JPH059455A - 気密封止用接着剤 - Google Patents

気密封止用接着剤

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JPH059455A
JPH059455A JP16158191A JP16158191A JPH059455A JP H059455 A JPH059455 A JP H059455A JP 16158191 A JP16158191 A JP 16158191A JP 16158191 A JP16158191 A JP 16158191A JP H059455 A JPH059455 A JP H059455A
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JP
Japan
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adhesive
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polymer
powder
airtight sealing
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JP16158191A
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English (en)
Inventor
Takashi Suzuki
隆 鈴木
Masuo Mizuno
増雄 水野
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 下記式で表わされるポリイミド樹脂100重
量部とアルミニウム粉、マグネシウム粉、亜鉛粉、鉄粉
の少なくとも1種を含有する充填材が5〜1000重量
部および溶剤からなる気密封止用接着剤。 【化1】 【効果】 本接着剤はセラミックパッケージ封止後の水
分量が少なく、接着強度および低ボイド性に優れ、気密
封止用として好適である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体素子を気密封止用
セラミックパッケージにダイボンディングする場合に用
いられる接着剤に関するものである。更に詳しくは、半
導体素子を接着後、セラミックパッケージ封止時の熱処
理による高温に対しても、樹脂の分解による接着強度の
低下がなく、封止した容器内の水分量が極めて少ない低
ボイドの接着剤に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体素子をセラミックパッケー
ジにマウントする場合、Au−Si共晶、低融点ガラス
等の無機系マウント材や、エポキシ樹脂やポリイミド樹
脂を使用した有機系ペーストが使用されていた。しか
し、半導体素子の大型化により、セラミックパッケージ
と素子との熱膨張率の差を熱ストレスがかかったとき、
無機系マウント材では吸収できず、チップ割れが発生し
た。また、無機系マウント材は弾性率が高いため、機械
的衝撃がかかったとき、チップ剥れ等が起こった。この
ような欠点に対して、弾性率の低い樹脂をベースとし金
属フィラーを充填した有機系ペーストを使うことによ
り、上記の欠点を改良しようという試みもなされてい
る。しかしこれら有機系ペーストでは、やはり無機系マ
ウント材と比較して耐熱性に劣りセラミックパッケージ
封止時の高温により、樹脂が分解し、接着力が低下した
り、多量のガスを発生し封止を損なったり、あるいは、
多量の水分を発生し、信頼性を低下させ、特に、紫外線
消去型のリードオンリーメモリー(EPROM)では結
露した水によりいちじるしく機能低下をきたすという問
題があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ポリ
イミド樹脂を基にし、有機系の低応力性を生かしながら
無機系と同等以上の耐熱性を有し、極めて発生水分量の
少ない低ボイドの接着性に優れた気密封止用接着剤を提
供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記一般式
(1)で表わされる繰り返し単位を重合体分子中に10
モル%以上有する重合体と、アルミニウム粉、マグネシ
ウム粉、亜鉛粉、鉄粉の少なくとも一種を含有する気密
封止用接着剤である。
【0005】
【化2】 1 の1価の有機基として好ましいものの例を挙げると
【0006】
【化3】 等であるが、特にこれらに限定されるものではない。ま
た2種以上併用しても差し支えない。R2 の4価の有機
基として好ましいものの例を挙げると
【0007】
【化4】
であるが、特にこれらに限定されるものではない。また
2種以上併用しても差し支えない。
【0008】重合体中の一般式(1)で表わされる繰り
返し単位は、10モル%以上であることが必要であり、
20モル%以上であることが好ましい。10モル%未満
であると、充分な接着強度が得られなくなったり、ボイ
ドの発生量が多くなったりする。一般式(1)で表され
る繰り返し単位以外の繰り返し単位を、90モル%未満
の範囲で共重合および/またはブレンドしても差し支え
ない。共重合および/またはブレンドするものとして好
