JPH0577168B2 - - Google Patents
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- JPH0577168B2 JPH0577168B2 JP60171893A JP17189385A JPH0577168B2 JP H0577168 B2 JPH0577168 B2 JP H0577168B2 JP 60171893 A JP60171893 A JP 60171893A JP 17189385 A JP17189385 A JP 17189385A JP H0577168 B2 JPH0577168 B2 JP H0577168B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical signal
- optical
- selection means
- wafer
- signal selection
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の分野］
本発明は、レチクルパターンまたはマスクパタ
ーンをウエハに転写するための投影露光装置に関
し、特に投影光学系を用いたスルー・ザ・レンズ
（TTL）方式の位置合せを行なう投影露光装置に
関する。
ーンをウエハに転写するための投影露光装置に関
し、特に投影光学系を用いたスルー・ザ・レンズ
（TTL）方式の位置合せを行なう投影露光装置に
関する。
［発明の背景］
一般に、LSIまたはVLSI製造用の投影露光装
置においては、レチクルパターン（またはマスク
パターン）は1/5あるいは1/10程度の縮小倍率の
投影レンズを通してウエハに投影され、この時１
枚のウエハ上には同一パターンが繰り返し露光さ
れる。そのため、一回毎の露光の前にレチクルと
ウエハの相対位置を投影レンズを通して測定し、
位置合せする必要が生じる。この作業を自動的に
行なうためにレチクルおよびウエハには位置合せ
のためのマークすなわちレチクルマークおよびウ
エハマークが必要となる。しかも、通常、LSI、
VLSIの製造工程においては上記位置合せおよび
露光工程は複数回含まれているため、上記アライ
メントマークも前工程で使用したマークとは異な
る位置に順次複数個作り込まれることが多い。
置においては、レチクルパターン（またはマスク
パターン）は1/5あるいは1/10程度の縮小倍率の
投影レンズを通してウエハに投影され、この時１
枚のウエハ上には同一パターンが繰り返し露光さ
れる。そのため、一回毎の露光の前にレチクルと
ウエハの相対位置を投影レンズを通して測定し、
位置合せする必要が生じる。この作業を自動的に
行なうためにレチクルおよびウエハには位置合せ
のためのマークすなわちレチクルマークおよびウ
エハマークが必要となる。しかも、通常、LSI、
VLSIの製造工程においては上記位置合せおよび
露光工程は複数回含まれているため、上記アライ
メントマークも前工程で使用したマークとは異な
る位置に順次複数個作り込まれることが多い。
一般に投影露光装置の投影レンズには両テレセ
ンタイプと片テレセンタイプの二種類があり、レ
チクル投影像のウエハ側主光線は、両テレセンタ
イプも片テレセンタイプもウエハ面に垂直に入射
するが、レチクル側の主光線は両テレセンタイプ
の場合はレチクル面に垂直であるのに対し、片テ
レセンタイプの場合、光軸以外の像高ではレチク
ル面に対して垂直からはずれた傾きをもつてお
り、この傾きは像高によつて変化する。
ンタイプと片テレセンタイプの二種類があり、レ
チクル投影像のウエハ側主光線は、両テレセンタ
イプも片テレセンタイプもウエハ面に垂直に入射
するが、レチクル側の主光線は両テレセンタイプ
の場合はレチクル面に垂直であるのに対し、片テ
レセンタイプの場合、光軸以外の像高ではレチク
ル面に対して垂直からはずれた傾きをもつてお
り、この傾きは像高によつて変化する。
従つて、従来、投影レンズに片テレセンレンズ
を用い、レチクルとウエハの相対位置を検出する
ためレンズを通してウエハマークの光信号を検出
