JPH0587592B2 - - Google Patents
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- JPH0587592B2 JPH0587592B2 JP16616088A JP16616088A JPH0587592B2 JP H0587592 B2 JPH0587592 B2 JP H0587592B2 JP 16616088 A JP16616088 A JP 16616088A JP 16616088 A JP16616088 A JP 16616088A JP H0587592 B2 JPH0587592 B2 JP H0587592B2
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Description
［産業上の利用分野］
本発明は、航空機や宇宙関連部品の軽量耐熱材
料として有用な複合材料に関するものである。 ［従来の技術及び課題］ Ti又はTi合金は、軽量で比強度が高いため、
航空機や宇宙関連の各種部品として開発されてき
たが、最近、高温材料としても注目されている。
しかしながら、Ti又はTi合金は高温耐酸化性が
著しく劣るため、使用温度が制限されるという問
題があつた。 このようなことから、Ti又はTi合金の基材上
に高温耐酸化性の優れたTiAl系金属間化合物の
薄膜層を被覆して複合材料とすることが試みられ
ている。しかしながら、かかる複合材料において
も高温の酸化性雰囲気に曝すと、TiAl系金属間
化合物の薄膜層中のAlが基材側へ内方拡散し、
次第にAl濃度の低い薄膜層が形成されるように
なり、最後には耐酸化性を有するTiAl系金属間
化合物の薄膜層が喪失して耐酸化性処理の効果が
消滅してしまうという問題があつた。 本発明は、上記従来の課題を解決するためにな
されたもので、軽量化、耐熱性に優れていると共
に、高温下での耐酸化性を改善した複合材料を提
供しようとするものである。 ［課題を解決するための手段］ 本発明は、Ptイオン又はPtとAlの両イオンの
注入により表面にPt相もしくはPt−Al相が形成
されたTi又はTi合金からなる基材と、この基材
のPt相もしくはPt−Al相が形成された表面に被
覆されたTiAl系金属間化合物の薄膜層とを具備
したことを特徴とする複合材料である。 上記Ti合金としては、例えばTiにAl、Ｖ、
Mo、Cr、Mn、Feなどの遷移金属、及びこれら
の遷移金属と共に含有されるＣ、Ｏからなる組成
を挙げることができる。 上記TiAl系金属間化合物としては、Ti3Al、
TiAl、TiAl3等を挙げることができる。特に、
TiAl系金属間化合物の薄膜層による高温での耐
酸化性はその表面にAl2O3保護被膜が形成される
ことによつてなされることから、該TiAl系金属
間化合物としてはAl量の多いTiAl、TiAl3を用
いることが望ましい。こうしたTiAl系金属間化
合物の薄膜層の基材表面への被覆手段としては、
各種のCVD法、又は真空蒸着法、高周波スパツ
タリング法、マグネトロンスパツタリング法、イ
オンビームスパツタリング法などのPVD法、或
いは蒸着とイオン注入とを同時に行なうイオンミ
キシング法等を採用し得るが、基材界面での密着
性を向上させる観点から前記イオンミキシング法
が好適である。 また、本発明は上記基材表面にSi、Sc、Ｙ、
La、Ce及びHfから選ばれる１種又は２種以上を
イオン注入されたTiAl系金属間化合物の薄膜層
を被覆したことを特徴とする複合材料である。 ［作用］ 本発明によれば、Ti又はTi合金からなる基材
におけるPtイオン又はPtとAlの両イオンの注入
によりPt相もしくはPt−Al相が形成された表面
にTiAl系金属間化合物の薄膜層を被覆すること
によつて、高温酸化性雰囲気に曝した場合に該薄
層膜から拡散されるAlは前記基材表面のPt相も
しくはPt−Al相と反応してPt−Al化合物として
固定化するため、該薄膜層中のAlの基材側への
拡散を防止できる。その結果、TiAl系金属間化
合物の薄膜層中に充分な量のAlを含有させるこ
とができるため、高温酸化性雰囲気下において
TiAl系金属間化合物の薄膜層の表層に酸化保護
被膜として寄与するAl2O3を形成でき、Ti又はTi
合金の優れた軽量性、耐熱性と共にTiAl系金属