ましいものの例を挙げると、
【0009】
【化5】
【0010】等のポリイミドおよび/またはポリイミド
前駆体であるが、特にこれらに限定されるものではな
い。また、2種以上を併用しても差し支えない。一般式
(1)で表される繰り返し単位は、前記R1 、R2 の構
造を持つテトラカルボン酸二無水物と、1、3−ビス
(3−アミノフェノキシ)ベンゼンを反応させることに
より得ることができる。このポリイミド樹脂の特徴とし
て、分子中にエーテル結合を有するため、低弾性率で、
半導体素子をマウントした場合の応力緩和に優れている
ことと接着力が強いということが挙げられる。
【0011】本発明に用いられる充填材はアルミニウム
粉、マグネシウム粉、亜鉛粉、鉄粉の少なくとも一種を
用いたものである。形状としては、フレーク状、樹脂状
や球状等のものが用いられる。異なる粒径や粒状のもの
を混合して用いても差し支えない。充填材として、アル
ミニウム粉、マグネシウム粉、亜鉛粉、鉄粉の少なくと
も一種を用いる理由としては、ポリイミド樹脂の耐熱性
を損なうことなく硬化後の接着層の熱伝導率の向上によ
る熱抵抗の低減、高強度化、低ボイド化の他に、特に、
セラミックパッケージ封止後の内部水分量が低減すると
いったことがあげられる。この際の充填材/一般式
(1)で表わされる重合体の混合比は0.05〜10
(重合比)が好ましい。混合比が0.05未満である
と、充填材の効果が得られにくくなり、また10を超え
ると重合体の量が少なすぎるため、接着強度の低下を招
きやすい。
【0012】本接着剤の組成は固形分が10〜90重量
%であり、残余成分が溶剤であることが好ましい。固形
分がこれ以外であると充分な接着層の厚みが得られにく
く、むらになり、結果として接着強度の低下を招きやす
い。また、これ以上であると、ペーストが高粘度化し、
接着剤としての取扱いが困難となる。上記溶剤として好
ましいものの例を挙げると、N−メチル−2−ピロリド
ン、ベンジルピロリドン、N、N−ジメチルアセトアミ
ド、N、N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラ
ン、ジメチルスルホキシド、ジエチレングリコールジメ
チルメチルエーテル(ジグライム)、テトラエチレング
リコールジメチルエーテル(テトラグライム)、γ−ブ
チロラクトン、エチルセルソルブアセテート、ブチルセ
ルソルブアセテート、シクロヘキサノン等があるが、特
にこれらに限定されるものではない。また、2種以上を
併用しても差し支えない。さらに、均一にできる範囲で
重合体の貧溶媒を揮散調節剤、被膜平滑剤などとして使
用することもできる。
【0013】さらに本発明においては必要により消泡剤
を添加することもできる。気密封止用接着剤の製造方法
は次の通りである。一般式(1)で表される繰り返し単
位を有する重合体またはその溶液、充填材、溶剤を秤量
し、必要に応じ消泡剤等を添加して撹拌機、乳鉢、三本
ロール、ニーダー等を単独または適宜組み合わせて均一
のペースト状にする。本発明の気密封止用接着剤の使用
方法としては、通常のディスペンサー等で塗布すること
ができる。半導体素子のマウント後、オーブン中または
熱盤上で加熱硬化し接着することができる。
【0014】本発明の気密封止用接着剤はセラミックパ
ッケージへの半導体素子の接着に用いることができ、低
弾性率であるため、セラミックパッケージと半導体素子
との熱膨張率の差によるチップ割れや、機械的衝撃によ
るチップ剥れを防ぐことができる。さらに、耐熱性、接
着強度に優れ、セラミックパッケージ封止後の内部水分
量が充填材の還元作用により極めて少い、低ボイドの気
密封止用接着剤である。
【0015】
【実施例】以下、本発明を実施例で具体的に説明する。
【0016】合成例1 温度計、撹拌機、原料投入口、乾燥窒素ガス導入管を備
えた四ツ口セパラブルフラスコに1、3−ビス(3−ア
ミノフェノキシ)ベンゼン23.39g(0.08モル)
をN−メチル−2−ピロリドン193gに溶解させる。
乾燥窒素ガス流入下、3、3’、4、4’−オキシジフ
タル酸二無水物24.82g(0.08モル)を一気に投
入し、20℃に保ちながら5時間撹拌をつづけてポリア
ミド酸ワニスを得た。得られたポリアミド酸ワニスにト
ルエン58gを添加し、乾燥窒素ガス導入管を外して代
わりにディーンスターチ還流冷却管を取り付け、系の温
度を上昇させる。イミド化に伴って生じる水をトルエン
との共沸により系外へ除去しながら加熱を続け、140
〜150℃でイミド化を進めて水が生成しなくなった5
時間後に反応を終了させた。得られたポリイミドワニス
を30リットルのメタノール中に撹拌しながら1時間か
けて滴下し、樹脂を沈澱させ、濾過して固形分のみを回
収した後、乾燥器中にて120℃で8時間乾燥させた。
このようにして得たポリイミド樹脂のFT−IRスペク
トルを測定し、1650cm-1に現れるイミド化前のアミ
ド結合に基づく吸収と、1780cm-1に現われるイミド
環に基づく吸収からイミド化率を求めたところ、100
%イミド化されていることが判った。
【0017】合成例2 温度計、撹拌機、原料投入口、乾燥窒素ガス導入管を備
えた四ツ口セパラブルフラスコに1、3−ビス(3−ア
ミノフェノキシ)ベンゼン22.98g(0.0786モ
ル)と(2)式のシリコーンジアミン
