JPH0590123A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPH0590123A JPH0590123A JP3247333A JP24733391A JPH0590123A JP H0590123 A JPH0590123 A JP H0590123A JP 3247333 A JP3247333 A JP 3247333A JP 24733391 A JP24733391 A JP 24733391A JP H0590123 A JPH0590123 A JP H0590123A
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- JP
- Japan
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- mask
- friction wheel
- scanning stage
- work
- wafer
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】この露光装置は、逐次露光を行う露光装置であ
って、一つの駆動モ−タ38で、露光倍率に等しい直径
比を有する上側摩擦車36aと下側摩擦車36bを有す
る段車36および上記上側摩擦車36aおよび下側摩擦
車36bとそれぞれ転接する第2、第3の摩擦車33、
36を介して、ウエハ用スキャニングステ−ジ22と、
マスク用スキャニングステ−ジ23とを露光倍率と等し
い比で同時に送り駆動するようにした。 【効果】 マスクとワ−クとの位置決めおよび送り速度
を、時間的遅れがなくかつ精度の高いものとすることが
できるので、より良好な露光を行うことができるという
効果がある。
って、一つの駆動モ−タ38で、露光倍率に等しい直径
比を有する上側摩擦車36aと下側摩擦車36bを有す
る段車36および上記上側摩擦車36aおよび下側摩擦
車36bとそれぞれ転接する第2、第3の摩擦車33、
36を介して、ウエハ用スキャニングステ−ジ22と、
マスク用スキャニングステ−ジ23とを露光倍率と等し
い比で同時に送り駆動するようにした。 【効果】 マスクとワ−クとの位置決めおよび送り速度
を、時間的遅れがなくかつ精度の高いものとすることが
できるので、より良好な露光を行うことができるという
効果がある。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、例えば、ウエハの逐
次露光を行う露光装置に関する。
次露光を行う露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば、半導体露光装置は、超高圧Hg
ランプから所定波長のスペクトルを取り出し、これをコ
ンデンサレンズを通して露光用パタ−ン(以下「パタ−
ン」と称する)が形成されたマスクの一部に照射する。
そして、上記露光装置は、上記マスクを通過したパタ−
ンを、縮小投影レンズあるいは拡大投影レンズにより縮
小あるいは拡大し、ウエハに投影する。このことで、上
記ウエハには上記パタ−ンの一部が露光される。
ランプから所定波長のスペクトルを取り出し、これをコ
ンデンサレンズを通して露光用パタ−ン(以下「パタ−
ン」と称する)が形成されたマスクの一部に照射する。
そして、上記露光装置は、上記マスクを通過したパタ−
ンを、縮小投影レンズあるいは拡大投影レンズにより縮
小あるいは拡大し、ウエハに投影する。このことで、上
記ウエハには上記パタ−ンの一部が露光される。
【0003】さらに、上記露光装置は、上記ウエハに上
記パタ−ン全体を露光するために、ランプからの照射光
に対して上記マスクおよびウエハを縮小率あるいは拡大
率に合わせて相対的に駆動する。このことで上記ウエハ
にはマスクのパタ−ン全体が逐次的に露光される。
記パタ−ン全体を露光するために、ランプからの照射光
に対して上記マスクおよびウエハを縮小率あるいは拡大
率に合わせて相対的に駆動する。このことで上記ウエハ
にはマスクのパタ−ン全体が逐次的に露光される。
【0004】このような露光装置として、一般に図2に
示すようなものがある。この露光装置1は、基台2上に
一対のガイドレ−ル3、3が平行に離間して配置され、
このガイドレ−ル3、3上に第1、第2のスライダ4、
5がそれぞれスライド自在に設けられている。