する場合、ウエハマークの像高が変わると、レチ
クル側主光線は光軸以外の像高ではレチクル面に
対し垂直からはずれた傾きをもつておりこの傾き
が像高により変化するため、ウエハマークの光信
号選択手段に入射する光信号の光軸位置が変化し
正しい光信号検出ができなくなるという欠点があ
つた。
を用い、レチクルとウエハの相対位置を検出する
ためレンズを通してウエハマークの光信号を検出
する場合、ウエハマークの像高が変わると、レチ
クル側主光線は光軸以外の像高ではレチクル面に
対し垂直からはずれた傾きをもつておりこの傾き
が像高により変化するため、ウエハマークの光信
号選択手段に入射する光信号の光軸位置が変化し
正しい光信号検出ができなくなるという欠点があ
つた。
また、投影レンズに両テレセンレンズを用い、
レンズを通してウエハマークの光信号を検出する
場合であつても、レンズにテレセン度誤差がある
場合にはウエハマークの像高が変わると光信号選
択手段に入射する光信号の光軸位置がテレセン度
誤差分だけ変化するため、片テレセンタイプのレ
ンズを用いた場合と同様に光信号選択手段に対す
る光信号の結像位置がずれてしまい正しい光信号
の検出ができなくなるという欠点があつた。
レンズを通してウエハマークの光信号を検出する
場合であつても、レンズにテレセン度誤差がある
場合にはウエハマークの像高が変わると光信号選
択手段に入射する光信号の光軸位置がテレセン度
誤差分だけ変化するため、片テレセンタイプのレ
ンズを用いた場合と同様に光信号選択手段に対す
る光信号の結像位置がずれてしまい正しい光信号
の検出ができなくなるという欠点があつた。
［発明の目的］
本発明は、上述の従来例の欠点を除去するもの
で、レチクルとウエハの相対位置合せ信号を常に
光信号選択手段の最適位置に入射させることので
きる投影露光装置を提供することを目的とする。
で、レチクルとウエハの相対位置合せ信号を常に
光信号選択手段の最適位置に入射させることので
きる投影露光装置を提供することを目的とする。
［目的を達成するための手段］
上記目的を達成するため本発明では、第１の物
体上のパターンを第２の物体に転写するための投
影光学系と、光信号選択手段を備え前記投影光学
系を介して第２の物体からの光信号を電気信号に
変換する光電変換手段を備えたアライメント光学
系を有する投影露光装置において、前記光信号選
択手段に対する光信号光軸のずれを合致させるた
めに前記アライメント光学系内の前記光信号選択
手段の前に光信号光軸を変化させる光学手段を有
することを特徴とする。具体例としては、投影レ
ンズのテレセン度特性による光信号結像位置の変
動に応じて平行平面ガラスを傾かせ光信号光軸を
平行移動させることにより光信号光軸位置と光信
号選択手段との相対位置を自動的に補正する機能
を持ち、レチクルとウエハの相対位置合せ信号を
常に光信号選択手段の最適位置に入射させる。
体上のパターンを第２の物体に転写するための投
影光学系と、光信号選択手段を備え前記投影光学
系を介して第２の物体からの光信号を電気信号に
変換する光電変換手段を備えたアライメント光学
系を有する投影露光装置において、前記光信号選
択手段に対する光信号光軸のずれを合致させるた
めに前記アライメント光学系内の前記光信号選択
手段の前に光信号光軸を変化させる光学手段を有
することを特徴とする。具体例としては、投影レ
ンズのテレセン度特性による光信号結像位置の変
動に応じて平行平面ガラスを傾かせ光信号光軸を
平行移動させることにより光信号光軸位置と光信
号選択手段との相対位置を自動的に補正する機能
を持ち、レチクルとウエハの相対位置合せ信号を
常に光信号選択手段の最適位置に入射させる。
［作用および効果］
上記構成によれば、光信号選択手段に対して光
信号光軸がずれているときは光信号選択手段の前
に配置した光学手段により光信号光軸と光信号選
択手段の光軸を一致させるようにしたため、第１
の物体と第２の物体とのアライメント精度を高度
に維持することができる。
信号光軸がずれているときは光信号選択手段の前
に配置した光学手段により光信号光軸と光信号選
