JPH059756A - エツチング方法 - Google Patents
エツチング方法Info
- Publication number
- JPH059756A JPH059756A JP18942191A JP18942191A JPH059756A JP H059756 A JPH059756 A JP H059756A JP 18942191 A JP18942191 A JP 18942191A JP 18942191 A JP18942191 A JP 18942191A JP H059756 A JPH059756 A JP H059756A
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- etching
- etched
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 貫通部の寸法形状及びハーフエッチ部の深さ
の双方を精密に制御し得るエッチング方法を提供する。 【構成】 金属板２の第１の領域Ｓ1 以外の領域の両面
に防食被覆４を形成して第１次エッチングを行い、上記
第１の領域Ｓ1 に目的形状に到達する前の穴を形成し
（ａ）、次に、金属板２の第２の領域Ｓ2 の表面の防食
被覆４を微小網目パターン状に除去して第２次エッチン
グを行い、上記第２の領域Ｓ2 に目的深さのハーフエッ
チ部を形成するとともに上記第１の領域Ｓ1 に目的形状
の貫通部を形成し（ｂ）、しかる後に、上記防食被覆４
を除去する。
の双方を精密に制御し得るエッチング方法を提供する。 【構成】 金属板２の第１の領域Ｓ1 以外の領域の両面
に防食被覆４を形成して第１次エッチングを行い、上記
第１の領域Ｓ1 に目的形状に到達する前の穴を形成し
（ａ）、次に、金属板２の第２の領域Ｓ2 の表面の防食
被覆４を微小網目パターン状に除去して第２次エッチン
グを行い、上記第２の領域Ｓ2 に目的深さのハーフエッ
チ部を形成するとともに上記第１の領域Ｓ1 に目的形状
の貫通部を形成し（ｂ）、しかる後に、上記防食被覆４
を除去する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はエッチング方法に関し、
特に板状素材に貫通部とハーフエッチ部とを形成するエ
ッチング方法に関する。
特に板状素材に貫通部とハーフエッチ部とを形成するエ
ッチング方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】薄板状
金属材料をエッチング処理することにより所望パターン
の貫通除去部（貫通部）と所望パターンの非貫通除去部
（ハーフエッチ部）とを形成する技術が広く利用されて
いる。この種の技術としては、例えば特開昭６３−４７
９６０号公報に記載されている様なリードフレームの製
造方法が挙げられる。
金属材料をエッチング処理することにより所望パターン
の貫通除去部（貫通部）と所望パターンの非貫通除去部
（ハーフエッチ部）とを形成する技術が広く利用されて
いる。この種の技術としては、例えば特開昭６３−４７
９６０号公報に記載されている様なリードフレームの製
造方法が挙げられる。
【０００３】上記公報に記載されている従来の方法で
は、ハーフエッチ部に部分的マスキングを形成してエッ
チングを抑制している。しかしながら、この従来方法で
は、貫通部とハーフエッチ部とを同一時間のエッチング
処理で目的形状に形成しようとするので、ハーフエッチ
部の深さを正確に制御すると貫通部の形状が最適形状か
らずれてしまい、また貫通部の形状を正確に制御すると
ハーフエッチ部の深さが最適値からずれてしまうため、
貫通部の形状及びハーフエッチ部の深さの双方を正確に
制御することが難しい。
は、ハーフエッチ部に部分的マスキングを形成してエッ
チングを抑制している。しかしながら、この従来方法で
は、貫通部とハーフエッチ部とを同一時間のエッチング
処理で目的形状に形成しようとするので、ハーフエッチ
部の深さを正確に制御すると貫通部の形状が最適形状か
らずれてしまい、また貫通部の形状を正確に制御すると
ハーフエッチ部の深さが最適値からずれてしまうため、
貫通部の形状及びハーフエッチ部の深さの双方を正確に
制御することが難しい。
【０００４】近年、以上の様なハーフエッチ部を有する