示すようなものがある。この露光装置1は、基台2上に
一対のガイドレ−ル3、3が平行に離間して配置され、
このガイドレ−ル3、3上に第1、第2のスライダ4、
5がそれぞれスライド自在に設けられている。
【0005】そして、第1のスライダ4の上面にはウエ
ハ6あるいは基板を保持するウエハ保持テ−ブル7が取
り付けられ、第2のスライダ4の上面にはマスク8を保
持するマスク保持テ−ブル10が取り付けられている。
ハ6あるいは基板を保持するウエハ保持テ−ブル7が取
り付けられ、第2のスライダ4の上面にはマスク8を保
持するマスク保持テ−ブル10が取り付けられている。
【0006】上記一対のガイドレ−ル3、3の間の上記
基台2の上面には、縮小あるいは拡大用の投影レンズ1
1が設けられている。この投影レンズ11は光軸を水平
にした状態で、上記基台2の上面に固定された支持部材
13の上面に保持されている。
基台2の上面には、縮小あるいは拡大用の投影レンズ1
1が設けられている。この投影レンズ11は光軸を水平
にした状態で、上記基台2の上面に固定された支持部材
13の上面に保持されている。
【0007】上記、第1、第2のスライダ4、5は、そ
れぞれ、上記一対のガイドレ−ル3、3に設けられた第
1、第2のボ−ルねじ機構14、15によって、各ガイ
ドレ−ル3、3にそって別々に駆動されるようになって
いる。
れぞれ、上記一対のガイドレ−ル3、3に設けられた第
1、第2のボ−ルねじ機構14、15によって、各ガイ
ドレ−ル3、3にそって別々に駆動されるようになって
いる。
【0008】また、上記第1のボ−ルねじ機構14の第
1の駆動モ−タ14aと、上記第2のボ−ルねじ機構1
5の第2の駆動モ−タ15aは制御装置16を介して接
続されている。この制御装置16によって上記第1のボ
−ルねじ機構14は、上記第2のボ−ルねじ機構15の
送りに追従して上記投影レンズ11の倍率と等しい比の
送り量だけ作動するように制御される。
1の駆動モ−タ14aと、上記第2のボ−ルねじ機構1
5の第2の駆動モ−タ15aは制御装置16を介して接
続されている。この制御装置16によって上記第1のボ
−ルねじ機構14は、上記第2のボ−ルねじ機構15の
送りに追従して上記投影レンズ11の倍率と等しい比の
送り量だけ作動するように制御される。
【0009】この露光装置1によれば、まず、図示しな
いランプをON状態にして、露光用の光を上記マスク8
の一部(図にAで示す)に照射する。上記マスク8を通
過したパタ−ンは、投影レンズ11に入射し、所定の倍
率に拡大あるいは縮小されて上記ウエハ6上に結像する
(図にBで示す)。このことにより上記ウエハ6の一部
Bには上記マスク8のパタ−ンの一部が露光される。
いランプをON状態にして、露光用の光を上記マスク8
の一部(図にAで示す)に照射する。上記マスク8を通
過したパタ−ンは、投影レンズ11に入射し、所定の倍
率に拡大あるいは縮小されて上記ウエハ6上に結像する
(図にBで示す)。このことにより上記ウエハ6の一部
Bには上記マスク8のパタ−ンの一部が露光される。
【0010】ついで、上記露光装置1は、上記第2の駆
動モ−タ15aを作動させ上記第2のスライダ5を所定
量送り駆動し上記マスク8の上記露光用の光が照射され
る位置を逐次ずらす。一方、上記第1の駆動モ−タ14
aは上記制御装置16を介して上記第2の駆動モ−タ1
5aに追従して作動し、上記投影レンズ11の倍率に対
応する量だけ上記第1のスライダ4を逐次送り駆動す
る。この露光装置1は、上述のような動作をマスク8全
体に亘って行い、上記マスク8のパタ−ン全体を上記ウ
エハ6に逐次露光する。また、その他の露光装置とし
て、図3に1´で示すようなものがある。図2に示す露
光装置1と同一構成要素には同一記号を付して説明を省
略する。
動モ−タ15aを作動させ上記第2のスライダ5を所定
量送り駆動し上記マスク8の上記露光用の光が照射され
る位置を逐次ずらす。一方、上記第1の駆動モ−タ14
aは上記制御装置16を介して上記第2の駆動モ−タ1
5aに追従して作動し、上記投影レンズ11の倍率に対
応する量だけ上記第1のスライダ4を逐次送り駆動す
る。この露光装置1は、上述のような動作をマスク8全
体に亘って行い、上記マスク8のパタ−ン全体を上記ウ
エハ6に逐次露光する。また、その他の露光装置とし
て、図3に1´で示すようなものがある。図2に示す露