択手段の光軸を一致させるようにしたため、第１
の物体と第２の物体とのアライメント精度を高度
に維持することができる。
［実施例の説明］
以下、本発明を実施例についてより具体的に説
明する。
明する。
第５図は、レチクルとウエハの相対位置検出の
ために投影レンズを通してウエハマークの光信号
を検出する装置において、ウエハマークの光信号
光軸とアライメント光学系光軸が一致している状
態を示す。
ために投影レンズを通してウエハマークの光信号
を検出する装置において、ウエハマークの光信号
光軸とアライメント光学系光軸が一致している状
態を示す。
レーザ１から発射されたアライメント光はレン
ズ２を通過した後、ポリゴンミラー３、ミラー
４、対物レンズ５を介してレチクル６に照射され
る。レチクル６にはウエハ８との位置合わせ用マ
ークが設けてあり、レチクル６を通過したアライ
メント光は投影レンズ７を介してウエハ８のスク
ライブエリアに設けられたウエハマークに照射さ
れる。なお、ウエハ８は試料台９に載せられてい
る。ウエハマークでの反射光、すなわちウエハマ
ークからの光信号は投影レンズ７を通り入射光と
同じ経路を通つてミラー４に達し、ミラー４によ
り入射時とは別光路に導かれ、レンズ１０を通つ
てレチクル６とウエハ８の相対位置を検出するた
めの光信号選択手段１１および選択された光を電
気信号に変換する光電変換手段１２に入射する。
この光電変換手段の出力を電気的に処理すること
により、レチクル６とウエハ８の相対位置が検出
される。
ズ２を通過した後、ポリゴンミラー３、ミラー
４、対物レンズ５を介してレチクル６に照射され
る。レチクル６にはウエハ８との位置合わせ用マ
ークが設けてあり、レチクル６を通過したアライ
メント光は投影レンズ７を介してウエハ８のスク
ライブエリアに設けられたウエハマークに照射さ
れる。なお、ウエハ８は試料台９に載せられてい
る。ウエハマークでの反射光、すなわちウエハマ
ークからの光信号は投影レンズ７を通り入射光と
同じ経路を通つてミラー４に達し、ミラー４によ
り入射時とは別光路に導かれ、レンズ１０を通つ
てレチクル６とウエハ８の相対位置を検出するた
めの光信号選択手段１１および選択された光を電
気信号に変換する光電変換手段１２に入射する。
この光電変換手段の出力を電気的に処理すること
により、レチクル６とウエハ８の相対位置が検出
される。
第２図は、光信号と光信号選択手段との位置関
係を示し、Ｓ１〜Ｓ４はウエハマークの形状に応
じて方向性の決まつた光信号である。Ｗ１〜Ｗ４
は光信号選択窓で、光信号の結像位置および方向
性に合せて配置されている。
係を示し、Ｓ１〜Ｓ４はウエハマークの形状に応
じて方向性の決まつた光信号である。Ｗ１〜Ｗ４
は光信号選択窓で、光信号の結像位置および方向
性に合せて配置されている。
第３図は、光電変換手段の配置を示す平面図
で、各光電変換素子Ｄ１〜Ｄ４はそれぞれ光信号
Ｓ１〜Ｓ４を各々独立に電気信号に変換するため
光信号選択窓Ｗ１〜Ｗ４の位置に対応して配置さ
れている。
で、各光電変換素子Ｄ１〜Ｄ４はそれぞれ光信号
Ｓ１〜Ｓ４を各々独立に電気信号に変換するため
光信号選択窓Ｗ１〜Ｗ４の位置に対応して配置さ
れている。
第４図は、光電変換素子Ｄ１〜Ｄ４の各々の出
力電圧波形およびその電圧値を示し、波形Ｖ１〜
Ｖ４および電圧値ｖ１〜ｖ４は光電変換素子Ｄ１
〜Ｄ４のそれぞれに対応している。
力電圧波形およびその電圧値を示し、波形Ｖ１〜
Ｖ４および電圧値ｖ１〜ｖ４は光電変換素子Ｄ１
〜Ｄ４のそれぞれに対応している。
第５図に示すように、光信号光軸とアライメン
ト光学系光軸とが一致している場合には、出力電
圧ｖ１〜ｖ４はｖ１＝ｖ２＝ｖ３＝ｖ４となる。
これが、光信号選択手段と光信号軸との相対位置
が最適な場合である。
ト光学系光軸とが一致している場合には、出力電
圧ｖ１〜ｖ４はｖ１＝ｖ２＝ｖ３＝ｖ４となる。
これが、光信号選択手段と光信号軸との相対位置
が最適な場合である。
第１図は、本発明の一実施例に係る投影露光装
置の概略ブロツク構成を示す。同図の装置は、投
影光学系光軸に対してアライメント光学系光軸を