製品について、ハーフエッチ部の深さ精度及び貫通部の
寸法形状精度はますます高いものが要求されている。
製品について、ハーフエッチ部の深さ精度及び貫通部の
寸法形状精度はますます高いものが要求されている。
【０００５】そこで、本発明は、以上の様な従来技術の
問題点を解決して、貫通部の寸法形状及びハーフエッチ
部の深さの双方を精密に制御し得るエッチング方法を提
供することを目的とするものである。
問題点を解決して、貫通部の寸法形状及びハーフエッチ
部の深さの双方を精密に制御し得るエッチング方法を提
供することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記目
的を達成するものとして、板状素材の第１の領域に貫通
部を形成するとともに該板状素材の第２の領域の表面に
ハーフエッチ部を形成するエッチング方法であって、上
記板状素材の第１の領域以外の領域の両面に防食被覆を
形成して第１次エッチングを行い、上記第１の領域に目
的形状に到達する前の穴または貫通孔を形成し、次に上
記第２の領域の表面の防食被覆を微小網目パターン状に
除去して第２次エッチングを行い、上記第２の領域に目
的深さのハーフエッチ部を形成するとともに上記第１の
領域に目的形状の貫通部を形成し、しかる後に上記防食
被覆を除去する、ことを特徴とする、エッチング方法、
が提供される。
的を達成するものとして、板状素材の第１の領域に貫通
部を形成するとともに該板状素材の第２の領域の表面に
ハーフエッチ部を形成するエッチング方法であって、上
記板状素材の第１の領域以外の領域の両面に防食被覆を
形成して第１次エッチングを行い、上記第１の領域に目
的形状に到達する前の穴または貫通孔を形成し、次に上
記第２の領域の表面の防食被覆を微小網目パターン状に
除去して第２次エッチングを行い、上記第２の領域に目
的深さのハーフエッチ部を形成するとともに上記第１の
領域に目的形状の貫通部を形成し、しかる後に上記防食
被覆を除去する、ことを特徴とする、エッチング方法、
が提供される。
【０００７】本発明においては、上記防食被覆としてポ
ジ型フォトレジストを用いることができる。更に、本発
明においては、上記第１次エッチングにより第１の領域
に形成された穴または貫通孔の形状に応じて上記第２の
領域で除去される防食被覆の微小網目パターンの粗さを
設定することができる。
ジ型フォトレジストを用いることができる。更に、本発
明においては、上記第１次エッチングにより第１の領域
に形成された穴または貫通孔の形状に応じて上記第２の
領域で除去される防食被覆の微小網目パターンの粗さを
設定することができる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づき説明す
る。
る。
【０００９】図１〜図９は本発明方法の一例を具体的に
説明するための各工程の概略を示す模式的断面図であ
る。
説明するための各工程の概略を示す模式的断面図であ
る。
【００１０】図１に示されている様に、エッチング処理
される板状素材としての金属板２を用意する。該金属板
は銅合金、鉄ニッケル合金等であり、その厚さは例えば
０．１〜０．３ｍｍである。
される板状素材としての金属板２を用意する。該金属板
は銅合金、鉄ニッケル合金等であり、その厚さは例えば
０．１〜０．３ｍｍである。
【００１１】次に、図２に示されている様に、金属板２
の両面に防食被覆４を形成する。該防食被覆はポジ型フ
ォトレジストであり、その厚さは例えば１〜１０μｍで
ある。
の両面に防食被覆４を形成する。該防食被覆はポジ型フ
ォトレジストであり、その厚さは例えば１〜１０μｍで
ある。
【００１２】次に、図３に示されている様に、両面のフ
ォトレジスト４に対し露光マスク６を付して露光（第１
次露光）を行う。該露光マスクには、貫通部を形成しよ
うとする領域に両面から光が照射される様に、所望パタ
ーンの光通過部６ａが形成されている。
ォトレジスト４に対し露光マスク６を付して露光（第１
次露光）を行う。該露光マスクには、貫通部を形成しよ
うとする領域に両面から光が照射される様に、所望パタ
ーンの光通過部６ａが形成されている。
【００１３】次に、図４に示されている様に、現像（第
１次現像）処理により、光照射を受けた領域のフォトレ
ジスト４を除去し、フォトレジスト４に開口領域４ａを
形成する。
