JPH0594020A - 剥離現像型製版材料および製版方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 支持体１０１上に、剥離現像可能な感光性樹
脂層１０２、親水性樹脂層１０４、感光性樹脂層に対し
てマスク能を有する感光性銀塩層１０５及び保護層１０
６を順次積層してなる製版材料、及びこれを用いる製版
方法。 【効果】 解像度が高く、耐刷性の優れた印刷版を提供
できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は剥離現像型の製版材料お
よび製版方法に関し、更に詳しくは、軽印刷分野、特に
事務用印刷等に好適な乾式処理にて優れた解像性、耐刷
性を有する印刷版の製版材料および製版方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】通常、平版印刷は、水と油の非混和性を
利用しており、平版印刷版上には、一般に親水性を示す
非画像部と親油性を示す画線部が設けられている。この
印刷版を用いた印刷は、版上に湿し水が付与され、非画
線部に保持され、ついで油性のインクを供給すると、非
画線部にはインクは付着せず、画線部にインクが付着
し、直接あるいはブランケット胴を介して平版印刷版上
の像が紙などの受像体に転写するものである。

【０００３】このような平版印刷に用いられる平版印刷
版としては、大量に好適に用いられているＰＳ版が挙げ
られる。これは、支持体の金属板（アルミニウムや亜鉛
等）の表面を砂目だてし、あるいは更に陽極酸化して親
水性を付与した表面に、感光性を有する親油性樹脂を塗
布したもので、像様露光後、現像して残った樹脂による
親油性の画線部を形成し、現像によって樹脂の除去され
た部分が親水性の非画像部となる。

【０００４】また、事務用の印刷に好適に用いられてい
るものとしては、耐水性を付与された支持体上の、酸化
亜鉛（ＺｎＯ）を含む親水性樹脂層上に、電子写真方式
により、親油性を示すトナー画像を形成する印刷版、銀
塩写真方式を利用し、像様露光後、現像し、版上に親水
性と親油性を付与する印刷版、その他、油性のインク等
によって親水性の支持体に像を形成する印刷版が挙げら
れる。

【０００５】さらに、多孔質薄葉紙にワックス等による
熱溶融性の層を設け、サーマルヘッド等によりインク透
過可能な像様の孔を形成し、印刷する孔版印刷等が知ら
れている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記、
ＰＳ版や電子写真方式、銀塩写真方式を利用する印刷版
は、一般に、高解像性を維持するために、現像工程が湿
式により行われる。それ故、現像液の保存管理をはじめ
とするメンテナンス、廃液の処理等が煩雑であり、か
つ、溶剤使用による環境汚染という問題点を有してい
る。

【０００７】また、現像工程に溶剤を使用しない乾式の
電子写真方式を利用した印刷版や、サーマルヘッド等に
より穿孔する印刷版では、解像性に乏しく、得られる印
刷物の画質は、満足の得られるものではなかった。

【０００８】これらの問題点を解決する印刷版として、
一例として親水性の支持体上に、感光性樹脂層、透明支
持体が積層された、いわゆる剥離現像処理による乾式現
像可能な印刷版が知られており、特公昭３８−９６６３
号、同４３−２２９０１号、特開昭４７−７７２８号、
特公昭４８−４３１２６号、特開昭５５−５０２４６
号、同５７−５８１４１号、同５７−６２０４６号、特
公昭６４−１００５５号、同６４−１００５６号、特公
平１−４５８９９号等の各公報に記載されている。

【０００９】これらの公報の印刷版の製版方法に関する
記述によると、あらかじめ感光性樹脂層の感光波長にお
けるマスクを作成し、透明支持体を介して全面露光によ
り、感光性樹脂の感光部と未露光部の、親水性の支持体
と透明支持体との間の粘着性の差を利用し、マスク像に
対応して、剥離現像により親水性の支持体上に親油性の
感光性樹脂による画線部が形成される。あるいは、支持
体間で剥離現像した感光性樹脂の画線部を、他に用意し
た親水性の支持体上へ転写するものである。これらの製
版方法は、合理的ですぐれた方法であるが、前者にあっ
ては、画線部を形成する感光性樹脂を接着させる親水性
の支持体が、全面露光時にマスクに対して感光性樹脂層
を介した反対面、すなわちマスクから遠い位置にある。
そのため、全面露光量が適正にコントロールされない
と、感光性樹脂による画線部の切れが劣化する。すなわ
ち、画線部が、適正露光部からのぶれの影響を受けて、
肥ったり、やせたりして、印刷物の画質が劣化する。ま
た、剥離現像時にしばしば発生する、いわゆるギザや欠
け、泣き別れ等の印刷版として致命的な欠陥の発生の原
因となり、高解像性を実現することが困難であった。さ
らに、後者にあっては、転写時の画質の劣化が生じた
り、事務用印刷機としてオフィスに設置するには、装置
が複雑かつ大型化し、さらに高価になるなど、好ましい
形態とはいえない。

【００１０】また、あらかじめ感光性樹脂層の感光波長
におけるマスクを作成する工程は、一般には、湿式の銀
塩写真方式によるので、これも前述の理由により好まし
くない。

【００１１】さらに、特開昭５５−５０２４６号にある
ように、いわゆる熱現像型乾式銀塩によるマスク層を、
透明支持体を介して積層して一体化し、乾式銀塩層に像
様露光し熱現像後、剥離現像する製版方法にあっては、
熱現像時に感光性樹脂層にかかる熱による剥離現像性の
劣化といった問題があった。

【００１２】本発明の目的は、上記の問題点を解決し、
簡便な乾式処理により、高解像度を有する、特に事務用
印刷分野で好適に用いられる、平版印刷用の剥離現像型
製版材料および製版方法を提供することにある。

【００１３】また、本発明の目的は、剥離現像可能な感
光性樹脂層に対するマスクを介した全面露光に続いて行
われる剥離現像時に、画質劣化のない製版が可能であ
り、マスクが感光性樹脂層と一体化された層構成におい
て、マスクを熱現像しても剥離現像の解像性を劣化され
ることのない、製版材料および製版方法を提供すること
にある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決すべく、鋭意検討を重ねられた結果完成されたもので
ある。

【００１５】すなわち、本発明は、支持体上に、重合性
化合物を含有し剥離現像が可能な感光性樹脂層及び親水
層を少なくとも順次積層してなる製版材料であって、該
親水層が該感光性樹脂層に対してマスク能を有してなる
剥離現像型製版材料である。

【００１６】また、本発明は、親水層が感光性樹脂層上
に形成された層厚１μｍ乃至５０μｍの親水性樹脂層
と、親水性樹脂層上に形成された少なくともハロゲン化
銀、有機銀塩及び還元剤を含有する感光性銀塩層、及び
感光性銀塩層上に形成された保護層よりなり、前記感光
性銀塩層を露光現像することにより、前記感光性樹脂層
に対するマスクを形成する剥離現像型製版材料である。

【００１７】また、感光性銀塩層が親水層である剥離現
像型製版材料である。

【００１８】また、親水性樹脂層は層厚０．５μｍ乃至
２０μｍの接着層を介して感光性銀塩層と接合されるも
のである。

【００１９】また、本発明の製版材料は、感光性樹脂層
の最大感光波長をλ₁ 、親水層の最大感光波長をλ₂ と
するとき、次式（Ｉ） （λ₂ −λ₁ ）≧１５０ｎｍ （Ｉ） が成立するものである。

【００２０】また、本発明は、親水性樹脂層および／ま
たは接着層および／または感光性樹脂層の少なくとも一
層に、感光性銀塩層の感光波長に対するハレーション防
止染料を含有する剥離現像型製版材料である。