変化させる場合に、前記光信号選択手段１１に入
射する光信号光軸位置を投影レンズ７のテレセン
度特性に応じた最適位置に自動補正する機能を有
している。なお、符号１〜１２は第５図と同一で
ある。
置の概略ブロツク構成を示す。同図の装置は、投
影光学系光軸に対してアライメント光学系光軸を
変化させる場合に、前記光信号選択手段１１に入
射する光信号光軸位置を投影レンズ７のテレセン
度特性に応じた最適位置に自動補正する機能を有
している。なお、符号１〜１２は第５図と同一で
ある。
以下、第１図の装置について詳細に説明する。
前記第５図で説明したウエハマークの光信号光
軸とアライメント光学系光軸が一致している像高
ａから、第１図に示すような像高ｂにウエハマー
クの像高を変化させた場合、投影レンズ７のテレ
セン度特性により、光信号選択手段１１に入射す
るウエハマークの光信号光軸位置が破線で示すよ
うに変化する。そのため、光信号選択手段１１に
対する光信号結像位置がΔYだけずれてしまい、
そのままでは正しい光信号検出ができなくなつて
しまう。
軸とアライメント光学系光軸が一致している像高
ａから、第１図に示すような像高ｂにウエハマー
クの像高を変化させた場合、投影レンズ７のテレ
セン度特性により、光信号選択手段１１に入射す
るウエハマークの光信号光軸位置が破線で示すよ
うに変化する。そのため、光信号選択手段１１に
対する光信号結像位置がΔYだけずれてしまい、
そのままでは正しい光信号検出ができなくなつて
しまう。
第６図は、光信号選択手段に対し光信号結像位
置がずれている状態を示す。
置がずれている状態を示す。
第７図は、第６図の状態での光電変換手段から
の出力電圧波形を示す。Ｖ１′〜Ｖ４′は、光信号
選択窓Ｗ１〜Ｗ４を通過した光信号の光電変換出
力波形、ｖ１′〜ｖ４′は、その出力電圧値であ
る。
の出力電圧波形を示す。Ｖ１′〜Ｖ４′は、光信号
選択窓Ｗ１〜Ｗ４を通過した光信号の光電変換出
力波形、ｖ１′〜ｖ４′は、その出力電圧値であ
る。
そこで、本実施例においては、投影光学系光軸
とアライメント光学系光軸の相対位置を知る手段
（以下、検出手段という）１３により第７図のよ
うな光電変換手段１２からの出力電圧ｖ１′〜ｖ
４′に基づいて第６図のように光信号Ｓ１′〜Ｓ
４′と光信号選択手段１１との相対位置関係がず
れていることを検出し、この検出手段１３からの
検出信号を基にコントローラ１４によつて出力電
圧ｖ１′〜ｖ４′が等しくなるようにすなわち４ケ
の光信号光量がバランスするように傾き調整機構
１５を駆動して平行平面ガラス１６を傾かせ、こ
れにより光信号結像位置（すなわち光信号光軸位
置）を最適位置に補正する。
とアライメント光学系光軸の相対位置を知る手段
（以下、検出手段という）１３により第７図のよ
うな光電変換手段１２からの出力電圧ｖ１′〜ｖ
４′に基づいて第６図のように光信号Ｓ１′〜Ｓ
４′と光信号選択手段１１との相対位置関係がず
れていることを検出し、この検出手段１３からの
検出信号を基にコントローラ１４によつて出力電
圧ｖ１′〜ｖ４′が等しくなるようにすなわち４ケ
の光信号光量がバランスするように傾き調整機構
１５を駆動して平行平面ガラス１６を傾かせ、こ
れにより光信号結像位置（すなわち光信号光軸位
置）を最適位置に補正する。
次に、第１図の露光装置において光信号光軸を
光信号選択手段１１に自動位置合せする場合の動
作を第８図のフローチヤートを参照しながら説明
する。この動作の制御は図示しないマイクロプロ
セツサ等からなる第１図の検出手段１３およびコ
ントローラ１４にて行なわれる。
光信号選択手段１１に自動位置合せする場合の動
作を第８図のフローチヤートを参照しながら説明
する。この動作の制御は図示しないマイクロプロ
セツサ等からなる第１図の検出手段１３およびコ
ントローラ１４にて行なわれる。
オートアライメント開始後、検出手段１３にお
いては各光電変換素子Ｄ１〜Ｄ４の出力信号を監
視しており、ウエハマーク信号が検知されると、
まず出力電圧ｖ１とｖ２とを比較する。ここで、
第１図における紙面垂直方向をＸ軸、上下方向を
Ｙ軸、左右方向をＺ軸とすると、もし、ｖ１とｖ
