JPH0592952U - ウェーファー用回転ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ウェーファーにイオンを注入する際に、その
ウェーファーを保持する回転ディスクが回転しても、イ
オンの注入角度が変わらないようにすることを目的とす
る。 【構成】 回転するディスクの周縁に保持部を傾斜して
設ける。この保持部に複数のウェーファーを保持部の円
周方向に沿って搭載して保持する。このウェーファーの
保持面を、保持面の円周方向に沿って円弧状とする。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案はウェーファーにイオンを注入する際に、そのウェーファーを保持する のに使用する回転ディスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】

一般にこの種回転ディスクは、図１、図２に示すように、円形平板状のディス ク本体１と、このディスク本体１の周縁に設けられた保持部２とによって主とし て構成されてある。保持部２にはその円周方向に沿って複数のウェーファー３を 搭載し、保持する。保持部２はディスク本体１に対してたとえば７度程度に傾斜 して設けられてあり（図２参照。）、ディスク本体１に対して垂直に進行してく るイオンビームに対して、或る注入角度が維持されるようにしてある。

【０００３】 イオンビームの注入方向は固定されており、またディスク本体１は回転軸４を 中心として回転する。この回転によって、各ウェーファー３に順番にイオンを注 入するようにしている。保持部２は前記のように傾斜して設けてあるので、保持 部２の円周方向の断面（図１中のＸ−Ｘ線断面）は、図３以降の各図に示すよう に円弧面となる。

【０００４】 ところで従来では保持部２におけるウェーファー３の保持面を平坦にするのを 普通としていた。すなわちたとえば図５に示すように、保持部２の表面に保持台 ５を設け、その表面の保持面６にウェーファー３を保持するようにした場合、そ の保持面６を平坦面としている。

【０００５】 このように保持面６を平坦面とする理由は、保持面６に対してウェーファー３ を密着して保持するためであり、このようにすれば、ウェーファー３と保持面６ との間には空隙が存在しなくなり、ウェーファー３に発生した熱は速やかに保持 台５から保持部２に放熱されるようになって都合がよい。

【０００６】 しかしこのような構成によると、ディスクが回転した場合、ウェーファーの辺 部においてイオンの注入角度が異なってくる。たとえば図５に示すように、イオ ンビームＢに対してウェーファー３が垂直の位置にあったとしても、ディスクの 回転につれて図６に示すように、ウェーファー３の辺部にイオンビームＢが注入 するような状態となったときには、その辺部はイオンビームＢに対して垂直とは ならなくなる。そのためにイオンの注入角度が異なってくるのである。このこと はウェーファー３が大口径となるほど顕著にあらわれる。

【０００７】

【考案が解決しようとする課題】

本考案は、回転するディスクの周縁の保持部に複数のウェーファーを搭載して 保持し、これにイオンビームを注入するにあたり、ディスクの回転によってもイ オンビームのウェーファーに対する注入角度に変化が生じないようにすることを 目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】

本考案は、回転するディスクの周縁の保持部に複数のウェーファーを搭載して 保持するにあたり、そのウェーファーの保持面を、保持面の円周方向に沿って円 弧面としたことを特徴とする。

【０００９】

【作用】

ウェーファーを保持面に取り付けた状態では、ウェーファーと保持面との間に は空隙が存在する。しかしディスクが回転するとこれに遠心力が作用し、ウェー ファーは保持面に押しつけられて密着する。これによりウェーファーの表面は保 持面に沿って円弧状となる。このように円弧状となればディスクが回転しても、 その回転位置に関係なくイオンビームのウェーファーに対する注入角度は一定と なる。

【００１０】 またウェーファーと保持面とは密着するので、両者間には空隙がなくなる。こ れによつてウェーファーに発生した熱は、保持面より保持部に速やかに放熱され るようになる。

【００１１】

【実施例】

この考案の実施例を図１〜図４によって説明する。なお図５と同じ符号を付し た部分は、同一または対応する部分を示す。本考案にしたがい、保持部２におけ るウェーファー３の保持面を円弧面とする。具体的には保持台５の表面すなわち 保持面６を円弧面とする。なおウェーファー３は保持部２において、固定爪７と 、バネ８による可動爪９とによって保持されているものとする。

【００１２】 ウェーファー３を保持部２の保持台５の保持面６に取り付けた状態では、図３ に示すようにウェーファー３と保持面６との間には空隙が存在する。しかしディ スクはたとえば一分間当たり６０００回転するので、この回転により図２に示す ように遠心力Ｐが作用する。

【００１３】 この遠心力Ｐの分力のうち、保持面６に対して垂直の分力Ｑにより、ウェーフ ァー３は保持面６に対して押しつけられて密着する。これによってウェーファー ３の表面は図４に示すように保持面６に沿って円弧状となる。このように円弧状 となれば、ディスクが回転しても、ウェーファー３の表面のイオンビームＢによ る注入角度は変化することなく、常に一定となる。

【００１４】 そしてこのようにウェーファー３と保持面６とが密着することにより、イオン ビームの注入によってウェーファー３が発熱しても、その熱は速やかに保持面６ から保持部２に伝導する。したがってウェーファー３の放熱作用は従来の構成と 特に相違することはない。

【００１５】 一方遠心力Ｐの分力のうち、保持面６に平行する分力Ｒによりウェーファー３ は保持部２から外周に押しだされるようになるが、この押出しは固定爪７によっ て阻止される。しかし前記のようにウェーファー３の中央は、保持面６に沿って 円弧状にくぼむようになるので、分力Ｒによる押出力は大きく作用しない。この 点従来構成ではウェーファーは平坦であるため、この押出力は大きく作用し、そ のため挫屈現象が多く発生したが、本考案によるときはその挫屈現象の発生を少 なくすることができるようになる。

【００１６】

【考案の効果】

以上詳述したように本考案によれば、ディスクの周縁の保持部に複数のウェー ファーを搭載してイオンを注入するにあたり、ディスクの回転によってもイオン の注入角度に変化をもたらさないようにすることができ、かつウェーファーに対 する挫屈現象の発生を少なくすることができる効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の実施例を示す平面図である。

【図２】図１の部分詳細断面図である。

【図３】図１のＸ−Ｘ線に沿う拡大断面図である。

【図４】動作中における図１のＸ−Ｘ線に沿う拡大断面
図である。

【図５】従来例における図１のＸ−Ｘ線に沿う拡大断面
図である。

【図６】図５における動作説明用の断面図である。

【符号の説明】

１ ディスク本体 ２ 保持部 ３ ウェーファー ６ 保持面 Ｂ イオンビーム

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 回転するディスクの周縁に傾斜した保持
   部を設け、前記保持部にイオンビームが注入される複数
   のウェーファーを、前記保持部の円周方向に沿って搭載
   して保持してなるウェーファー用回転ディスクにおい
   て、前記保持部の前記ウェーファーの保持面を、前記保
   持面の円周方向に沿って円弧面としてなるウェーファー
   用回転ディスク。