【0018】
【化6】 17.10g(0.0224モル)をN−メチル−2−ピ
ロリドン166gに溶解させる。乾燥窒素ガス流入下、
3、3’、4、4’−オキシジフタル酸無水物31.02
g(0.1モル)を一気に投入し20℃に保ちながら5時
間撹拌をつづけてポリアミド酸ワニスを得た。得られた
ポリアミド酸ワニスにトルエン63gを添加し、以下合
成例1と同様の方法によりシリコーン変性ポリイミド樹
脂を得た。得られた樹脂のイミド化率は100%であっ
た。
【0019】実施例1 合成例1で得たポリイミド樹脂100重量部、平均粒径
5μmのアルミニウム粉100重量部、γ−ブチロラク
トン110重量部、テトラグライム75重量部を撹拌
後、三本ロールで混練し、均一なペースト状接着剤を得
た。得られた接着剤をセラミックスパッケージに塗付
し、10×7mm角のシリコンチップを150gfの圧力
でマウントし、120℃で1時間加熱後150℃、25
0℃、350℃でそれぞれ30分硬化後、390℃で2
0分間熱処理し接着強度をテンシロン万能試験機で測定
(MIL−STD−883C2027に拠る)した。同
様に15×15mm角のシリコンチップを使用し硬化後、
SOFTX線で接着部分のボイド面積を観察(MIL−
STD−883C2012に拠る)した。またボイド観
察を行なったサンプルと同様にして作成したサンプルに
蓋を載せ、1Kgfの荷重をかけ390℃で20分間処理し
封止した。封止したパッケージ内部の水分量を質量分析
(MIL−STD−883C1018に拠る)した。熱
分解温度は硬化した接着剤を熱天秤で測定した。その評
価結果を表1に示す。
【0020】実施例2、3、比較例1〜3 表1に示す配合割合で実施例1と同様にして接着剤を作
成し、評価した。その評価結果を表1に示す。
【0021】実施例1〜3のように特定の割合で一般式
(1)で表わされる繰り返し単位を有する重合体とアル
ミニウム粉、マグネシウム粉、亜鉛粉、鉄粉の少なくと
も1種を使用した充填材、溶剤の特定の割合からなる接
着剤を用いてチップを接着すると封止後の水分量が0.3
%以下と優れており、ボイド面積も20%未満と少なか
った。接着強度も20Kgf 以上(10×7mm角シリコン
チップ)と充分な値であった。これに対し比較例1、3
は水分量が2%以上とかなり多量に発生している。窒化
アルミニウムを使用した比較例2では耐熱性、接着強度
は良好であるが水分量は0.74%と銀粉のみの場合に較
べると良いが基準の0.5%をうわまわっている。ボイド
に関しても80%以上となり、熱伝導率が悪くなること
が考えられる。
【0022】
【表1】
【0023】
【発明の効果】本発明の気密封止用接着剤は、優れた接
着強度とボイドの発生が少なく、従来の欠陥である封止
後の水分量が多いといったことが除かれるので、セラミ
ックパッケージの気密封止に好適である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 下記一般式(1)で表わされる繰り返し
    単位を重合体分子中に10モル%以上有する重合体と、
    アルミニウム粉、マグネシウム粉、亜鉛粉、鉄粉のうち
    少なくとも1種を含有することを特徴とする気密封止用
    接着剤。 【化1】
JP16158191A 1991-07-02 1991-07-02 気密封止用接着剤 Pending JPH059455A (ja)

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JP16158191A JPH059455A (ja) 1991-07-02 1991-07-02 気密封止用接着剤

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JP16158191A JPH059455A (ja) 1991-07-02 1991-07-02 気密封止用接着剤

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JPH059455A true JPH059455A (ja) 1993-01-19

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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61143477A (ja) * 1984-12-18 1986-07-01 Mitsui Toatsu Chem Inc 耐熱性接着剤
JPS6440586A (en) * 1987-08-07 1989-02-10 Hitachi Chemical Co Ltd Adhesive composition
JPS6442136A (en) * 1987-08-07 1989-02-14 Nitto Denko Corp Manufacture of semiconductor device
JPH0291125A (ja) * 1988-09-29 1990-03-30 Nippon Steel Chem Co Ltd シリコーンポリイミド及びその製造方法

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