【００２１】また、本発明は、上述の剥離現像型製版材
料に対して、（ａ）親水層側より、親水層の感光波長に
応じた像様露光および／または像様の熱印可を行う工
程、（ｂ）親水層に対して、必要に応じて現像処理を行
う工程、（ｃ）親水層側より親水性樹脂層の感光波長に
応じた全面露光を行う工程、及び（ｄ）親水層より、支
持体を感光性樹脂層の未重合部と共に剥離除去し、親水
層上に感光性樹脂層の重合部を残留させる工程、さら
に、必要により、（ｅ）感光性樹脂層の重合部に対し
て、後露光および／または加熱および／または加圧を行
う工程を順次施す製版方法である。

【００２２】または、本発明の親水層は、水に対する接
触角が５０°以下であり、好ましくは３０°以下、より
好ましくは２０°以下である。

【００２３】以下、図面を用いて本発明を、さらに詳細
に説明する。

【００２４】図１は、本発明の剥離現像型製版材料の層
構造の一例を模式的に示す断面図である。

【００２５】図１に示すように、本発明の剥離現像型製
版材料は、支持体１０１上に重合性化合物を有する剥離
現像可能な感光性樹脂層１０２、親水層１０３を順に積
層した形で構成される。さらに親水層は、単層で上記感
光性樹脂層に対するマスク能を有しても、必要に応じて
複層構成にて、マスク能を有してもよい。複層構成の一
例として、図１に示すように感光性樹脂層１０２上に、
親水性樹脂層１０４、感光性銀塩層１０５、保護層１０
６を順に積層した構成が一般に用いられる。

【００２６】ここでいう「マスク能」とは、光透過制御
を行い得ることを意味し、本発明においては、感光性樹
脂層の感光波長に対応した波長域の全面露光を行った際
に、あらかじめ親水層に形成された像が光透過をさえぎ
り、かつ非像形成部が光透過性を有することにより、感
光性樹脂層が、露光部と未露光部との物性差を生じ、支
持体と親水層との間で剥離現像可能ならしめる光透過制
御能をいう。

【００２７】次に上記本発明の剥離現像型製版材料を構
成する各種材料について説明する。

【００２８】本発明の支持体としては、親水層と感光性
樹脂層との関係において、感光性樹脂層に対してマスク
能を有する親水層側から全面露光をした後に、支持体と
親水層を剥離し、感光性樹脂層の重合部が親水層と共
に、未重合部が支持体と共に剥離され良好に現像可能な
ものが選ばれる。例えば、ポリエチレンテレフタレート
フィルムよりなるものが、強度、耐湿性、また安価に入
手可能な点から好ましい。しかし、前述の様に剥離現像
が可能なものであれば、これに限定されない。この支持
体の厚みは、一般的に３μｍ〜１００μｍ、好ましくは
８μｍ〜５０μｍが、比較的に入手が容易でかつ強度等
の特性が安定したものが得られる点で望ましいが、上記
範囲以外のものでも用いることができる。さらに、支持
体に、感光性樹脂層の感光波長に対応したハレーション
防止の染色を施しても良好に用いることができる。ま
た、支持体と感光性樹脂層間および／または、支持体の
感光性樹脂層と接しない面側に、感光性樹脂層の感光波
長に対応したハレーション防止層を別に設けてもよい。
このハレーション防止染料として好適に用いられるもの
は、例えば、シアニン染料、メロシアニン染料、ローダ
ミン染料、ナフトキノン染料、トリアリールメタン染料
等が挙げられる。これらの中で、種々の吸収波長のもの
を選択できるという点で、シアニン染料が一般的であ
る。シアニン染料としては、チオシアニン、オキサシア
ニン、キノシアニン、インドシアニン、などが選択され
る。

【００２９】本発明で用いられる感光性樹脂層１０２と
しては、前述の各公報記載の材料を用いることができ
る。すなわち、感光性樹脂層を構成する要素として、少
なくとも重合性化合物、層形成性高分子物質、光重合開
始剤からなっており、必要に応じて、光開始助剤、熱重
合禁止剤、着色剤、可塑剤、充填剤などの添加剤を配合
させてもよい。また、本発明において感光性樹脂層に、
親水層の感光波長に対応したハレーション防止染料を含
ませてもよい。

【００３０】重合性化合物としては１分子中に反応性ビ
ニル基を少なくとも１個有する化合物を使用することが
でき、例えば、反応性ビニル基含有単量体、反応性ビニ
ル基含有オリゴマー及び反応性ビニル基含有ポリマーか
らなる群より選択した１種以上を用いることができる。
これら化合物の反応性ビニル基としては、スチレン系ビ
ニル基、（メタ）アクリル酸系ビニル基、アリル系ビニ
ル基、ビニルエーテルなどの他の酢酸ビニルなどのエス
テル系ビニル基などの重合反応性を有する置換基もしく
は非置換のビニル基が挙げられる。ここで、（メタ）ア
クリル酸とは、メタクリル酸及びアクリル酸を意味す
る。