間化合物の薄膜層による高温耐酸化性が効果的に
付与された複合材料を得ることができる。また、
基材表面へのPt相もしくはPt−Al相の形成を、
イオン注入手段により行なうことによつて基材表
面に高純度のPt相もしくはPt−Al相を形成でき
ること、所定な原子数単位でかつ目的とした濃度
分布を有するPt相もしくはPt−Al相を精度よく
形成できること、Pt−Al相を形成する際にPtと
Alを各々独立的に制御して導入できること、等
の利点を有する。更に、TiAl系金属間化合物の
薄膜層をイオンミキシング法により基材表面に形
成することによつて、基材表面でのミキシング作
用により薄膜層の基材に対する密着性を向上でき
る。しかも、基材と薄膜層との間にそれらの組成
的傾斜構造を有する中間層を形成できるため、応
力歪みを緩和できる。 また、基材表面にSi、Sc、Ｙ、La、Ce及びHf
から選ばれる１種又は２種以上をイオン注入され
たTiAl系金属間化合物の薄膜層を被覆すること
によつて、高温酸化性雰囲気で該薄膜層表面に形
成された耐酸化性保護被膜としてのAl2O3層の該
薄膜層に対する密着性を前記Si等のイオン注入成
分により向上できる。しかも、かかるAl2O3層の
密着性向上成分はTiAl系金属間化合物の薄膜層
自体の耐酸化性を阻害させないために該薄膜層に
対して微量添加する必要があるが、イオン注入手
法を採用することによつて該成分を微量かつ正確
に薄膜層に導入することが可能となる。 ［発明の実施例］ 以下、本発明の実施例を詳細に説明する。 実施例 １ まず、純Tiを加工して30mm×30mm×５mmの板
材を製作した後、この板材の片面を鏡面研磨し
た。つづいて、この板材を蒸着とイオン注入機能
を同一真空内に有する真空チヤンバ内に設置した
後、質量分離されたAlイオンを加速電圧80keV、
ドーズ量１×1017／cm2の条件で、Ptイオンを加速
電圧160keV、ドーズ量0.5×1017／cm2の条件で
夫々板材にイオン注入した。ひきつづき、同一チ
ヤンバ内においてTiAl（１：１）合金のターゲツ
トにスパツタ電圧3kV、電流密度2.5mA／cm2の条
件でArイオンを衝突させてTiAl合金を板材にス
パツタリング蒸着を行ないながら、別のイオン源
から電圧100V、電流密度0.3mA／cm2の条件で板
材をArイオンアシスト処理を行なつて板材のPt
−Al相が形成された表面に厚さ3μmのTiAl合金
からなる薄膜層を形成して複合材料を製造した。 真空チヤンバから取出した複合材料を肉眼及び
光学顕微鏡で観察した。その結果、複合材料表面
に形成されたTiAl合金薄膜層のクラツク、剥離
等の欠陥は全く認められなかつた。 実施例 ２ まず、Ti合金（6Al−4V−Ti）を加工して30
mm×30mm×５mmの板材を製作した後、この板材の
片面を鏡面研磨した。つづいて、この板材を蒸着
とイオン注入機能を同一真空内に有する真空チヤ
ンバ内に設置した後、質量分離されたPtイオン
を加速電圧160keV、ドーズ量0.5×1017／cm2の条
件で板材にイオン注入した。ひきつづき、同一チ
ヤンバ内においてEB蒸着法のトリプルハース方
式によりTiを3.8Å／secの蒸着速度で、Alを5.7
Å／secの蒸着速度で夫々板材のイオン注入層表
面に真空蒸着を行ないながら、バケツト型イオン
源によりArイオンを加速電圧10keV、電流75mA
の条件で板材に照射して、厚さ3μmのTiAl3合金
からなる薄膜層を形成して複合材料を製造した。 真空チヤンバから取出した複合材料を肉眼及び
光学顕微鏡で観察した。その結果、複合材料表面
に形成されたTiAl合金薄膜層のクラツク、剥離
等の欠陥は全く認められなかつた。 比較例 １ まず、実施例１と同様な純Tiからなる板材の
鏡面研磨した片面にPtめつきを施し、Alの1120
℃でのパツク処理を行ない、更にPtめつきを施
した後、1150℃での拡散処理を施した。つづい
て、この板材を蒸着とイオン注入機能を同一真空
内に有する真空チヤンバ内に設置した後、実施例
１と同様な方法によりPtとAlが拡散処理された
板材表面に厚さ3μmのTiAl合金からなる薄膜層
を形成して複合材料を製造した。 比較例 ２ まず、実施例２と同様なTi合金からなる板材
の鏡面研磨した片面にPtめつきを施し、Alの