光装置1と同一構成要素には同一記号を付して説明を省
略する。
【0011】上記支持部材13は、上記基台1の上面に
回転軸13a回りに回転自在に設けられている。そし
て、この支持部材13には、後述するように、上記第
1、第2のスライダ4、5を連結する連結棒18が上記
投影レンズ11の光軸と軸線を一致させてスライド自在
に挿通されている。
回転軸13a回りに回転自在に設けられている。そし
て、この支持部材13には、後述するように、上記第
1、第2のスライダ4、5を連結する連結棒18が上記
投影レンズ11の光軸と軸線を一致させてスライド自在
に挿通されている。
【0012】また、上記連結棒18の一端は上記第2の
スライダ5の一側面に回転自在に取り付けられ、他端は
上記第1のスライダ4の一側面から他側面へ貫通して取
り付けられている。
スライダ5の一側面に回転自在に取り付けられ、他端は
上記第1のスライダ4の一側面から他側面へ貫通して取
り付けられている。
【0013】したがって、上記連結棒18の他端を図に
矢印(イ)で示す方向に押圧すれば、この連結棒18を
上記支持部材13の回転軸線回りに回動させることがで
きると共に、このことによって上記第1、第2のスライ
ダ3、4は「てこ」の原理によって、互いに反対方向
に、上記マスク8から投影レンズ11までの距離と上記
ウエハ6から上記投影レンズ11までの距離との比と等
しい量だけ移動する。
矢印(イ)で示す方向に押圧すれば、この連結棒18を
上記支持部材13の回転軸線回りに回動させることがで
きると共に、このことによって上記第1、第2のスライ
ダ3、4は「てこ」の原理によって、互いに反対方向
に、上記マスク8から投影レンズ11までの距離と上記
ウエハ6から上記投影レンズ11までの距離との比と等
しい量だけ移動する。
【0014】この装置によれば、上記マスク8のパタ−
ンは、上記マスク8から投影レンズ11までの距離と上
記ウエハ6から上記投影レンズ11までの距離との比と
等しい倍率で拡大あるいは縮小され上記ウエハ6に露光
される。
ンは、上記マスク8から投影レンズ11までの距離と上
記ウエハ6から上記投影レンズ11までの距離との比と
等しい倍率で拡大あるいは縮小され上記ウエハ6に露光
される。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図2に示す
露光装置1においては、上記第1のボ−ルねじ機構14
の送り速度を基準として、上記第2のボ−ルねじ機構1
5へその送り誤差をフィ−ドバックしている。このよう
な追従制御は遅れ系であり、μm以下の精度で位置ずれ
を制御することは難しく精度上問題があるということが
ある。
露光装置1においては、上記第1のボ−ルねじ機構14
の送り速度を基準として、上記第2のボ−ルねじ機構1
5へその送り誤差をフィ−ドバックしている。このよう
な追従制御は遅れ系であり、μm以下の精度で位置ずれ
を制御することは難しく精度上問題があるということが
ある。
【0016】一方、図3に示す露光装置1´において
は、上記第1のスライダ4の送りと第2のスライダ5の
送りの間に時間的な遅れは生じないが、この露光装置1
´は「てこ」の原理を利用して上記第1、第2のスライ
ダ4、5を直線的に駆動しているために、機構上むりが
ある。
は、上記第1のスライダ4の送りと第2のスライダ5の
送りの間に時間的な遅れは生じないが、この露光装置1
´は「てこ」の原理を利用して上記第1、第2のスライ
ダ4、5を直線的に駆動しているために、機構上むりが
ある。
【0017】この発明は、このような事情に鑑みてなさ
れたもので、マスクとウエハの位置決め精度が良く、か
つ制御が容易な露光装置を提供することを目的とするも
のである。
れたもので、マスクとウエハの位置決め精度が良く、か
つ制御が容易な露光装置を提供することを目的とするも
のである。
【0018】
【課題を解決するための手段】この発明は、マスクに形
成されたパタ−ンを投影光学系を介してワ−クに所定の
倍率で露光する露光装置において、上記マスクを保持し
直線方向に移動自在に設けられたマスク用スキャニング
ステ−ジと、上記ワ−クを上記マスクに対向させた状態
で保持し、かつ上記第1のステ−ジと平行方向に移動自
在に設けられたワ−ク用スキャニングステ−ジと、上記
マスク用スキャニングステ−ジと一体的に設けられた第
1の接触部に接触して配置され回転駆動されることで上