【００３１】かかる条件を満たす重合性化合物として
は、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−
ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ブタンジオ
ールモノアクリレート、グリセロールモノ（メタ）アク
リレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、グリ
セロールメタクリレートアクリレート等の水酸基含有重
合性化合物：２−メトキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート等のアル
コキシ基含有の重合性化合物；ｔ−ブチルアミノエチル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル
（メタ）アクリレート等のアミノ窒素含有の重合性化合
物；ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレー
ト、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレー
ト、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等のジ
オールと（メタ）アクリル酸の１：１、１：２付加物；
エチレングリコール・ジグリシジルエーテルジ（メタ）
アクリレート、ポリエチレングリコール・ジグリシジル
エーテルジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリ
コール・ジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレー
ト、ネオペンチルグリコール・ジグリシジルエーテルジ
（メタ）アクリレート、グリセリンジグリシジルエーテ
ルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシ
ジルエーテルジ（メタ）アクリレート、トリメチロール
プロパントリグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレー
ト等のジオール・ジグリシジルエーテルとアクリル酸と
の１：２付加物；ペンタエリスリトールモノ（メタ）ア
クリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等の
ペンタエリスリトール誘導体；（メタ）アクリル酸、
（メタ）アクリル酸金属塩、アクリル酸ダイマー；（メ
タ）アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル（メタ）
アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミ
ド、ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシ
メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブトキシ（メタ）ア
クリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリル
アミド、エチレンジ（メタ）アクリルアミド、プロピレ
ンジ（メタ）アクリルアミド、１，４−フェニレンジ
（メタ）アクリルアミド、エチレンテトラ（メタ）アク
リルアミド、プロピレンテトラ（メタ）アクリルアミ
ド、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、アクリルア
ミド・グリオキサール付加体、アクリルアミド・メチロ
ールエチレン尿素縮合物、１，３，５−トリアクリロイ
ルヘキサヒドロｓ−トリアジン、Ｎ，Ｎ−ジアリルアク
リルアミド、アクリルアミド・メチロールメラミン縮合
物、アクリルアミド・メチロールトリアゼン縮合物、ア
クリルアミド・メチロールヒダントイン縮合物、アクリ
ルアミド・メチロール尿素、Ｎ，Ｎ−ジアリルアクリル
アミド等のアクリルアミド誘導体；２−（メタ）アクリ
ルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸等のスルホン
基含有の重合性化合物；（メタ）アクリルアミドプロピ
ルトリメチルアンモニウムクロライド、（メタ）アクリ
ロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド
等のアンモニウム塩基含有の重合性化合物；モノ（２−
（メタ）アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェ
ート等のリン酸基含有の重合性化合物；Ｎ−（メタ）ア
クリロイルモルホリン、テトラヒドロオフルフリール
（メタ）アクリレート、ビニルアセテート、アクリロニ
トリル、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリ
ドン等、オリゴマー又はポリマー、更には、例えばスチ
レン、メチルスチレン、クロルスチレン、ブロモスチレ
ン、メトキシスチレン、ジメチルアミノスチレン、シア
ノスチレン、ニトロスチレン、ヒドロキシスチレン、ア
ミノスチレン、カルボキシスチレン、（メタ）アクリル
酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリ
ル酸ブチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メ
タ）アクリル酸フェニル、ビニルピロリジン、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、イソブチルビ
ニルエーテル、β−クロロエチルビニルエーテル、フェ
ニルビニルエーテル、ｐ−メチルフェニルビニルエーテ
ル、ｐ−クロルフェニルビニルエーテルなどの一価の単
量体；ジビニルベンゼン、シュウ酸ジスチリル、マロン
酸酸ジスチリル、コハク酸ジスチリル、グルタン酸ジス
チリル、アジピン酸ジスチリル、マレイン酸ジスチリ
ル、フマル酸ジスチリル、β，β−ジメチルグルタン酸
ジスチリル、２−ブロモグルタン酸ジスチリル、α，
α’−ジクロログルタン酸ジスチリル、テレフタル酸ジ
スチリル、シュウ酸ジ（エチル（メタ）アクリレー
ト）、シュウ酸ジ（メチルエチル（メタ）アクリレー
ト）、マロン酸ジ（エチル（メタ）アクリレート）、マ
ロン酸ジ（メチルエチル（メタ）アクリレート）、コハ
ク酸ジ（エチル（メタ）アクリレート）、グルタル酸ジ
（エチル（メタ）アクリレート）、アジピン酸ジ（エチ
ル（メタ）アクリレート）、マレイン酸ジ（ジエチル
（メタ）アクリレート）、フマル酸ジ（エチル（メタ）
アクリレート）、β，β−ジメチルグルタル酸ジ（エチ
ル（メタ）アクリレート）、１，４−フェニレンビス
（オキシエチル（メタ）アクリレート）、１，４−フェ
ニレンビス（オキシメチルエチル（メタ）アクリレー
ト）、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシエト
キシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（（メタ）アクリ
ロイルオキシメチルエトキシ）シクロヘキサン、１，４
−ビス（（メタ）アクリロイルオキシエトキシカルバモ
イル）ベンゼン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイル
オキシメチルエトキシカルバモイル）ベンゼン、１，４
−ビス（（メタ）アクリロイルオキシエトキシカルバモ
イル）シクロヘキサン、ビス（（メタ）アクリロイルオ
キシエトキシカルバモイルソクロヘキシル）メタンなど
の２価の単量体；シアヌル酸トリ（メタ）アクリレー
ト、１，１，１−トリメチロールプロパントリ（メタ）
アクリレート、シアヌル酸トリ（エチル（メタ）アクリ
レート）、１，１，１−トリメチロールプロパントリ
（エチルアクリレート）、シアヌル酸トリ（エチルビニ
ルエーテル）、１，１，１−トリメチロールプロパンと
３倍モルのトルエンジイソシアネートとの反応物とヒド
ロキシエチルアクリレートとの縮合物、１，１，１−ト
リメチロールプロパンと３倍モルのヘキサンジイソシア
ネートとの反応物とヒドロキシスチレンとの縮合物など
の３価の単量体；例えばペンタエリスリトールテトラア
クリレートなどの４価の単量体；ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレートなどの６価の単量体など、更に
は、オリゴマー又はポリマーの末端に反応性ビニル基を
残した重合性化合物、あるいはオリゴマー又はポリマー
の側鎖に反応性ビニル基をつけた重合性化合物などを挙
げることができる。

【００３２】なお、これらの重合性化合物を２種以上組
合わせて用いることも可能である。

【００３３】層形成高分子物質としては、例えば塩素化
ポリエチレン、塩素化ポリプロピレンなどの塩素化ポリ
オレフィン、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル
酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリル酸アルキルエステ
ル（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ブチル
基など）、アクリル酸アルキルエステル（アルキル基は
同上、）とアクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン、スチレン、ブタジエン等のモノマーの少なくとも
一種の共重合物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルとアクリ
ロニトリルの共重合物、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニ
リデンとアクリロニトリルの共重合物、ポリ酢酸ビニ
ル、酢酸ビニルと塩化ビニルの共重合物、ポリビニルア
ルコール、ポリビニルアセテート、ポリビニルピロリド
ン、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリルとスチレ
ンの共重合物、アクリロニトリルとブタジエン及びスチ
レンとの共重合物、ポリビニルアルキルエーテル（アル
キル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル
基、ブチル基等）、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リブチン、ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン、
ポリアミド（６−ナイロン、６，６−ナイロン、６，１
０−ナイロン等）、ポリ−１，３−ブタジエン、ポリイ
ソプレン、ポリウレタン、ポリエステル（ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレンイソフタレート線状飽和
ポリエステル等）、塩化ゴム、ポリクロロプレン、塩化
ゴム、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、
スチレン−ブタジエンゴム、ポリ（クロロスルホン化エ
チレン）などのホモポリマー又は共重合物がある。

【００３４】層形成性高分子物質の量は重合性化合物１
００重量部に対して２０重量部〜１０００重量部更には
２５重量部〜５００重量部が好ましい。

【００３５】上記の物質の内、好ましいものとしては、
塩素化ポリエチレンおよび塩素化ポリプロピレンに代表
される塩素化ポリオレフィン、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重
合物（塩化ビニルのモル含量２０〜８０％）、塩化ビニ
リデン−アクリロニトリル共重合物（アクリロニトリル
のモル含量１０〜３０％）、塩化ビニル−アクリロニト
リル共重合物（アクリロニトリルのモル含量１０〜３０
％）、ポリスチレン、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルアセテート、ポリビニルホルマール、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合物、ポリクロロプレン、ポリイソプレ
ン、塩化ゴムならびにポリ（クロロスルホン化エチレ
ン）などであり、特に好ましいものとしては塩素化ポリ
エチレンおよび塩素化ポリプロピレンに代表される塩素
化ポリオレフィンおよびポリビニルブチラールである。
これらの物質は、単独で用いてもよいが、二種以上混合
して用いてもよい。

【００３６】光重合開始剤としては、例えばカルボニル
化合物、イオウ化合物、ハロゲン化合物、レドックス系
光重合開始剤等が挙げられる。

【００３７】具体的には、カルボニル化合物としては、
例えばベンジル、４，４’−ジメトキシベンジル、ジア
セチル、カンファーキノンなどのジケトン類；例えば
４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’−
ジメトキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類；例
えばアセトフェノン、４−メトキシアセトフェノンなど
のアセトフェノン類；例えばベンゾインアルキルエーテ
ル類；例えば２−シクロロチオキサントン、２，５−ジ
エチルチオキサントン、チオキサントン−３−カルボン
酸−β−メトキシエチルエステルなどのチオキサントン
類；ジアルキルアミノ基を有するカルコン類およびスチ
リルケトン類；３，３’−カルボニルビス（７−メトキ
シクマリン）、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチ
ルアミノクマリン）などのクマリン類などが挙げられ
る。

【００３８】イオウ化合物としてはジベンゾチアゾリル
スルフィド、デシルフェニルスルフィドなどのジスルフ
ィド類などが挙げられる。

【００３９】ハロゲン化合物としては、例えば四臭化炭
素、キノリンスルホニルクロライド、トリハロメチル基
を有するＳ−トリアジン類などが挙げられる。

【００４０】レドックス系の光重合開始剤としては、３
価の鉄イオン化合物（例えばクエン酸第２鉄アンモニウ
ム）と過酸化物などを組み合せて用いるものや、リボフ
ラビン、メチレンブルーなどの光還元性物質とトリエタ
ノールアミン、アスコルビン酸などの還元剤を組み合せ
て用いるものなどが挙げられる。