1120℃でのパツク処理を行ない、更にPtめつき
を施した後、1150℃での拡散処理を施した。つづ
いて、この板材を蒸着とイオン注入機能を同一真
空内に有する真空チヤンバ内に設置した後、実施
例２と同様な方法により板材のPtとAlが拡散処
理された表面に厚さ3μmのTiAl3合金からなる薄
膜層を形成して複合材料を製造した。 しかして、本実施例１、２及び比較例１、２の
複合材料を900℃の高温酸化雰囲気中に30時間放
置して高温酸化試験を行ない、試験後の各複合材
料の外観を調べた。その結果を後掲する第１表に
示す。 実施例 ３ 実施例１と同様な方法により純Tiからなる板
材の鏡面研磨した片面にAlイオン及びPtイオン
を注入した後、板材のPt−Al相が形成された表
面に厚さ3μmのTiAl合金からなる薄膜層を形成
した。つづいて、Ｙイオンを加速電圧120keV、
電流0.1mA、ドーズ量５×1015／cm2の条件で薄膜
層にイオン注入して複合材料を製造した。 しかして、本実施例３及び前述した実施例１の
複合材料を酸化雰囲気下において900℃まで昇温
し、この後常温まで下げる急熱急冷操作を10回繰
返す高温酸化試験を行ない、試験後の各複合材料
の酸化に伴う重量増及び外観を調べた。その結果
を後掲する第２表に示す。 実施例 ４ 実施例１と同様な方法により純Tiからなる板
材の鏡面研磨した片面にAlイオン及びPtイオン
を注入した後、板材のPt−Al相が形成された表
面に厚さ3μmのTiAl合金からなる薄膜層を形成
した。つづいて、Siイオンを加速電圧120keV、
電流0.1mA、ドーズ量２×1015／cm2の条件で薄膜
層にイオン注入し、更にCeイオンを加速電圧
160keV、電流0.1mA、ドーズ量２×1015／cm2の
条件で薄膜層にイオン注入して複合材料を製造し
た。 しかして、本実施例４及び前述した実施例１の
複合材料を酸化雰囲気下において900℃まで昇温
し、この後常温まで下げる急熱急冷操作を20回繰
返す高温酸化試験を行ない、試験後の各複合材料
の酸化に伴う重量増及び外観を調べた。その結果
を後掲する第３表に示す。 以上、後掲する第１表から第３表より明らかな
ように本実施例１〜４の複合材料は、優れた高温
耐酸化性を有することがわかる。また、板材上の
TiAl金属間化合物からなる薄膜層にＹイオンを
注入した実施例３の複合材料は、同処理を施さな
い実施例１の複合材料に比べて苛酷な条件下の高
温酸化雰囲気においてより優れた耐酸化性を有す
ることがわかる。更に、板材上のTiAl金属間化
合物からなる薄膜層にSiイオン及びCeイオンを
注入した実施例４の複合材料は、同処理を施さな
い実施例１の複合材料に比べてより苛酷な条件下
の高温酸化雰囲気において一層優れた耐酸化性を
有することがわかる。 ［発明の効果］ 以上詳述した如く、本発明によれば軽量性、耐
熱性に優れていると共に、高温下での耐酸化性が
著しく改善され、航空機や宇宙関連の各種部品と
して極めて有用な複合材料を提供できる。
料として有用な複合材料に関するものである。 ［従来の技術及び課題］ Ti又はTi合金は、軽量で比強度が高いため、
航空機や宇宙関連の各種部品として開発されてき
たが、最近、高温材料としても注目されている。
しかしながら、Ti又はTi合金は高温耐酸化性が
著しく劣るため、使用温度が制限されるという問
題があつた。 このようなことから、Ti又はTi合金の基材上
に高温耐酸化性の優れたTiAl系金属間化合物の
薄膜層を被覆して複合材料とすることが試みられ
ている。しかしながら、かかる複合材料において
も高温の酸化性雰囲気に曝すと、TiAl系金属間
化合物の薄膜層中のAlが基材側へ内方拡散し、
次第にAl濃度の低い薄膜層が形成されるように
なり、最後には耐酸化性を有するTiAl系金属間
化合物の薄膜層が喪失して耐酸化性処理の効果が
消滅してしまうという問題があつた。 本発明は、上記従来の課題を解決するためにな
されたもので、軽量化、耐熱性に優れていると共
に、高温下での耐酸化性を改善した複合材料を提
供しようとするものである。 ［課題を解決するための手段］ 本発明は、Ptイオン又はPtとAlの両イオンの
注入により表面にPt相もしくはPt−Al相が形成
されたTi又はTi合金からなる基材と、この基材
のPt相もしくはPt−Al相が形成された表面に被