記マスク用スキャニングステ−ジを直線方向に駆動する
マスク側摩擦車と、上記ワ−ク用スキャニングステ−ジ
と一体的に設けられた第2の接触部に接触して配置され
回転駆動されることで上記ワ−ク用スキャニングステ−
ジを直線方向に駆動するワ−ク側摩擦車と、上記マスク
側摩擦車とワ−ク側摩擦車が上記露光の倍率と等しい回
転数比で回転駆動されるようにこのマスク側摩擦車とワ
−ク側摩擦車とに接続された駆動力伝達手段と、上記駆
動力伝達手段を駆動し、上記マスク用スキャニングステ
−ジとワ−ク用スキャニングステ−ジを上記マスク側摩
擦車とワ−ク側摩擦車を介して定速で所定量送り駆動す
る駆動モ−タとを有することを特徴とする。
成されたパタ−ンを投影光学系を介してワ−クに所定の
倍率で露光する露光装置において、上記マスクを保持し
直線方向に移動自在に設けられたマスク用スキャニング
ステ−ジと、上記ワ−クを上記マスクに対向させた状態
で保持し、かつ上記第1のステ−ジと平行方向に移動自
在に設けられたワ−ク用スキャニングステ−ジと、上記
マスク用スキャニングステ−ジと一体的に設けられた第
1の接触部に接触して配置され回転駆動されることで上
記マスク用スキャニングステ−ジを直線方向に駆動する
マスク側摩擦車と、上記ワ−ク用スキャニングステ−ジ
と一体的に設けられた第2の接触部に接触して配置され
回転駆動されることで上記ワ−ク用スキャニングステ−
ジを直線方向に駆動するワ−ク側摩擦車と、上記マスク
側摩擦車とワ−ク側摩擦車が上記露光の倍率と等しい回
転数比で回転駆動されるようにこのマスク側摩擦車とワ
−ク側摩擦車とに接続された駆動力伝達手段と、上記駆
動力伝達手段を駆動し、上記マスク用スキャニングステ
−ジとワ−ク用スキャニングステ−ジを上記マスク側摩
擦車とワ−ク側摩擦車を介して定速で所定量送り駆動す
る駆動モ−タとを有することを特徴とする。
【0019】
【作用】このような構成によれば、駆動モ−タを作動さ
せることで、マスク用スキャニングステ−ジと、ワ−ク
用スキャニングステ−ジとを露光倍率と等しい比で同期
をとりながら同時に送り駆動することができる。
せることで、マスク用スキャニングステ−ジと、ワ−ク
用スキャニングステ−ジとを露光倍率と等しい比で同期
をとりながら同時に送り駆動することができる。
【0020】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図1を参照して
説明する。なお、従来例と同一の構成要素には同一符号
を付してその説明は省略する。
説明する。なお、従来例と同一の構成要素には同一符号
を付してその説明は省略する。
【0021】図中21はこの露光装置20の基台であ
る。この基台21の上面は平坦に形成されている。そし
て、この基台21の長手方向一端部には、この基台21
の長手方向に沿って往復移動可能なウエハ用スキャニン
グステ−ジ22(ワ−ク用スキャニングステ−ジ)およ
びマスク用スキャニングステ−ジ23とが対向配置され
ている。
る。この基台21の上面は平坦に形成されている。そし
て、この基台21の長手方向一端部には、この基台21
の長手方向に沿って往復移動可能なウエハ用スキャニン
グステ−ジ22(ワ−ク用スキャニングステ−ジ)およ
びマスク用スキャニングステ−ジ23とが対向配置され
ている。
【0022】上記ウエハ用スキャニングステ−ジ22は
上記基台21の幅方向一端部に設けられた第1のガイド
レ−ル25にスライド自在に保持されている。また、上
記マスク用スキャニングステ−ジ23は上記基台21の
幅方向他端部に上記第1のガイドレ−ル25と平行に設
けられた第2のガイドレ−ル26にスライド自在に保持
されている。
上記基台21の幅方向一端部に設けられた第1のガイド
レ−ル25にスライド自在に保持されている。また、上
記マスク用スキャニングステ−ジ23は上記基台21の
幅方向他端部に上記第1のガイドレ−ル25と平行に設
けられた第2のガイドレ−ル26にスライド自在に保持
されている。
【0023】上記ウエハ用スキャニングステ−ジ22の
上記マスク用スキャニングステ−ジ23と対向する面に
は、ワ−クとしてのウエハ6を上記マスク用スキャニン
グステ−ジ23に対向するように垂直に保持しかつこの
ウエハ6をXYZおよびθ方向に微小量位置決め駆動す
る微少量調整テ−ブル27が設けられている。
