、こ
の主通路部に枝状に接続され、室内を清浄化する
ための清浄空気吹出口および排気口を個別に備え
た複数のトンネル状の清浄作業室を有する清浄作
業室装置において、主通路部の清浄度よりも清浄
作業室内の清浄度の方を高くし、主通路部に接続
する清浄作業室の入口に隣接して主通路部の天井
に設けた清浄空気吹出口と主通路部の床に設けた
排気口により、清浄作業室の入口に沿つてエアー
カーテン気流を形成するとともに、このエアーカ
ーテン気流により主通路部空間を清浄化するよう
に構成したことを特徴とするものである。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の実施例を第1図〜第7図により
説明する。
第1図は本発明の一実施例を示す部分切断平面
図、第2図は第1図の−断面図、第3図は同
−断面図、第4図は−断面図で、第8図
〜第12図と同一符号は対応する部分を示してお
り、外界から遮蔽された主通路部2と、この主通
路部2に枝状に接続された複数のトンネル状の清
浄作業室3とからなる基本的構成は第8図〜第1
2図に示す従来例と同一である。
第1図〜第3図に示すように、本実施例におけ
る清浄作業室3は室内通路部10の床に排気口2
8を設けた点を除いては従来例と同様に構成され
ており、送風機11,12により給気ダクト29
からプレフイルタ19を通して吸込まれた空気は
それぞれ高性能フイルタ13,14を通つて清浄
化されて、清浄空気吹出口17,18から室内の
作業部9と通路部10に吹出し、矢印で示すよう
に室内を流れた後、床排気口28から床下排気ダ
クト30へ排出され、図面外の空調装置へもど
る。この清浄空気の循環により、製造ライン用機
器4を設置した作業部9と作業者が通行する通路
部10をそれぞれ所要の清浄度に維持する。清浄
作業室3の排気は従来例と同様に両側部の排気口
から保全域5へ出してもよい。
第1図、第3図、第4図に示すように本実施例
では、主通路部2の天井の清浄作業室入口3aに
隣接する部分にのみ清浄空気吹出口31を設け、
これに対応する排気口32を主通路部2の床の清
浄作業室入口3aに隣接する部分に設けてある。
清浄空気吹出口31の上方には送風機33、高性
能フイルタ34、プレフイルタ35を備えた空気
浄化ユニツト36を設置し、送風機33により給
気ダクト37からプレフイルタ35を通して吸込
まれた空気を高性能フイルタ34に通して清浄化
し、清浄空気吹出口31から吹出させる。吹出さ
れた清浄空気の大部分は清浄作業室入口3aに沿
つて下方に流れるエアーカーテン気流38を形成
し、床排気口32から床下排気ダクト30へ排出
される。主通路部2の床排気口32は図示のよう
に清浄作業室3の床排気口28の延長部として設
けてもよいし、清浄作業室3の排気口とは別に独
立して設けてもよい。
本実施例では、主通路部2の清浄度よりも清浄
作業室3内の清浄度も高くし、前記エアーカーテ
ン気流38により主通路部2と清浄作業室3との
間の空気の流通を遮断する。この場合、清浄作業
室3内は上部ほど清浄度が高く、外部からの汚染
空気の流入により製造ラインに影響を与えやすい
ので、主通路部2の天井に設ける清浄空気吹出口
31の幅Wは清浄作業室入口3aの幅wより大き
くすることが大切である。このように構成するこ
とにより、清浄作業室入口3aはエアーカーテン
気流38によつてほぼ完全に遮蔽され、製造ライ
ンに影響を与える主通路部2から清浄作業室3へ
の汚染空気の流入を防止することができる。ま
た、清浄空気吹出口31から吹出されたエアーカ
ーテン気流38は第4図の2点鎖線39で示すよ
うに横に拡がり、その一部は主通路部の内部空間
21に拡散するので、この気流により内部空間2
1の他の部分もある程度清浄化される。
本実施例によれば、例えば清浄作業室3の作業
部9の所要清浄度をclass10、通路部10の清浄
度をclass100とするとき、主通路部2の清浄度は
class1000程度でよく、このように主通路部2の
清浄度が低くても前述したエアーカーテン効果に
より清浄作業室3内の清浄度を所要の高レベルに
維持することができる。その結果、従来例に比べ
主通路部2に清浄空気を供給するための高性能フ
イルタの使用量が少なくてすみ、また送風機の循
環風量も少なくてよいので、装置全体の設備費お
よび運転経費を大幅に低減できる。
第5図は本発明の他の実施例を示す部分切断平
面図、第6図は第5図の−断面図、第7図は
同−断面図で、他の図と同一符号は対応する
部分を示す。
本実施例は、主通路部2の天井の清浄作業室入
口3aに隣接する部分に清浄空気吹出口31を設
け、主通路部2の床の清浄作業室入口3aに隣接
する部分に排気口32を設けて、清浄作業室入口
3aに沿つたエアーカーテン気流38を形成する
とともに、主通路部2の中央部分にも清浄空気吹
出口40とこれに対応する床排気口41を設けた
ものである。
前述したように、清浄作業室入口部分にエアー
カーテン気流38を形成することにより、常時は
主通路部2と清浄作業室3との間の空気の流通が
遮蔽されているが、清浄作業室3への人の出入な
どに伴う清浄作業室3内の清浄度低下を防止する
ため、主通路部2もある程度清浄化する必要があ
る。
もし、隣り合う清浄作業室3の間隔が広い場合
などのように、清浄作業室入口部分のエアーカー
テン気流38のみでは主通路部2の清浄度が不足
する場合には、本実施例のように主通路部2の中
央部分に清浄空気吹出口40と床排気口41を増