２の大きさが異なつていれば、光信号選択手段１
１に対し光信号光軸位置がＹ軸方向にずれている
のであるからｖ１とｖ２と大小を判別しての大小
判別信号を出力する。コントローラ１４において
はこの大小判別信号に応じて傾き調整手段１５を
駆動する。この駆動は、例えばｖ１＜ｖ２なら平
行平面ガラス１６がＸ軸を回転軸として時計回り
方向へ、ｖ１＞ｖ２であれば反時計回り方向へ回
動するように傾き調整手段１５を作動させる。
いては各光電変換素子Ｄ１〜Ｄ４の出力信号を監
視しており、ウエハマーク信号が検知されると、
まず出力電圧ｖ１とｖ２とを比較する。ここで、
第１図における紙面垂直方向をＸ軸、上下方向を
Ｙ軸、左右方向をＺ軸とすると、もし、ｖ１とｖ
２の大きさが異なつていれば、光信号選択手段１
１に対し光信号光軸位置がＹ軸方向にずれている
のであるからｖ１とｖ２と大小を判別しての大小
判別信号を出力する。コントローラ１４において
はこの大小判別信号に応じて傾き調整手段１５を
駆動する。この駆動は、例えばｖ１＜ｖ２なら平
行平面ガラス１６がＸ軸を回転軸として時計回り
方向へ、ｖ１＞ｖ２であれば反時計回り方向へ回
動するように傾き調整手段１５を作動させる。
一方、出力電圧ｖ１とｖ２が等しいとき、また
は上述した出力電圧の大小判別および平行平面ガ
ラス１６の回動を必要回数繰返した結果出力電圧
ｖ１とｖ２とが等しくなつたときは、次に、出力
電圧ｖ３とｖ４に基づいて上記と同様にＸ方向の
ずれ検出、および傾き調整手段１５を駆動しての
ずれ補正を行なう。これにより、光信号光軸が光
信号選択手段１１に対し最適位置に位置合せされ
る。以下、従来通りの方法によりオートアライメ
ントを実行し、露光を行なう。
は上述した出力電圧の大小判別および平行平面ガ
ラス１６の回動を必要回数繰返した結果出力電圧
ｖ１とｖ２とが等しくなつたときは、次に、出力
電圧ｖ３とｖ４に基づいて上記と同様にＸ方向の
ずれ検出、および傾き調整手段１５を駆動しての
ずれ補正を行なう。これにより、光信号光軸が光
信号選択手段１１に対し最適位置に位置合せされ
る。以下、従来通りの方法によりオートアライメ
ントを実行し、露光を行なう。
［実施例の変形例］
なお、前記実施例では光信号選択手段１１に対
する光信号光軸のずれを検出した後、平行平面ガ
ラス１６を駆動したが、ずれ検出の前段階で既知
のテレセン度誤差設計値に基づき平行平面ガラス
１６を予め傾けて光信号光軸位置を補正してお
き、その後ずれ量を検出して平行平面ガラス１６
を最終的に傾き調整するのも有効である。この場
合、傾き調整すなわち光信号光軸位置補正に要す
る時間の短縮を図ることができる。
する光信号光軸のずれを検出した後、平行平面ガ
ラス１６を駆動したが、ずれ検出の前段階で既知
のテレセン度誤差設計値に基づき平行平面ガラス
１６を予め傾けて光信号光軸位置を補正してお
き、その後ずれ量を検出して平行平面ガラス１６
を最終的に傾き調整するのも有効である。この場
合、傾き調整すなわち光信号光軸位置補正に要す
る時間の短縮を図ることができる。
また、ウエハ上のアライメントマークのエツジ
の傾きが一方に偏る等、マークの形成状態によつ
ては光信号選択手段の最適位置における出力電圧
ｖ１〜ｖ４が必ずしもｖ１＝ｖ２＝ｖ３＝ｖ４と
ならない場合がある。このような場合は、例えば
先ず標準ウエハを用いて平行平面ガラス１６の傾
き調整を行ない、続いて対象ウエハを同じ位置に
合せ、このときの誤差信号が零となるように、す
なわち検出手段１３の４つの入力電圧が等しくな
るように各光電変換素子Ｄ１〜Ｄ４の出力を可変
抵抗器等により設定すればよい。または、検出手
段１３において上記と等価となるようにｖ１〜ｖ
４に適当な係数を掛けた後ｖ１とｖ２およびｖ３
とｖ４とを比較するようにしてもよい。これらの
場合、各光電変換素子Ｄ１〜Ｄ４で光信号対電気
信号特性にばらつきがあるときはこのばらつきも
含めて条件設定することができる。
の傾きが一方に偏る等、マークの形成状態によつ
ては光信号選択手段の最適位置における出力電圧
ｖ１〜ｖ４が必ずしもｖ１＝ｖ２＝ｖ３＝ｖ４と