上記マスク用スキャニングステ−ジ23と対向する面に
は、ワ−クとしてのウエハ6を上記マスク用スキャニン
グステ−ジ23に対向するように垂直に保持しかつこの
ウエハ6をXYZおよびθ方向に微小量位置決め駆動す
る微少量調整テ−ブル27が設けられている。
【0024】また上記マスク用スキャニングステ−ジ2
3の上記ウエハ用スキャニングステ−ジ22に対向する
面と反対側の面には、上記マスク8を垂直に保持するマ
スク保持テ−ブル28が設けられている。
3の上記ウエハ用スキャニングステ−ジ22に対向する
面と反対側の面には、上記マスク8を垂直に保持するマ
スク保持テ−ブル28が設けられている。
【0025】そして、上記マスク用スキャニングステ−
ジ23とウエハ用スキャニングステ−ジ22との対向面
間には上記マスク8のパタ−ンを等倍あるいは縮小また
は拡大する投影光学系としての投影レンズ11が設けら
れている。
ジ23とウエハ用スキャニングステ−ジ22との対向面
間には上記マスク8のパタ−ンを等倍あるいは縮小また
は拡大する投影光学系としての投影レンズ11が設けら
れている。
【0026】また、上記ウエハ用スキャニングステ−ジ
22およびマスク用スキャニングステ−ジ23には上記
基台21の長手方向他端側に水平に突設された第1、第
2の接触部としての杆状の第1、第2の駆動ア−ム3
0、31が設けられている。
22およびマスク用スキャニングステ−ジ23には上記
基台21の長手方向他端側に水平に突設された第1、第
2の接触部としての杆状の第1、第2の駆動ア−ム3
0、31が設けられている。
【0027】上記第1の駆動ア−ム30の自由端部は上
記基台21の長手方向他端部に設けられた第1の摩擦車
32およびワ−ク側摩擦車としての第2の摩擦車33と
に挟まれ摩擦状態で保持されている。上記第1の摩擦車
32は図示しない付勢手段によって上記第1の駆動ア−
ム30の方に付勢され、上記第2の摩擦車33と上記第
1の駆動ア−ム30の摩擦力を高めている。
記基台21の長手方向他端部に設けられた第1の摩擦車
32およびワ−ク側摩擦車としての第2の摩擦車33と
に挟まれ摩擦状態で保持されている。上記第1の摩擦車
32は図示しない付勢手段によって上記第1の駆動ア−
ム30の方に付勢され、上記第2の摩擦車33と上記第
1の駆動ア−ム30の摩擦力を高めている。
【0028】上記第2の駆動ア−ム31の自由端部は上
記基台21の長手方向他端部に設けられたマスク側摩擦
車としての第3の摩擦車34と第4の摩擦車35とに挟
まれ摩擦状態で保持されている。上記第4の摩擦車35
は図示しない付勢手段によって上記第2の駆動ア−ム3
1の方に付勢され、上記第3の摩擦車34と上記第2の
駆動ア−ム31との摩擦力を高めている。
記基台21の長手方向他端部に設けられたマスク側摩擦
車としての第3の摩擦車34と第4の摩擦車35とに挟
まれ摩擦状態で保持されている。上記第4の摩擦車35
は図示しない付勢手段によって上記第2の駆動ア−ム3
1の方に付勢され、上記第3の摩擦車34と上記第2の
駆動ア−ム31との摩擦力を高めている。
【0029】上記第2の摩擦車33と第3の摩擦車34
の間には、上側に上記第2の摩擦車33と接触する上側
摩擦車36aと下側に上記第3の摩擦車34と接触する
下側摩擦車36bとを有する駆動力伝達手段としての段
車30(2段式の摩擦車)が、上記上側、下側摩擦車3
6a、36bをそれぞれ上記第2、第3の摩擦車33、
34と転接させた状態で設けられている。この段車36
の下側摩擦車36bの直径と上側摩擦車36aの直径の
比は、上記パタ−ンの拡大(縮小)倍率と同じになるよ
うに形成されている。
の間には、上側に上記第2の摩擦車33と接触する上側
摩擦車36aと下側に上記第3の摩擦車34と接触する
下側摩擦車36bとを有する駆動力伝達手段としての段
車30(2段式の摩擦車)が、上記上側、下側摩擦車3
6a、36bをそれぞれ上記第2、第3の摩擦車33、
34と転接させた状態で設けられている。この段車36
の下側摩擦車36bの直径と上側摩擦車36aの直径の
比は、上記パタ−ンの拡大(縮小)倍率と同じになるよ
うに形成されている。
【0030】さらに、上記基台21の長手方向他端の中
央部には軸線を垂直にした駆動モ−タ38が設けられて
いる。この駆動モ−タ38の駆動軸の上端部には上記段
車36の上側摩擦車36aと転接する第5の摩擦車39
が固定されている。