【００４１】また以上に述べた光重合開始剤において、
２種以上を組み合せてより効率の良い光重合反応を得る
こともできる。

【００４２】この様な光重合開始剤の組み合わせとして
は、ジアルキルアミノ基を有するカルコンおよびスチリ
ルスチリルエトン類、クマリン類とトリハロメチル基を
有するＳ−トリアジン類、カンファーキノンとの組み合
わせなどが挙げられる。

【００４３】重合開始剤の量は、重合性化合物１００重
量部に対して０．１重量部〜３０重量部、更には０．３
重量部〜２５重量部が好ましい。

【００４４】ハレーション防止染料は前述のものが挙げ
られるが、このうちカチオン型がより好ましい。

【００４５】本発明の親水層は、上記感光性樹脂層に対
して、マスク能を有するものが選ばれる。親水層は、以
下の親水性樹脂層、感光性銀塩層、保護層により構成す
ることができる。

【００４６】本発明で用いられる親水性樹脂層１０４と
しては、前述の剥離現像が可能なもの、かつ、印刷版に
おける親水性を示す非画線部を形成可能なものが選ばれ
る。

【００４７】例えば、グァーガム、ローカストビームガ
ム、アラビアガム、タラガント、カラギナン、ペクチ
ン、マンナン、デンプンなどの植物系高分子；キサンタ
ンガム、デキストリン、サクシグルカン、カードランな
どの微生物系高分子；ゼラチン、カゼイナルブミン、コ
ラーゲンなどの動物系高分子；メチルセルロース、ヒド
ロキシセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチ
ルセルロースなどのセルロース系高分子；可溶性デンプ
ン、カルブキシメチルデンプン、メチルデンプンなどの
デンプン系高分子；アルギン酸プロピレングリコール、
アルギン酸塩などのアルギン酸系高分子、その他多糖類
系の誘導体等の半合成高分子；ポリビニルアルコール、
ポリビニルピロリドン、ポリビニルメチルエーテル、カ
ルボキシビニルポリマー、ポリアクリル酸ナトリウム、
ポリアクリルアミド、ポリ（メタ）アクリル酸、ポリア
クリロニトリル等のビニル系高分子；その他のポリエチ
レングリコール、酸化エチレン、酸化プロピレンブロッ
ク共重合体等の合成高分子；上記高分子に二酸化ケイ
素、二酸化チタン、シリカ、クレー、架橋剤、耐水化
剤、界面活性剤等が添加されたもの；特公平２−１５３
８３号、特開平２−８０４７２号、同２−１０５８７３
号、同１−２３８９３５号、同２−１１０１１９号、同
２−１０７６７８号に記載の親水性高分子等、さらに、
その物自身は疎水性であるが、エッチ液や湿し水により
加水分解あるいは、加水分解して親水性基を生成する官
能基を含有する樹脂も好ましく、特開平１−３０６８５
６号、同１−３０６８５５号、同１−２６７０９３号、
同１−２６９５９３号に記載の樹脂等を挙げることがで
きる。これらは、単独あるいは必要に応じて２種類以上
組み合わせて使用することができる。また、上記親水性
の樹脂は、その多くが水溶性であり、耐水性をもたせる
ために、上記架橋剤としては、例えば、メラミンホルマ
リン樹脂、尿素ホルマリン樹脂、ポリアミドポリアミノ
エピクロルヒドリン樹脂、ケトンホルマリン樹脂、メチ
ロール化ポリアミド樹脂、グリオキザールあるいは多価
金属塩等を使用することができる。

【００４８】また、必要により前述のハレーション防止
染料を含有させてもよい。この場合、水に溶解しやすい
アニオン型が好ましい。

【００４９】親水性樹脂層の層厚は、１μｍ〜５０μ
ｍ、より好ましくは、２μｍ〜３０μｍに形成する。親
水性樹脂層が薄い場合、感光性樹脂の剥離現像時の解像
性が向上するが、印刷版として使用するときの強度が不
足し、充分な耐刷性が得られず、２〜３枚印刷するだけ
で、不適性となってしまう。一方、厚すぎる場合、感光
性樹脂層の剥離現像時に、ギザや欠け、像の太り、細り
といった現像を引き起こす要因となって、解像性や、像
の再現性が低下し、好ましくない。また、感光性銀塩層
を熱現像する際に、通常１００℃以上の加熱が３秒〜２
０秒行われるため、続いて行われる剥離現像の現像性を
損なう要因となっている。そこで、親水性樹脂層の厚み
は、上記の様に、１μｍ以上、より好ましくは２μｍ以
上とすることによって、加熱による剥離現像性の劣化を
抑えることができる。

【００５０】本発明で用いられる感光性銀塩層１０５
は、少なくともハロゲン化銀、有機銀塩、還元剤を有す
るのである。一般に、熱現像性乾式銀塩組成物がこれに
あたる。

【００５１】感光性ハロゲン化銀としては、塩化銀、臭
化銀、塩臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭化銀の何れでもよ
く、粒子内のハロゲン組成が均一あるいは異なった多重
構造を採っていてもよい。また、ハロゲン組成、粒子サ
イズ、粒子サイズ分布などが異なって二種以上のハロゲ
ン化銀を併用してもよい。更にこれらは色素などにより
分光増感、化学増感されていてもよい。

【００５２】有機銀塩としては、脂肪族カルボン酸、芳
香族カルボン酸、メルカプト基もしくはα−水素を有す
るチオカルボニル基化合物、およびイミノ基含有化合物
などとの銀塩である。

【００５３】脂肪族カルボン酸としては、酢酸、酪酸、
コハク酸、セバシン酸、アジピン酸、オレイン酸、リノ
ール酸、リノレン酸、酒石酸、パルミチン酸、ステアリ
ン酸、ベヘン酸、樟脳酸などがあるが、一般的に炭素数
が少ないほど銀塩としては不安定であるので適度な炭素
数を有するものがよい。

【００５４】芳香族カルボン酸としては、安息香酸誘導
体、キノリン酸誘導体、ナフタレンカルボン酸誘導体、
サリチル酸誘導体、沈食子酸、タンニン酸、フタル酸、
フェニル酢酸誘導体、ピロメリット酸等がある。

【００５５】メルカプト基又はα−水素を有するチオカ
ルボニル基化合物としては、３−メルカプト−４−フェ
ニル−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプトベン
ゾイミダゾール、２−メルカプト−５−アミノチアジア
ゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、Ｓ−アルキ
ルチオグリコール酸（アルキル基炭素数１２〜２２）、
ジチオ酢酸などジチオカルボン酸類、チオステアロアミ
ドなどチオアミド類、５−カルボキシ−１−メチル−２
−フェニル−４−チオピリジン、メルカプトトリアジ
ン、２−メルカプトベンゾオキサゾール、メルカプトオ
キサジアゾール又は３−アミノ−５−ベンジルチオ−
１，２，４−トリアゾール等、米国特許第４，１２３，
２７４号記載のメルカプト化合物が挙げられる。

【００５６】イミノ基を含有する化合物としては、特公
昭４４−３０２７０号又は同４５−１８４１６号記載の
ベンゾトリアゾール若しくはその誘導体、例えばベンゾ
トリアゾール、メチルベンゾトリアゾール等アルキル置
換ベンゾトリアゾール類、５−クロロベンゾトリアゾー
ル等、ハロゲン置換ベンゾトリアゾール類、ブチルカル
ボイミドベンゾトリアゾール等カルボイミドベンゾトリ
アゾール類、特開昭５８−１１８６３９号記載のニトロ
ベンゾトリアゾール類、特開昭５８−１１５６３８号記
載のスルホベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリ
アゾールもしくはその塩、またはヒドロキシベンゾトリ
アゾール等、米国特許４，２２０，７０９号記載の１，
２，４−トリアゾールや１Ｈ−テトラゾール、カルバゾ
ール、サッカリン、イミダゾール及びその誘導体などが
代表例として挙げられる。