覆されたTiAl系金属間化合物の薄膜層とを具備
したことを特徴とする複合材料である。 上記Ti合金としては、例えばTiにAl、Ｖ、
Mo、Cr、Mn、Feなどの遷移金属、及びこれら
の遷移金属と共に含有されるＣ、Ｏからなる組成
を挙げることができる。 上記TiAl系金属間化合物としては、Ti3Al、
TiAl、TiAl3等を挙げることができる。特に、
TiAl系金属間化合物の薄膜層による高温での耐
酸化性はその表面にAl2O3保護被膜が形成される
ことによつてなされることから、該TiAl系金属
間化合物としてはAl量の多いTiAl、TiAl3を用
いることが望ましい。こうしたTiAl系金属間化
合物の薄膜層の基材表面への被覆手段としては、
各種のCVD法、又は真空蒸着法、高周波スパツ
タリング法、マグネトロンスパツタリング法、イ
オンビームスパツタリング法などのPVD法、或
いは蒸着とイオン注入とを同時に行なうイオンミ
キシング法等を採用し得るが、基材界面での密着
性を向上させる観点から前記イオンミキシング法
が好適である。 また、本発明は上記基材表面にSi、Sc、Ｙ、
La、Ce及びHfから選ばれる１種又は２種以上を
イオン注入されたTiAl系金属間化合物の薄膜層
を被覆したことを特徴とする複合材料である。 ［作用］ 本発明によれば、Ti又はTi合金からなる基材
におけるPtイオン又はPtとAlの両イオンの注入
によりPt相もしくはPt−Al相が形成された表面
にTiAl系金属間化合物の薄膜層を被覆すること
によつて、高温酸化性雰囲気に曝した場合に該薄
層膜から拡散されるAlは前記基材表面のPt相も
しくはPt−Al相と反応してPt−Al化合物として
固定化するため、該薄膜層中のAlの基材側への
拡散を防止できる。その結果、TiAl系金属間化
合物の薄膜層中に充分な量のAlを含有させるこ
とができるため、高温酸化性雰囲気下において
TiAl系金属間化合物の薄膜層の表層に酸化保護
被膜として寄与するAl2O3を形成でき、Ti又はTi
合金の優れた軽量性、耐熱性と共にTiAl系金属
間化合物の薄膜層による高温耐酸化性が効果的に
付与された複合材料を得ることができる。また、
基材表面へのPt相もしくはPt−Al相の形成を、
イオン注入手段により行なうことによつて基材表
面に高純度のPt相もしくはPt−Al相を形成でき
ること、所定な原子数単位でかつ目的とした濃度
分布を有するPt相もしくはPt−Al相を精度よく
形成できること、Pt−Al相を形成する際にPtと
Alを各々独立的に制御して導入できること、等
の利点を有する。更に、TiAl系金属間化合物の
薄膜層をイオンミキシング法により基材表面に形
成することによつて、基材表面でのミキシング作
用により薄膜層の基材に対する密着性を向上でき
る。しかも、基材と薄膜層との間にそれらの組成
的傾斜構造を有する中間層を形成できるため、応
力歪みを緩和できる。 また、基材表面にSi、Sc、Ｙ、La、Ce及びHf
から選ばれる１種又は２種以上をイオン注入され
たTiAl系金属間化合物の薄膜層を被覆すること
によつて、高温酸化性雰囲気で該薄膜層表面に形
成された耐酸化性保護被膜としてのAl2O3層の該
薄膜層に対する密着性を前記Si等のイオン注入成
分により向上できる。しかも、かかるAl2O3層の
密着性向上成分はTiAl系金属間化合物の薄膜層
自体の耐酸化性を阻害させないために該薄膜層に
対して微量添加する必要があるが、イオン注入手
法を採用することによつて該成分を微量かつ正確
に薄膜層に導入することが可能となる。 ［発明の実施例］ 以下、本発明の実施例を詳細に説明する。 実施例 １ まず、純Tiを加工して30mm×30mm×５mmの板
材を製作した後、この板材の片面を鏡面研磨し
た。つづいて、この板材を蒸着とイオン注入機能
を同一真空内に有する真空チヤンバ内に設置した
後、質量分離されたAlイオンを加速電圧80keV、
ドーズ量１×1017／cm2の条件で、Ptイオンを加速
電圧160keV、ドーズ量0.5×1017／cm2の条件で
夫々板材にイオン注入した。ひきつづき、同一チ
ヤンバ内においてTiAl（１：１）合金のターゲツ
トにスパツタ電圧3kV、電流密度2.5mA／cm2の条
件でArイオンを衝突させてTiAl合金を板材にス
パツタリング蒸着を行ないながら、別のイオン源