央部には軸線を垂直にした駆動モ−タ38が設けられて
いる。この駆動モ−タ38の駆動軸の上端部には上記段
車36の上側摩擦車36aと転接する第5の摩擦車39
が固定されている。
【0031】上記第5の摩擦車39の上記段車36を挟
んだ反対側には上記段車36を上記第5の摩擦車39側
に付勢する第6の摩擦車40が回転自在に設けられてい
る。
んだ反対側には上記段車36を上記第5の摩擦車39側
に付勢する第6の摩擦車40が回転自在に設けられてい
る。
【0032】すなわち、上記駆動モ−タ38が図に矢印
で示す方向に回転することで上記段車36が駆動され、
これによって上記第2、第3の摩擦車33、34が回転
駆動される。このことによって、上記第1、第2の駆動
ア−ム30、31は互いに反対方向に駆動される。この
とき上記第1の駆動ア−ム30は上記段車36の上側摩
擦車36aの周速と同じ速さで駆動され、上記第2の駆
動ア−ム31は上記段車36の下側摩擦車36bの周速
と同じ速さで駆動される。
で示す方向に回転することで上記段車36が駆動され、
これによって上記第2、第3の摩擦車33、34が回転
駆動される。このことによって、上記第1、第2の駆動
ア−ム30、31は互いに反対方向に駆動される。この
とき上記第1の駆動ア−ム30は上記段車36の上側摩
擦車36aの周速と同じ速さで駆動され、上記第2の駆
動ア−ム31は上記段車36の下側摩擦車36bの周速
と同じ速さで駆動される。
【0033】したがって、上記マスク用スキャニングス
テ−ジ23とウエハ用スキャニングステ−ジ22は上記
投影レンズ11の拡大倍率に合った速度で相対的に互い
に反対方向に駆動される。
テ−ジ23とウエハ用スキャニングステ−ジ22は上記
投影レンズ11の拡大倍率に合った速度で相対的に互い
に反対方向に駆動される。
【0034】また、上記マスク用スキャニングステ−ジ
23の外側には上記マスク8に露光用の光を照射する図
示しないランプが設けられている。このランプからの光
は従来例と同様に上記マスク8の一部に照射され、この
マスク8からのパタ−ンは上記投影レンズ11を通って
上記ウエハ用スキャニングステ−ジ22に保持されたウ
エハ6に露光される。次に、この発明の露光装置20の
動作を説明する。
23の外側には上記マスク8に露光用の光を照射する図
示しないランプが設けられている。このランプからの光
は従来例と同様に上記マスク8の一部に照射され、この
マスク8からのパタ−ンは上記投影レンズ11を通って
上記ウエハ用スキャニングステ−ジ22に保持されたウ
エハ6に露光される。次に、この発明の露光装置20の
動作を説明する。
【0035】上記露光装置20は、まず、上記マスク用
スキャニングステ−ジ23に保持されたマスク8のパタ
−ンと、上記ウエハ用スキャニングステ−ジ22に保持
されたウエハ6の露光位置とを位置合わせする。このた
めに、上記露光装置20は、上記ウエハ用スキャニング
ステ−ジ22の微小量調整テ−ブル27をXYZおよび
θ方向に作動させる。
スキャニングステ−ジ23に保持されたマスク8のパタ
−ンと、上記ウエハ用スキャニングステ−ジ22に保持
されたウエハ6の露光位置とを位置合わせする。このた
めに、上記露光装置20は、上記ウエハ用スキャニング
ステ−ジ22の微小量調整テ−ブル27をXYZおよび
θ方向に作動させる。
【0036】ついで、上記露光装置20は、上記図示し
ないランプを作動させ、上記マスク8の一部Aに露光用
の光を照射する。このことによって、上記マスク8のパ
タ−ンの一部は、上記投影レンズ11に入射し、この投
影レンズ11によって拡大(縮小)され上記ウエハ6の
対応する部位Bに照射される。このことで、上記ウエハ
6の一部Bが露光される。
ないランプを作動させ、上記マスク8の一部Aに露光用
の光を照射する。このことによって、上記マスク8のパ
タ−ンの一部は、上記投影レンズ11に入射し、この投
影レンズ11によって拡大(縮小)され上記ウエハ6の
対応する部位Bに照射される。このことで、上記ウエハ
6の一部Bが露光される。
【0037】この露光装置20は、上記駆動モ−タ38
を作動させて上記マスク用スキャニングステ−ジ23お
よびウエハ用スキャニングステ−ジ20にを同時に駆動
し、上記露光用の光に対して上記マスク8およびウエハ
6を移動させ逐次露光を行う。
を作動させて上記マスク用スキャニングステ−ジ23お