ならない場合がある。このような場合は、例えば
先ず標準ウエハを用いて平行平面ガラス１６の傾
き調整を行ない、続いて対象ウエハを同じ位置に
合せ、このときの誤差信号が零となるように、す
なわち検出手段１３の４つの入力電圧が等しくな
るように各光電変換素子Ｄ１〜Ｄ４の出力を可変
抵抗器等により設定すればよい。または、検出手
段１３において上記と等価となるようにｖ１〜ｖ
４に適当な係数を掛けた後ｖ１とｖ２およびｖ３
とｖ４とを比較するようにしてもよい。これらの
場合、各光電変換素子Ｄ１〜Ｄ４で光信号対電気
信号特性にばらつきがあるときはこのばらつきも
含めて条件設定することができる。
以上説明したように本実施例によれば、投影レ
ンズのテレセン度特性あるいはテレセン度誤差に
よるウエハマークの光信号結像位置変化があつて
も、その変化に応じて平行平面ガラスを傾けるこ
とで光信号結像位置を光信号選択手段に位置合せ
することができ、レチクルとウエハのアライメン
ト精度を高精度に維持することができる。
ンズのテレセン度特性あるいはテレセン度誤差に
よるウエハマークの光信号結像位置変化があつて
も、その変化に応じて平行平面ガラスを傾けるこ
とで光信号結像位置を光信号選択手段に位置合せ
することができ、レチクルとウエハのアライメン
ト精度を高精度に維持することができる。
第１図は本発明の一実施例に係る投影露光装置
の概略構成図、第２図は光信号と光信号選択手段
との位置関係を示す図、第３図は光信号を電気信
号に変換する光電変換手段配置を示す図、第４図
は第３図の光電変換手段からの出力電圧波形を示
す図、第５図はウエハマークの光信号光軸とアラ
イメント光学系光軸が一致している場合のウエハ
マークの光信号検出を説明する図、第６図は光信
号選択手段に対して光信号結像位置がずれている
状態を示す図、第７図は第６図の状態における光
電変換手段からの出力電圧波形を示す図、そして
第８図は第１図の装置における光信号選択手段の
自動位置合せ動作を説明するためのフローチヤー
トである。 １……レーザ、２……レンズ、３……ポリゴン
ミラー、４……ミラー、５……対物レンズ、６…
…レチクル、７……投影レンズ、８……ウエハ、
９……試料台、１０……レンズ、１１……光信号
選択手段、１２……光電変換手段、１３……投影
光学系光軸とアライメント光学系光軸の相対位置
を知る手段（検出手段）、１４……コントローラ、
１５……傾き調整手段、１６……平行平面ガラ
ス、Ｓ１〜Ｓ４，Ｓ１′〜Ｓ４′……光信号、Ｗ１
〜Ｗ４……光信号選択窓、Ｄ１〜Ｄ４……光電変
換素子、Ｖ１〜Ｖ４，Ｖ１′〜Ｖ４′……光電変換
素子からの出力波形。
の概略構成図、第２図は光信号と光信号選択手段
との位置関係を示す図、第３図は光信号を電気信
号に変換する光電変換手段配置を示す図、第４図
は第３図の光電変換手段からの出力電圧波形を示
す図、第５図はウエハマークの光信号光軸とアラ
イメント光学系光軸が一致している場合のウエハ
マークの光信号検出を説明する図、第６図は光信
号選択手段に対して光信号結像位置がずれている
状態を示す図、第７図は第６図の状態における光
電変換手段からの出力電圧波形を示す図、そして
第８図は第１図の装置における光信号選択手段の
自動位置合せ動作を説明するためのフローチヤー
トである。 １……レーザ、２……レンズ、３……ポリゴン
ミラー、４……ミラー、５……対物レンズ、６…
…レチクル、７……投影レンズ、８……ウエハ、
９……試料台、１０……レンズ、１１……光信号
選択手段、１２……光電変換手段、１３……投影
光学系光軸とアライメント光学系光軸の相対位置
を知る手段（検出手段）、１４……コントローラ、
１５……傾き調整手段、１６……平行平面ガラ
ス、Ｓ１〜Ｓ４，Ｓ１′〜Ｓ４′……光信号、Ｗ１
〜Ｗ４……光信号選択窓、Ｄ１〜Ｄ４……光電変
換素子、Ｖ１〜Ｖ４，Ｖ１′〜Ｖ４′……光電変換
素子からの出力波形。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 第１の物体上のパターンを第２の物体に転写
するための投影光学系と、光信号選択手段を備え