【００５７】還元剤としては、有機銀塩を還元して銀を
生成し、銀像による黒化像を形成する化合物及び／又は
還元剤自体が有機銀塩との反応で変化した酸化体による
像を形成する化合物が用いられ、これらの還元剤は用い
られる有機銀塩の種類によって適宜に選択して用いるこ
とができる。用いることができる還元剤として、モノフ
ェノール類、ビスフェノール類、トリスフェノール類、
テトラキスフェノール類、モノナフトール類、ビスナフ
トール類、ジヒドロキシナフタレン類、トリヒドロキシ
ナフタレン類、ジヒドロキシベンゼン類、トリヒドロキ
シベンゼン類、テトラヒドロキシベンゼン類、ヒドロキ
シアルキルモノエーテル類、アスコルビン酸類、３−ピ
ラゾリドン類、ピラゾリン類、ピラゾロン類、フェニレ
ンジアミン類、ヒドロキシアミン類、レダクトン類、ヒ
ドロオキサミン酸類、ヒドラジド類、アミドオキシム
類、Ｎ−ヒドロキシ尿素類を挙げることができ、これら
の化合物の具体例は、特開昭５１−２２４３１号、米国
特許第３，６１５，５３３号、同第３，６７９，４２６
号、同第３，６７２，９０４号、同第３，７５１，２５
２号、同第３，７５１，２５５号、同第３，７８２，９
４９号、同第３，８０１，３２１号、同第３，７９４，
４５５号、同第３，８９３，８６３号、同第３，８８
７，３７６号、ベルギー国特許第７８６，０８６号、米
国特許第３，７７０，４４８号、同第３，８１９，３８
２号、同第３，７７３，５１２号、同第３，９２８，６
８６号、同第３，８３９，０４８号、同第３，８８７，
３７８号、特公昭５１−３５８５１号、特開昭５０−３
６１４３号、米国特許第３，８２７，８８９号、同第
３，７５６，８２９号、特開昭５０−３６１１０号、特
開昭５０−１１６０２３号、特開昭５０−１４７７１１
号、特開昭５１−２３７２１号、特開昭５０−９９７１
９号、特開昭５１−３２３２４号、特開昭５１−５１９
２３号、特開昭５０−１４０１１３号、特開昭５２−８
４７２７号各明細書に記載されている。ここで、露光部
と未露光部との光の吸収量（透過量）のコントラストを
大きくするためには、モル吸光係数の大きな酸化体が望
ましく、このような酸化体を形成する還元剤として、芳
香族ヒドロキシ化合物類が望ましい。以下に、この芳香
族ヒドロキシ化合物類について詳細に説明する。

【００５８】下記一般式（１）及び（２）で表わされる
化合物は有機銀塩との酸化還元反応により生成した酸化
体が光重合開始剤の吸収波長域の光を吸収することによ
り重合を禁止する能力を発現する芳香族ヒドロキシ化合
物である。

【００５９】

【化１】

【００６０】

【化２】 （但し、一般式（１），（２）中、ｒ¹ ，ｒ² 及びｒ³
は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換または未
置換のアルキル基、置換または未置換のシクロアルキル
基、置換または未置換のアラルキル基を示し、ｒおよび
ｒ⁴ は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換また
は未置換のアルキル基、置換または未置換のアリール
基、置換または未置換のアラルキル基、アルコキシ基を
示し、ｍは１〜３の整数、Ｙは１価〜３価の連結基とし
て、置換または未置換のアラルキル基、置換アミノ基、
アルキリデン基、置換または未置換のアラルキリデン
基、メチン基を示し、Ｚはアルキリデン基、置換または
未置換のアラルキリデン基を示す。）前記一般式
（１），（２）において、未置換アルキル基は、炭素数
１から１８の直鎖又は分岐アルキル基などであり、例え
ば、メチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル、ブチ
ル、ｔ−ブチル、ｉ−ブチル、アミン、ｉ−アミン、ｓ
ｅｃ−アミル、テキシル、ヘキシル、ヘプチル、オクチ
ル、ノニル、ドデシル、ステアリルなどを挙げることが
できる。

【００６１】置換アルキル基は、炭素数２から１８のア
ルコキシアルキル基、炭素数１から１８のハロゲノアル
キル基、炭素数１から１８のヒドロキシアルキル基、炭
素数１から１８のアミノアルキル基などであり、例え
ば、アルコキシアルキル基としては、メトキシエチル、
エトキシエチル、エトキシエチル、エトキシプロピル、
エトキシブチル、プロポキシメチル、プロポキシブチ
ル、ｉ−プロポキシペンチル、ｔ−ブトキシエチル、ヘ
キシロキシブチルなどを挙げることができる。

【００６２】ハロゲンアルキル基としては、クロロメチ
ル、クロロエチル、ブロモエチル、クロロプロピル、ク
ロロブチル、クロロヘキシル、クロロオキシルなどを挙
げることができる。

【００６３】ヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキ
シメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒ
ドロキシブチル、ヒドロキシペンチル、ヒドロキシヘキ
シル、ヒドロキシヘプチルなどを挙げることができる。

【００６４】アミノアルキル基としては、アミノメチ
ル、アセチルアミノメチル、ジメチルアミノメチル、ア
ミノエチル、アセチルアミノエチル、ジメチルアミノエ
チル、ジエチルアミノエチル、モルホリノエチル、ピペ
リジノエチル、ジエチルアミノプロピル、ジプロピルア
ミノエチル、アセチルアミノプロピル、アミノブチル、
モルホリノブチルなどを挙げることができる。

【００６５】シクロアルキル基としては、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘプチルである。アラルキ
ル基としては、ベンジル、クロロベンジル、フェネチル
などである。

【００６６】アリール基としては、炭素数６から１６の
もので、好ましくは、例えば、フェニル、ナフチル、ア
ントリル、フェナントリル、トリル、キシリル、クメニ
ル、メシチル、クロロフェニル、メトキシフェニル、フ
ルオロフェニル等である。

【００６７】アルコキシル基としては、炭素数１から１
８のもので、好ましくは、メトキシ、エトキシ、プロポ
キシ、ｉ−プロポキシ、ブトキシ等である。

【００６８】このうち、ｒ² ，ｒ³ として好ましい置換
基は、塩素原子、臭素原子、メチル、エチル、ｉ−プロ
ピル、ｔ−ブチル、ｓｅｃ−アミル、テキシル、エトキ
シメチル、メトキシエチル、クロロメチル、ヒドロキシ
メチル、アミノメチル、ジメチル−アミノメチル、ベン
ジルであり、特に好ましい置換基は、塩素原子、ｔ−ブ
チル、テキシルである。ｒ¹ として好ましい置換基は、
塩素原子、メチル、エチル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチ
ル、アミル、テキシル、ヒドロキシル、クロロメチル、
ヒドロキシメチル、ベンジル、シクロヘキシルであり、
特に好ましい置換基は、塩素原子、メチル、ｔ−ブチ
ル、テキシルである。