よびウエハ用スキャニングステ−ジ20にを同時に駆動
し、上記露光用の光に対して上記マスク8およびウエハ
6を移動させ逐次露光を行う。
【0038】すなわち、上記段車36の上側摩擦車36
aの外径と上記下側摩擦車36bの外径は上記露光倍率
と同じ比になるように形成されているので、上記マスク
用スキャニングステ−ジ23とウエハ用スキャニングス
テ−ジ22は露光倍率に対応する量だけ一定速度で相対
的に反対方向へ駆動される。
aの外径と上記下側摩擦車36bの外径は上記露光倍率
と同じ比になるように形成されているので、上記マスク
用スキャニングステ−ジ23とウエハ用スキャニングス
テ−ジ22は露光倍率に対応する量だけ一定速度で相対
的に反対方向へ駆動される。
【0039】また、上記マスク8のパタ−ンと、これに
対応するウエハ6の露光部位の精密な位置合わせは上記
微小量調整ステ−ジ27がリアルタイムで行うようにな
っていて、上記マスク用スキャニングステ−ジ23と上
記ウエハ用スキャニングステ−ジ22の位置ずれの補正
が行われる。このことによって、上記マスク8のパタ−
ンは上記ウエハ6の所定の部位に逐次的に露光されるの
である。
対応するウエハ6の露光部位の精密な位置合わせは上記
微小量調整ステ−ジ27がリアルタイムで行うようにな
っていて、上記マスク用スキャニングステ−ジ23と上
記ウエハ用スキャニングステ−ジ22の位置ずれの補正
が行われる。このことによって、上記マスク8のパタ−
ンは上記ウエハ6の所定の部位に逐次的に露光されるの
である。
【0040】このような構成によれば、上記露光装置2
0は、一つの駆動モ−タ38で同時にウエハ側、マスク
用スキャニングステ−ジ22、23を駆動するようにし
たので時間的な遅れはなく、より高精度に上記ウエハ6
およびマスク8を位置決めすることができる。
0は、一つの駆動モ−タ38で同時にウエハ側、マスク
用スキャニングステ−ジ22、23を駆動するようにし
たので時間的な遅れはなく、より高精度に上記ウエハ6
およびマスク8を位置決めすることができる。
【0041】また、上記露光装置20によれば、駆動系
に複数の摩擦車33〜36、39、40を使用すること
で、駆動系のがたを少なくすることができ、所望の速度
で高精度に上記ウエハ側、マスク側のスキャニングステ
−ジ22、23を起動、送り、停止させることができ
る。
に複数の摩擦車33〜36、39、40を使用すること
で、駆動系のがたを少なくすることができ、所望の速度
で高精度に上記ウエハ側、マスク側のスキャニングステ
−ジ22、23を起動、送り、停止させることができ
る。
【0042】さらに、上記露光装置20は、上記複数の
摩擦車33〜36、39、40による摩擦駆動による位
置決めと、上記ウエハ用スキャニングステ−ジ22に取
り付けた微小量調整テ−ブル27による位置決めを併用
することによってサブミクロンオ−ダの同期精度を得る
ことができる。なお、この発明は上記一実施例に限定さ
れるものではなく、発明の要旨を変更しない範囲で種々
変形可能である。
摩擦車33〜36、39、40による摩擦駆動による位
置決めと、上記ウエハ用スキャニングステ−ジ22に取
り付けた微小量調整テ−ブル27による位置決めを併用
することによってサブミクロンオ−ダの同期精度を得る
ことができる。なお、この発明は上記一実施例に限定さ
れるものではなく、発明の要旨を変更しない範囲で種々
変形可能である。
【0043】例えば、上記一実施例では、駆動力伝達手
段として段車36を用いたが、上記第2、第3の摩擦車
33、34を上記投影レンズ11の倍率に対応する回転
比で駆動できる構成であれば、他の複数の摩擦車であっ
ても良いし、ベルト駆動やワイヤ駆動等を用いるように
してもよい。また、上記一実施例では、投影光学系とし
て投影レンズ11を用いたが、反射ミラ−を用いた投影
光学系であっても良い。
段として段車36を用いたが、上記第2、第3の摩擦車
33、34を上記投影レンズ11の倍率に対応する回転
比で駆動できる構成であれば、他の複数の摩擦車であっ
ても良いし、ベルト駆動やワイヤ駆動等を用いるように
してもよい。また、上記一実施例では、投影光学系とし
て投影レンズ11を用いたが、反射ミラ−を用いた投影
光学系であっても良い。
【0044】
【効果】以上述べたように、この発明の露光装置は、逐
次露光を行う露光装置であって、一つの駆動モ−タで、