から電圧100V、電流密度0.3mA／cm2の条件で板
材をArイオンアシスト処理を行なつて板材のPt
−Al相が形成された表面に厚さ3μmのTiAl合金
からなる薄膜層を形成して複合材料を製造した。 真空チヤンバから取出した複合材料を肉眼及び
光学顕微鏡で観察した。その結果、複合材料表面
に形成されたTiAl合金薄膜層のクラツク、剥離
等の欠陥は全く認められなかつた。 実施例 ２ まず、Ti合金（6Al−4V−Ti）を加工して30
mm×30mm×５mmの板材を製作した後、この板材の
片面を鏡面研磨した。つづいて、この板材を蒸着
とイオン注入機能を同一真空内に有する真空チヤ
ンバ内に設置した後、質量分離されたPtイオン
を加速電圧160keV、ドーズ量0.5×1017／cm2の条
件で板材にイオン注入した。ひきつづき、同一チ
ヤンバ内においてEB蒸着法のトリプルハース方
式によりTiを3.8Å／secの蒸着速度で、Alを5.7
Å／secの蒸着速度で夫々板材のイオン注入層表
面に真空蒸着を行ないながら、バケツト型イオン
源によりArイオンを加速電圧10keV、電流75mA
の条件で板材に照射して、厚さ3μmのTiAl3合金
からなる薄膜層を形成して複合材料を製造した。 真空チヤンバから取出した複合材料を肉眼及び
光学顕微鏡で観察した。その結果、複合材料表面
に形成されたTiAl合金薄膜層のクラツク、剥離
等の欠陥は全く認められなかつた。 比較例 １ まず、実施例１と同様な純Tiからなる板材の
鏡面研磨した片面にPtめつきを施し、Alの1120
℃でのパツク処理を行ない、更にPtめつきを施
した後、1150℃での拡散処理を施した。つづい
て、この板材を蒸着とイオン注入機能を同一真空
内に有する真空チヤンバ内に設置した後、実施例
１と同様な方法によりPtとAlが拡散処理された
板材表面に厚さ3μmのTiAl合金からなる薄膜層
を形成して複合材料を製造した。 比較例 ２ まず、実施例２と同様なTi合金からなる板材
の鏡面研磨した片面にPtめつきを施し、Alの
1120℃でのパツク処理を行ない、更にPtめつき
を施した後、1150℃での拡散処理を施した。つづ
いて、この板材を蒸着とイオン注入機能を同一真
空内に有する真空チヤンバ内に設置した後、実施
例２と同様な方法により板材のPtとAlが拡散処
理された表面に厚さ3μmのTiAl3合金からなる薄
膜層を形成して複合材料を製造した。 しかして、本実施例１、２及び比較例１、２の
複合材料を900℃の高温酸化雰囲気中に30時間放
置して高温酸化試験を行ない、試験後の各複合材
料の外観を調べた。その結果を後掲する第１表に
示す。 実施例 ３ 実施例１と同様な方法により純Tiからなる板
材の鏡面研磨した片面にAlイオン及びPtイオン
を注入した後、板材のPt−Al相が形成された表
面に厚さ3μmのTiAl合金からなる薄膜層を形成
した。つづいて、Ｙイオンを加速電圧120keV、
電流0.1mA、ドーズ量５×1015／cm2の条件で薄膜
層にイオン注入して複合材料を製造した。 しかして、本実施例３及び前述した実施例１の
複合材料を酸化雰囲気下において900℃まで昇温
し、この後常温まで下げる急熱急冷操作を10回繰
返す高温酸化試験を行ない、試験後の各複合材料
の酸化に伴う重量増及び外観を調べた。その結果
を後掲する第２表に示す。 実施例 ４ 実施例１と同様な方法により純Tiからなる板
材の鏡面研磨した片面にAlイオン及びPtイオン
を注入した後、板材のPt−Al相が形成された表
面に厚さ3μmのTiAl合金からなる薄膜層を形成
した。つづいて、Siイオンを加速電圧120keV、
電流0.1mA、ドーズ量２×1015／cm2の条件で薄膜
層にイオン注入し、更にCeイオンを加速電圧
160keV、電流0.1mA、ドーズ量２×1015／cm2の
条件で薄膜層にイオン注入して複合材料を製造し
た。 しかして、本実施例４及び前述した実施例１の
複合材料を酸化雰囲気下において900℃まで昇温
し、この後常温まで下げる急熱急冷操作を20回繰
返す高温酸化試験を行ない、試験後の各複合材料
の酸化に伴う重量増及び外観を調べた。その結果
を後掲する第３表に示す。 以上、後掲する第１表から第３表より明らかな
ように本実施例１〜４の複合材料は、優れた高温
耐酸化性を有することがわかる。また、板材上の