【００６９】１価の連結基の置換もしくは未置換のアラ
ルキル基としては、例えば、ベンジル、ｐ−メトキシベ
ンジル、ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル、ｐ−ピ
ロリジノベンジル、ｐ−メチルベンジル、ｐ−ヒドロキ
シベンジル、ｐ−クロロベンジル、３，５−ジクロロ−
４−ヒドロキシベンジル、ｏ，ｐ−ジメチルベンジル、
２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−メチルベンジ
ル、ナフチルメチルなどを挙げることができる。

【００７０】１価の連結基の置換アミノ基としては、メ
チルアミノジメチルアミノ、ジエチルアミノ、アセチル
アミノ、フェニルアミノ、ジフェニルアミノ、トリアジ
ルアミノなどを挙げることができる。

【００７１】２価の連結基のアルキリデン基としては、
例えば、メチレン、エチリデン、プロピリデン、ブチリ
デンなどを挙げることができる。

【００７２】２価の連結基のアラルキレン基としては、
例えば、ベンジレン、ｐ−メチルベンジレン、ｐ−ジメ
チルアミノベンジレンなどを挙げることができる。

【００７３】一般式（１）の中で好ましい還元剤として
は、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−（２−ヒドロキシ−
３−ｔ−ブチル−５−メチルベンジル）フェノール、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−（３，５−ジクロロ−４
−ヒドロキシベンジル）フェノール、２−ｔ−ブチル−
４（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル）−５
−メチルフェノール、４，４’−メチレンビス（２，６
−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビ
ス（２−ｔ−ブチル−５−メチルフェノール）、４，
４’−メチリデンビス（２−ｔ−ブチル−６−メチレン
フェノール）、４，４’−エチリデンビス（２，６−ジ
−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−エチリデンビス
（２−ｔ−ブチル−６−メチルフェノール）、４，４’
−プロピリデンビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノー
ル）、４，４’−ブチリデンビス（２，６−ジ−ｔ−ブ
チルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（２シク
ロヘキシル−６−メチルフェノール）、ビス（３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）フェニルメ
タン、ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）（４−メトキシフェニル）メタン、ビス
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル
（４−ジメチルアミノフェニル）メタン、トリス（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン
である。

【００７４】一般式（２）の中で好ましい還元剤として
は、４，４’−メチレンビス（２−メチル−１−ナフト
ール）、４，４’−メチレンビス（２−ｔ−ブチル−１
−ナフトール）、４，４’−メチレンビス（２−ｔ−ブ
チル−６−メチル−１−ナフトール）、４，４’−エチ
リデンビス（２−メチル−１−ナフトール）、４，４’
−エチレンビス（２−ｔ−ブチル−１−ナフトール）、
ビス（４−ヒドロキシ−３−メチル−ナフチル）フェニ
ルメタンである。

【００７５】感光性銀塩層の上記成分の好ましい配合比
は次の通りである。

【００７６】有機銀塩１モルに対して、感光性ハロゲン
化銀を好ましくは０．００１モル〜２モル、より好まし
くは０．０５モル〜０．４モル含有させるのが望まし
い。また、有機銀塩１モルに対して還元剤を好ましくは
０．２モル〜３モル、より好ましくは０．７モル〜１．
３モル含有させるのが望ましい。

【００７７】これらの材料について、より詳細には、特
開昭５０−９９７１９号、同５１−２３７２１号、同５
１−３２３２４号、特開平２−２１０３５３号等各公報
に記載されている。

【００７８】感光性銀塩層の層厚は０．５μｍ〜３０μ
ｍ、より好ましくは１μｍ〜２０μｍに形成する。

【００７９】これは、上記感光性銀塩層が薄すぎると、
Ｏ．Ｄ，（光学濃度）値が得られず感光性樹脂層に対す
るマスクとして不適となり、また、厚すぎると像が鈍
り、鮮明な像が得られないのでこれもマスクとして不適
となるためである。

【００８０】また必要に応じて、親水性樹脂層と感光性
銀塩層の間に、両層の接着性を強固にするための接着層
を設けてもよい。この接着層は、前述のハレーション防
止染料を含有して、ハレーション防止層として機能して
もよい。また、この接着層の厚みは、０．２μｍ〜１０
μｍが望ましい。

【００８１】さらに、本発明は、感光性銀塩層１０５上
に、保護層１０６を設けることが好ましい。この保護層
は、感光性銀塩層が、他の物質に接着、粘着するのを防
止し、また、大気中の水分等が浸透するのを防止する等
の機能をもつ。さらに、この保護層は、親水層及び感光
性樹脂層の感光波長に対して実質的に透明なものがもち
入られる。このような保護層に用いられる材料として
は、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、セ
ルロールジアセテート、セルロールトリアセテート、セ
ルロースアセテートブチレート、セルロースアセテート
プロピオネート、酢酸セルロース、セロファン、メチル
セルロース、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、塩化
ビニル塩化ビニリデンコポリマー、塩化ビニル酢酸ビニ
ルコポリマー等の塩化ビニルコポリマー、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、ポリカ
ーボネート、ゼラチン、ポリアミド等を挙げることがで
きる。さらに、これらを２種以上混合して用いても、積
層して用いることもできる。この保護層の厚みは、０．
２μｍ〜１００μｍ、好ましくは、０．５μｍ〜５０μ
ｍで用いられる。また、必要に応じて、各種添加剤を含
有することができる。

【００８２】さらに、本発明は、上記感光性樹脂層の最
大感光波長λ₁ と、親水層の最大感光波長λ₂ の間が、
（λ₂ −λ₁ ）≧１５０ｎｍの関係にある様に選ばれ
る。これは、感光性樹脂層に対してマスク能を有する親
水層への像様露光（例えば、半導体レーザー、ＬＥＤ、
Ｈｅ−Ｎｅレーザー等の高波長域に出力ピークを有する
光源）の光を、感光性樹脂層に到達し、感光性樹脂層の
非像部の光重合を引き起こし剥離現像性を劣化するのを
防ぐ目的による。また波長λ₁ と波長λ₂ との間が、λ
₁ ＜λ₂ の関係にあることが、照射される光のエネルギ
ー量の関係から、望ましい。すなわち親水層の感光波長
を、感光性樹脂層の感光性波長より長波長域にすること
により、上記の剥離現像性の劣化を防ぐことができる。

【００８３】また本発明は、親水性樹脂層および／また
は感光性樹脂層に親水層の感光波長に対応した前述のハ
レーション防止染料を含有することができる。このハレ
ーション防止染料は、波長λ₂ におけるＯ．Ｄ値が、
０．１〜１．０好ましくは０．２〜０．５の範囲になる
ように用いられる。

【００８４】ハレーション防止染料はカチオン型あるい
はアニオン型のどちらでもよいが、親水性樹脂層１０４
に入れる場合は、水に溶解し易いアニオン型が好まし
く、感光性樹脂層１０２に含有させる場合は、カチオン
型が好ましい。

【００８５】次に本発明の製版方法について説明する。

【００８６】図２は、本発明の製版方法の一例を示す概
念図であるが、本発明は、これに限定されない。

【００８７】図２に示すように支持体２０１、感光性樹
脂層２０２、親水性樹脂層２０４、感光性銀塩層２０
５、保護層２０６を順次積層した剥離現像型製版材料に
対して、 ａ）光源Ａより像様露光を行い、感光性銀塩層２０５中
に銀潜像２０７を形成する。光源Ａとしては、感光性銀
塩層の感光波長に対応した出力波長を有するものが選ば
れる。例えば、ＣＲＴ、半導体レーザー、ＬＥＤアレ
イ、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、ＬＣＤやＰＬＺＴ等のシャッ
ターアレイ等で、高波長域に出力ピークを有するものが
よい。また、光源Ａが感光性樹脂層の感光波長域に出力
波長域を有する場合は、光源からの光を、不図示のフィ
ルターで取り除いて露光するとよい。