摩擦車を介して、マスク用スキャニングステ−ジと、ワ
−ク用スキャニングステ−ジとを露光倍率と等しい比で
同時に送り駆動するようにしたものである。
次露光を行う露光装置であって、一つの駆動モ−タで、
摩擦車を介して、マスク用スキャニングステ−ジと、ワ
−ク用スキャニングステ−ジとを露光倍率と等しい比で
同時に送り駆動するようにしたものである。
【0045】このような構成によれば、マスクとワ−ク
の送りおよび位置決めを、時間的遅れがなくかつ精度の
高いものとすることができるので、より良好な露光を行
うことができる。
の送りおよび位置決めを、時間的遅れがなくかつ精度の
高いものとすることができるので、より良好な露光を行
うことができる。
【図1】この発明の一実施例を示す、全体斜視図。
【図2】従来例を示す斜視図。
【図3】同じく従来例を示す斜視図。
6…ウエハ(ワ−ク)、8…マスク、11…投影レン
ズ、20…露光装置、22…ウエハ用スキャニングステ
−ジ(ワ−ク用スキャニングステ−ジ)、23…マスク
用スキャニングステ−ジ、27…微小量調整テ−ブル、
30…第1の駆動ア−ム(第1の接触部)、31…第2
の駆動ア−ム(第2の接触部)、33…第2の摩擦車、
34…第3の摩擦車、36…段車、36a…上側摩擦
車、36b…下側摩擦車、38…駆動モ−タ。
ズ、20…露光装置、22…ウエハ用スキャニングステ
−ジ(ワ−ク用スキャニングステ−ジ)、23…マスク
用スキャニングステ−ジ、27…微小量調整テ−ブル、
30…第1の駆動ア−ム(第1の接触部)、31…第2
の駆動ア−ム(第2の接触部)、33…第2の摩擦車、
34…第3の摩擦車、36…段車、36a…上側摩擦
車、36b…下側摩擦車、38…駆動モ−タ。
Claims (1)
- 【請求項1】 マスクに形成されたパタ−ンを投影光学
系を介してワ−クに所定の倍率で露光する露光装置にお
いて、上記マスクを保持し直線方向に移動自在に設けら
れたマスク用スキャニングステ−ジと、上記ワ−クを上
記マスクに対向させた状態で保持し、かつ上記第1のス
テ−ジと平行方向に移動自在に設けられたワ−ク用スキ
ャニングステ−ジと、上記マスク用スキャニングステ−
ジと一体的に設けられた第1の接触部に接触して配置さ
れ回転駆動されることで上記マスク用スキャニングステ
−ジを直線方向に駆動するマスク側摩擦車と、上記ワ−
ク用スキャニングステ−ジと一体的に設けられた第2の
接触部に接触して配置され回転駆動されることで上記ワ
−ク用スキャニングステ−ジを直線方向に駆動するワ−
ク側摩擦車と、上記マスク側摩擦車とワ−ク側摩擦車が
上記露光の倍率と等しい回転数比で回転駆動されるよう
にこのマスク側摩擦車とワ−ク側摩擦車とに接続された
駆動力伝達手段と、上記駆動力伝達手段を駆動し、上記
マスク用スキャニングステ−ジとワ−ク用スキャニング
ステ−ジを上記マスク側摩擦車とワ−ク側摩擦車を介し
て定速で所定量送り駆動する駆動モ−タとを有すること
を特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3247333A JPH0590123A (ja) | 1991-09-26 | 1991-09-26 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3247333A JPH0590123A (ja) | 1991-09-26 | 1991-09-26 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0590123A true JPH0590123A (ja) | 1993-04-09 |
Family
ID=17161850
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3247333A Pending JPH0590123A (ja) | 1991-09-26 | 1991-09-26 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0590123A (ja) |
-
1991
- 1991-09-26 JP JP3247333A patent/JPH0590123A/ja active Pending
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