TiAl金属間化合物からなる薄膜層にＹイオンを
注入した実施例３の複合材料は、同処理を施さな
い実施例１の複合材料に比べて苛酷な条件下の高
温酸化雰囲気においてより優れた耐酸化性を有す
ることがわかる。更に、板材上のTiAl金属間化
合物からなる薄膜層にSiイオン及びCeイオンを
注入した実施例４の複合材料は、同処理を施さな
い実施例１の複合材料に比べてより苛酷な条件下
の高温酸化雰囲気において一層優れた耐酸化性を
有することがわかる。 ［発明の効果］ 以上詳述した如く、本発明によれば軽量性、耐
熱性に優れていると共に、高温下での耐酸化性が
著しく改善され、航空機や宇宙関連の各種部品と
して極めて有用な複合材料を提供できる。
【表】
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ Ptイオン又はPtとAlの両イオンの注入によ
り表面にPt相もしくはPt−Al相が形成されたTi
又はTi合金からなる基材と、この基材のPt相も
しくはPt−Al相が形成された表面に被覆された
TiAl系金属間化合物の薄膜層とを具備したこと
を特徴とする複合材料。 ２ TiAl系金属間化合物の薄膜層は、Si、Sc、
Ｙ、La、Ce及びHfから選ばれる１種又は２種以
上をイオン注入したものからなることを特徴とす
る請求項１記載の複合材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16616088A JPH0215164A (ja) | 1988-07-04 | 1988-07-04 | 複合材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16616088A JPH0215164A (ja) | 1988-07-04 | 1988-07-04 | 複合材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0215164A JPH0215164A (ja) | 1990-01-18 |
| JPH0587592B2 true JPH0587592B2 (ja) | 1993-12-17 |
Family
ID=15826183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16616088A Granted JPH0215164A (ja) | 1988-07-04 | 1988-07-04 | 複合材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0215164A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2592961B2 (ja) * | 1989-09-14 | 1997-03-19 | 株式会社神戸製鋼所 | 耐摩耗性Ｔｉ又はＴｉ基合金部材 |
| JPH03193859A (ja) * | 1989-12-22 | 1991-08-23 | Nippon Steel Corp | 耐酸化性を改善したＴｉＡｌ系金属間化合物構造材およびその製造方法 |
| US7455890B2 (en) * | 2003-08-05 | 2008-11-25 | General Electric Company | Ion implantation of turbine engine rotor component |
| CN108504977B (zh) * | 2018-04-28 | 2020-10-02 | 江西科技师范大学 | 一种钛合金抗高温氧化涂层的制备方法 |
| CN117187751A (zh) * | 2023-09-20 | 2023-12-08 | 安徽科技学院 | 一种基于气相沉积可控制备小尺寸铂基金属间化合物的方法及其应用 |
-
1988
- 1988-07-04 JP JP16616088A patent/JPH0215164A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0215164A (ja) | 1990-01-18 |
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