【００８８】ｂ）続いて、加熱源Ｂにより、感光性銀塩
層２０５を均一に加熱もしくは、像様に加熱し、現像処
理を行う。銀潜像２０７に対応したマスク像２０８を形
成する。加熱源Ｂとしては、平面発熱体や、サーマルヘ
ッド、ハロゲンヒーターを有した加熱ローラー、通電加
熱、マイクロ波、赤外線による加熱等の、感光性銀塩層
の熱現像可能な温度に加熱及び制御可能なものが好まし
い。加熱温度は、８０℃〜１５０℃好ましくは、９０℃
〜１３０℃である。

【００８９】ｃ）光源Ｃより親水層側から全面露光を行
い、感光性樹脂層２０２に露光部と未露光部を生じせし
め、重合部と未重合部を形成する。光源Ｃとしては、感
光性銀塩層の感光波長より短波長域にあるように選ばれ
る、感光性樹脂層の感光波長に対応したものを用いる。
例えば、蛍光灯、高圧水銀灯、ハロゲンランプ、タング
ステンランプ、キセノンランプ、ＬＥＤ、レーザー等が
使用できる。

【００９０】ｄ）支持体２０１を親水層２０３より、感
光性樹脂層の未重合部と共に剥離除去し、印刷版２１１
とする。剥離は、不図示の剥離端をあらかじめ支持体お
よび／または親水層に設けておき、手で行ってもよい
し、または、別に剥離用の装置を用意それを用いてもよ
い。

【００９１】さらに、 ｅ）必要に応じて、印刷版２１１に対して、光源Ｃ、加
熱源ｂを用いて、後露光および／または加熱および／ま
たは不図示の加圧ローラー等で加圧を行い、印刷版の感
光性樹脂の重合部による像を更に定着させるとよい。加
熱および／または加圧は、像を変形しない程度に行われ
る。加熱温度は、好ましくは２０℃〜１００℃、より好
ましくは３０℃〜８０℃、また加圧は、０．０１〜１ｋ
ｇｆ／cm ² 、より好ましくは０．１〜０．５ｋｇｆ／cm
² で行われる。

【００９２】

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明は、これら実施例のみに限定されるもので
はない。また以下の記載において「重量部」は部と略記
した。

【００９３】実施例１ （１）支持体として膜厚２５μｍのポリエチレンテレフ
タレート（ＰＥＴ）フィルム（パナック社製；ルミラー
２５Ｓ）を用い、下記組成の溶液を乾燥塗厚６μｍとな
るようワイヤーバーを用いて塗布し、オーブンで８０
℃、１０分間乾燥し、剥離現像可能な感光性樹脂層を得
た。この感光性樹脂層の最大感光波長λ₁は３９０ｎｍ
であった。 （２）次いで、下記組成溶液 を調製し、上記溶液６４部と、下記一般式（Ａ）、

【００９４】

【化３】 で示される像感色素化合物０．００１部をＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド１．０部に溶解させた溶液を暗室下で
ペイントシェーカーを用いて充分に、溶解、分散、混合
し、感光性銀塩層用乳剤を得た。該乳剤を、２５μｍ厚
のＰＥＴフィルム（パナック社製、ルミラー２５Ｓ）上
にワイヤーバーを用いて塗工し、乾燥膜厚６μｍの感光
性銀塩層を得た。

【００９５】次いで、下記組成溶液、 を調製し、これを前記感光性銀塩層上にワイヤーバーを
用いて塗工した後、オーブンで９５℃、５分間乾燥さ
せ、乾燥膜厚９μｍの親水性樹脂層を得た。親水性樹脂
層表面の水に対する接触角を測定したところ、１９°で
あった。

【００９６】（３）（１）及び（２）で作製したフィル
ムを、乾燥性樹脂層と親水性樹脂層が対面する様にラミ
ネートし、本発明の製版材料を得た。

【００９７】（４）上記製版材料の保護層側から、ドラ
ムスキャン式レーザービームプリンター（阿部設計製）
を用いて、Ｈｅ−Ｎｅレーザー（出力５ｍＷ）による像
露光を行った。次いで１００℃で１０秒間、加熱現像を
施し、感光性銀塩層の露光部に銀潜像を形成した。

【００９８】次に、保護層側より、超高圧水銀灯（５０
０Ｗ，ミカサ製）による全面露光（約１２０ｍＪ／cm²
at ３６５ｎｍ）を３０秒間行い、銀潜像によるマスク
に対応した重合部／未重合部からなる重合画像を感光性
樹脂層に形成した。

【００９９】次に、感光性樹脂層の未重合部とともに、
支持体を該工程品から剥離し、印刷版を得た。この印刷
版の解像度は９００ｄｐｉであった。

【０１００】（５）（４）で作製した印刷版を用いて、
以下の要領で印刷を行った。

【０１０１】まず上記印刷版を脱イオン水にて充分濡ら
した後、図３に示される印刷装置の版胴３０１に装着し
た。インク秤３０４及び湿し水だめ３０８にインク３０
５（商品名ＢＳＤニューラバー墨シルバー、（株）文祥
堂製）及び湿し水３０６（脱イオン水）をそれぞれ供給
し、印刷装置を稼動させた。まず湿し水３０６を湿し水
供給ローラ３０７を介して印刷版上に供給し、次いでイ
ンク３０５をインク供給ロール３０３を介して印刷版上
に供給した。次に、感光性樹脂層の重合部に付着したイ
ンクをブランケット胴３０９に転写した。更に普通紙か
らなる被記録体３１１をカセット３１２からコロ３１３
により輸送し、ブランケット胴と圧胴３１０の間隙を通
過させ、ブランケット胴から普通上にインクを転写し、
印刷物を得た。

【０１０２】印刷速度８０枚／分の条件で、地汚れのな
い黒色画像１０００枚を得た。このとき、親水性樹脂か
らの感光性樹脂重合部の剥離はみられなかった。

【０１０３】比較例１ 以下の要領で図４に湿す製版材料を作製した。

【０１０４】（１）まず、実施例１（２）と同様の写真
乳剤を調製し、これを膜厚９μｍのＰＥＴフィルム４０
４上に、実施例１と同様に塗工し感光性銀塩層４０５を
得た。次いで、感光性銀塩層４０５上に、ポリビニルア
ルコール（ＰＶＡ：商品名ゴーセノールＧＬ−０５）の
１０％水溶液をワイヤーバーにより塗工し、乾燥膜厚４
μｍの保護層４０６を得た。次いで、実施例１（１）と
同様の溶液を調製し、前記ＰＥＴフィルムの感光性銀塩
層に接する面の反対面に塗工し、乾燥膜厚６μｍの剥離
現像可能な感光性樹脂層４０３を得た。

【０１０５】ここでＰＥＴフィルムは中間支持体４０４
として用いた。

【０１０６】（２）長繊維パルプを主体としたサイズ
度、耐水性、及び平滑性の優れた秤量値１４０ｇ／ｍ²
の上質紙を用意し、この上に実施例１と同様に親水性樹
脂層４０２を設けた。ここで、前記上質紙は基板４０１
として用いた。

【０１０７】（３）（１），（２）で作製したフィルム
を感光性樹脂層４０３と親水性樹脂層４０２が対接する
ようにラミネートし製版材料を得た。

【０１０８】（４）前記製版材料から、実施例１と同様
に印刷版を作製した。その結果、親水性樹脂層上の重合
部による像のエッジ部分の切れが悪く、剥離現像時にし
ばしば発生するギザが、像に付随して発生していた。