設することにより、必要なだけ清浄度を上げるこ
とができる。この場合、中央部分の清浄空気吹出
口40に対する床排気口41の位置は、直下より
も図示のように少しずらした方が、主通路部内部
空間21の気流分布が良くなり、清浄効果が高ま
る。中央部分の清浄空気吹出口40に対しては、
清浄作業室入口部分と同様に送風機33′、高性
能フイルタ34′、プレフイルタ35′を備えた空
気浄化ユニツト36′から清浄空気を供給する。
本実施例でも、清浄作業室入口部分のエアーカ
ーテン効果により、主通路部2の高性能フイルタ
使用量や循環風量は従来例よりも少なくてすむ。
特許請求の範囲に記載の第1の空気浄化手段と
は、例えば、実施例のフイルタ34に相当し、第
2の空気浄化手段とは、例えば、実施例のフイル
タ13,14に相当する。また、第1の排気口と
は、例えば、排気口28に相当し、第2の排気口
とは、例えば、排気口32に相当する。
〔発明の効果〕
本発明によれば、主通路部の清浄度よりも清浄
作業室内の清浄度を高くし、主通路部の清浄作業
室入口に沿つた部分にエアーカーテン気流を形成
して主通路部から清浄作業主通路部への汚染空気
の流入を防止するとともに、このエアーカーテン
気流により主通路部の内部空間を清浄化する構成
としたため、主通路部の清浄化に必要な高性能フ
イルタの使用量および送風機の循環風量を従来例
より大幅に減らして、設備費や運転経費を低減す
ることができ、かつ主通路部の発塵が清浄作業室
内の清浄度に及ぼす影響をなくし、清浄作業室内
の清浄度を所要レベルに維持することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す部分切断平面
図、第2図は第1図の−断面図、第3図は同
−断面図、第4図は同−断面図、第5図
は本発明の他の実施例を示す部分切断平面図、第
6図は第5図の−断面図、第7図は同−
断面図、第8図は従来例の概略平面図、第9図は
第8図の−断面図、第10図は同−断面
図、第11図は従来例の清浄作業室の詳細断面
図、第12図は従来例の主通路部の詳細断面図で
ある。 2……主通路部、3……清浄作業室、3a……
清浄作業室入口(開口部)、9,10……清浄作
業室の室内、13,14……高性能フイルタ(第
2の空気浄化手段)、21……主通路部の内部空
間、17,18,31,40……清浄空気吹出
口、34……高性能フイルタ(第1の空気浄化手
段)、28,32,41……排気口、38……エ
アーカーテン気流。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 外界から遮断された主通路部と、前記主通路
    部から分岐した複数の通路部と、前記主通路部と
    前記複数の通路部の境界に形成した開口部と、前
    記各通路部の両側に作業部を有して前記主通路部
    より高い清浄度を有する清浄作業室を備える清浄
    作業室装置において、 前記主通路部の天井部に部分的に設けられて、
    この主通路部に上方から清浄空気を供給する空気
    吹出口を有する第1の空気浄化手段と、 前記清浄作業室の上方に設けられ前記作業部と
    前記通路部にそれぞれ清浄空気を供給する第2の
    空気浄化手段と、 前記通路部の床面に沿つて連設された第1の排
    気口と、 第1の空気浄化手段の前記空気吹出口の下方に
    設けられ該空気吹出口よりも小さい面積の第2の
    排気口を備え、 前記第1の空気浄化手段の空気吹出口は前記開
    口部より大きい幅を有して前記開口部に臨む位置
    に設けられたことを特徴とする清浄作業室装置。
JP14413784A 1984-07-13 1984-07-13 清浄作業室装置 Granted JPS6124932A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14413784A JPS6124932A (ja) 1984-07-13 1984-07-13 清浄作業室装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP14413784A JPS6124932A (ja) 1984-07-13 1984-07-13 清浄作業室装置

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Publication Number Publication Date
JPS6124932A JPS6124932A (ja) 1986-02-03
JPH0575930B2 true JPH0575930B2 (ja) 1993-10-21

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ID=15355077

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JP14413784A Granted JPS6124932A (ja) 1984-07-13 1984-07-13 清浄作業室装置

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JPS6124932A (ja) 1986-02-03

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