前記投影光学系を介して第２の物体からの光信号
を電気信号に変換する光電変換手段を備えたアラ
イメント光学系を有する投影露光装置において、
前記光信号選択手段に対する光信号光軸のずれを
合致させるために前記アライメント光学系内の前
記光信号選択手段の前に光信号光軸を変化させる
光学手段を有することを特徴とする投影露光装
置。 ２ 前記光学手段が傾き自由な平行平面ガラスを
備え、前記平行平面ガラスを傾動させる手段を有
することを特徴とする特許請求の範囲第１項の投
影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60171893A JPS6232615A (ja) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | 投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60171893A JPS6232615A (ja) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | 投影露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6232615A JPS6232615A (ja) | 1987-02-12 |
| JPH0577168B2 true JPH0577168B2 (ja) | 1993-10-26 |
Family
ID=15931760
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60171893A Granted JPS6232615A (ja) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | 投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6232615A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2621179B2 (ja) * | 1987-06-09 | 1997-06-18 | 株式会社ニコン | アライメント方法 |
| JPH0315018A (ja) * | 1989-01-13 | 1991-01-23 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 画像走査記録装置のレーザ露光装置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS494549A (ja) * | 1972-04-24 | 1974-01-16 | ||
| JPS5234907A (en) * | 1975-09-11 | 1977-03-17 | Dantani Plywood Co | Method of producing decorated boards with gloss change |
| JPS5612729A (en) * | 1979-07-12 | 1981-02-07 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | ?alignmening device for ic projection exposure equipment |
| JPS61121437A (ja) * | 1984-11-19 | 1986-06-09 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 投影型露光装置 |
-
1985
- 1985-08-06 JP JP60171893A patent/JPS6232615A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6232615A (ja) | 1987-02-12 |
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