【０１０９】（５）（４）で作製した印刷版を用いて、
実施例１と同様に印刷を行ったところ解像度は６００ｄ
ｐｉ程度であった。

【０１１０】実施例２〜６ 比較例２〜３ 親水性樹脂層の膜厚を２μｍ乃至１００μｍまで変化さ
せ、像様露光条件を適宜調整した以外は、実施例１と同
様に印刷版の作製、印刷を行い、印刷版の解像度および
耐刷性を調べた。結果を表１に示す。

【０１１１】

【表１】 ＊）親水性樹脂層上で剥離現像できなかった。（感光性
樹脂層の熱現像の際の加熱が悪影響をおよぼしたものを
考えられる） 表１より、親水性樹脂層の膜厚は２μｍ〜５０μｍの範
囲であることが好ましいことが判る。

【０１１２】実施例７ 感光性銀塩層に含有させる像感色素化合物として、下記
一般式（Ｂ）、

【０１１３】

【化４】 で示される化合物、３，３’，９−トリエチル−５，
５’−ジフェニル−２，２’−オキサカルボシアニンア
イオダイドに替えた以外は実施例１と同様に製版材料を
作成した。この感光性銀塩層の最大感光波長は５４０ｎ
ｍであった。

【０１１４】次いで、実施例１と同様に印刷版を形成し
たところ、解像度は９００ｄｐｉ程度であった。しか
し、実施例１に比べ画線部の切れは低下していた。

【０１１５】比較例４ 親水性樹脂層にハレーション防止染料を含有させない外
は、実施例１と同様に、製版材料、印刷版の作成を行っ
た。その結果、印刷版の解像度は６００ｄｐｉとなり、
本発明におけるハレーション防止染料の効果が確認でき
た。

【０１１６】比較例５ 感光性銀塩層を増感色素化合物を含有しない組成にし、
像様露光を以下のように変えた以外は、実施例１と同様
に、製版材料、印刷版の作成を行った。

【０１１７】像様露光は、市販の湿式フィルムより作成
したマスクを通して、タングステンタンプ（１００Ｗ）
により１０００ｌｕｘ、３秒間行った。

【０１１８】作成した印刷版は剥離現像時、未重合部分
が、ところどころ親水性樹脂層上に残存した。次いで、
実施例１と同様に印刷を行ったところ、印刷物の画像は
実施例１と比較して著しく悪化した。

【０１１９】実施例８ （１）実施例１と同様にＰＥＴフィルム上に感光性樹脂
層を作成した。

【０１２０】（２）さらに別のＰＥＴフィルム上に実施
例１の感光性銀塩層用乳剤のポリビニルブチラールの替
わりに、ケン化度６０％のポリビニルアルコールとし、
溶剤としてトルエン４０部、ＩＰＡ４０部とした他は実
施例１と同様に塗工乾燥し、親水層を得た。この親水層
の水に対する接触角を測定したところ３０°であった。

【０１２１】（３）（１）及び（２）で作成したフィル
ムの感光性樹脂層と親水層とが対面する様にラミネート
し、本発明の製版材料を得た。

【０１２２】（４）上記製版材料を実施例１と同様に像
露光、加熱現像、全面露光および剥離現像を行い印刷版
を得た。この印刷版の解像度は９００ｄｐｉであった。
また剥離現像時にしばしば発生するギザや泣き別れが見
られなかった。

【０１２３】

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、親水層側から全面露光を行うので、剥離現像時の画
質の劣化のない、高解像性の印刷版を得ることができ
る。また、親水性樹脂層と接着界面をより全面露光光源
側におくことができるため、親水性樹脂層と感光性樹脂
層の重合部との結着力が強固になり、耐刷性が向上する
利点も有する。

【０１２４】さらに本発明によれば、レーザー等の比較
的出力の小さい光源を用いた書き込みによる製版が可能
となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の製版材料の層構造の一例を模式的に示
す断面図である。

【図２】本発明の製版方法を模式的に示す説明図であ
る。

【図３】本実施例に使用した印刷装置の構成を示す模式
断面図である。

【図４】従来の製版材料の層構造を示す断面図である。

【符号の説明】

１０１，２０１ 支持体 １０２，２０２ 感光性樹脂層 １０３，２０３ 親水層 １０４，２０４， 親水性樹脂層 １０５，２０５ 感光性銀塩層 １０６，２０６ 保護層 ２０７ 銀潜像 ２０８ マスク像 ２０９ 未重合部 ２１０ 重合部 ３０１ 版胴 ３０２ 印刷版 ３０３ インク供給ロール ３０４ インク秤 ３０５ インク ３０６ 湿し水 ３０７ 湿し水供給ロール ３０８ 湿し水だめ ３０９ ブランケット胴 ３１０ 圧胴 ３１１ 被記録体 ３１２ カセット ３１３ コロ ３１４ トレイ ４０１ 基板 ４０２ 親水性樹脂層 ４０３ 感光性樹脂層 ４０４ 中間支持体 ４０５ 感光性銀塩層 ４０６ 保護層

フロントページの続き (72)発明者 毛利 明広 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に、重合性化合物を含有し剥離
   現像が可能な感光性樹脂層及び親水層を少なくとも順次
   積層してなる製版材料であって、該親水層が該感光性樹
   脂層に対してマスク能を有してなることを特徴とする剥
   離現像型製版材料。
2. 【請求項２】 親水層が少なくともハロゲン化銀、有機
   銀塩及び還元剤を含有する請求項１記載の剥離現像型製
   版材料。
3. 【請求項３】 親水層が、感光性樹脂層上に形成された
   親水性樹脂層と、親水性樹脂層上に形成された少なくと
   もハロゲン化銀、有機銀塩及び還元剤を含有する感光性
   銀塩層、及び感光性銀塩層上に形成された保護層とから
   なり、前記感光性銀塩層を露光現像することにより、該
   感光性銀塩層に対するマスクを形成する請求項１記載の
   剥離現像型製版材料。
4. 【請求項４】 親水性樹脂層の層厚が、１μｍ乃至５０
   μｍの範囲にあることを特徴とする請求項３記載の剥離
   現像型製版材料。
5. 【請求項５】 親水性樹脂層が接着層を介して感光性銀
   塩層と接合されることを特徴とする請求項３又は４記載
   の剥離現像型製版材料。
6. 【請求項６】 接着層の層厚が０．５μｍ乃至２０μｍ
   の範囲にあることを特徴とする請求項５記載の剥離現像
   型製版材料。
7. 【請求項７】 感光性樹脂層の最大感光波長λ₁ と親水
   層の最大感光波長λ ₂ との間に、次式（Ｉ） （λ₂ −λ₁ ）≧１５０ｎｍ （Ｉ） が成立する請求項１乃至６いずれか記載の剥離現像型製
   版材料。
8. 【請求項８】 親水性樹脂層および／または接着層およ
   び／または感光性樹脂層の少なくとも一層に、感光性銀
   塩層の感光波長に対するハレーション防止染料を含有す
   ることを特徴とする請求項１乃至７いずれか記載の剥離
   現像型製版材料。
9. 【請求項９】 請求項１乃至８いずれか記載の剥離現像
   型製版材料に対して、 （ａ）親水層側より、親水層の感光波長に応じた像様露
   光および／または像様の熱印可を行う工程、 （ｂ）親水層に対して、必要に応じて現像処理を行う工
   程、 （ｃ）親水層側より親水性樹脂層の感光波長に応じた全
   面露光を行う工程、及び （ｄ）親水層より、支持体を感光性樹脂層の未重合部と
   共に剥離除去し、親水層上に感光性樹脂層の重合部を残
   留させる工程を順次有することを特徴とする製版方法。
10. 【請求項１０】 請求項９記載の（ｄ）工程終了後、 （ｅ）感光性樹脂層の重合部および／または親水層に対
    して、後露光および／または加熱および／または加圧を
    行う工程を有することを特徴とする製版方法。