１次現像）処理により、光照射を受けた領域のフォトレ
ジスト４を除去し、フォトレジスト４に開口領域４ａを
形成する。
【００１４】次に、図５に示されている様に、適宜の時
間エッチング（第１次エッチング）を行い、金属板２の
上記フォトレジスト開口領域４ａに対応する位置に両面
から所望深さの穴２ａを形成する。
間エッチング（第１次エッチング）を行い、金属板２の
上記フォトレジスト開口領域４ａに対応する位置に両面
から所望深さの穴２ａを形成する。
【００１５】次に、図６に示されている様に、両面のフ
ォトレジスト４に対し露光マスク８を付して露光（第２
次露光）を行う。下面側の露光マスクは全面光不透過性
であるが、上面側の露光マスクには、ハーフエッチ部を
形成しようとする領域に光が照射される様に、所望微小
網目パターンの光通過部８ｂが形成されている。これら
各光通過部８ｂの寸法は例えば２０〜５０μｍである。
ォトレジスト４に対し露光マスク８を付して露光（第２
次露光）を行う。下面側の露光マスクは全面光不透過性
であるが、上面側の露光マスクには、ハーフエッチ部を
形成しようとする領域に光が照射される様に、所望微小
網目パターンの光通過部８ｂが形成されている。これら
各光通過部８ｂの寸法は例えば２０〜５０μｍである。
【００１６】次に、図７に示されている様に、現像（第
２次現像）処理により、光照射を受けた部分のフォトレ
ジスト４を除去し、フォトレジスト４に微小網目パター
ンの開口４ｂを形成する。
２次現像）処理により、光照射を受けた部分のフォトレ
ジスト４を除去し、フォトレジスト４に微小網目パター
ンの開口４ｂを形成する。
【００１７】次に、図８に示されている様に、適宜の時
間エッチング（第２次エッチング）を行い、上記フォト
レジスト微小網目パターン形成領域に対応する金属板２
の領域にハーフエッチ部２ｂを形成するとともに、図５
の穴２ａに対応する位置に貫通部２ａ’を形成する。
間エッチング（第２次エッチング）を行い、上記フォト
レジスト微小網目パターン形成領域に対応する金属板２
の領域にハーフエッチ部２ｂを形成するとともに、図５
の穴２ａに対応する位置に貫通部２ａ’を形成する。
【００１８】次に、図９に示されている様に、フォトレ
ジストを除去する。
ジストを除去する。
【００１９】以上の工程により、図９に示されている様
に、金属板２の第１の領域Ｓ1 （上記露光マスク６の光
通過部６ａ、上記フォトレジスト４の開口領域４ａ、及
び上記金属板２の穴２ａに対応する）には貫通部が形成
され、金属板２の第２の領域Ｓ2 （上記露光マスク８の
光通過部８ｂによる微小網目パターン領域、及び上記フ
ォトレジスト４の開口４ｂによる微小網目パターン領域
に対応する）にはハーフエッチ部が形成される。
に、金属板２の第１の領域Ｓ1 （上記露光マスク６の光
通過部６ａ、上記フォトレジスト４の開口領域４ａ、及
び上記金属板２の穴２ａに対応する）には貫通部が形成
され、金属板２の第２の領域Ｓ2 （上記露光マスク８の
光通過部８ｂによる微小網目パターン領域、及び上記フ
ォトレジスト４の開口４ｂによる微小網目パターン領域
に対応する）にはハーフエッチ部が形成される。
【００２０】図１０及び図１１は本発明によりハーフエ
ッチ部の深さ制御が可能であることを説明するための模
式的断面図である。これらの図において、上記図１〜図
９におけると同様の部材には同一の符号が付されてい
る。また、図１０及び図１１において、（ａ）は第１次
エッチング後の上記図５の状態を示し、（ｂ）は第２次
エッチング後の上記図８の状態を示す。
ッチ部の深さ制御が可能であることを説明するための模
式的断面図である。これらの図において、上記図１〜図
９におけると同様の部材には同一の符号が付されてい
る。また、図１０及び図１１において、（ａ）は第１次
エッチング後の上記図５の状態を示し、（ｂ）は第２次
エッチング後の上記図８の状態を示す。
【００２１】図１０は、第１次エッチング時間がＡ1
で、第２次エッチング時間がＡ2 である場合を示す。ま
た、図１１は、第１次エッチング時間がＢ1 （＞Ａ1 ）
で、第２次エッチング時間がＢ2 （＜Ａ2 ）である場合
を示す。ここで、（Ａ1 ＋Ａ2）＝（Ｂ1 ＋Ｂ2 ）であ
り、図１０と図１１とで合計エッチング時間は同一であ
る。従って、第１の領域Ｓ1 に形成される貫通部の寸法
形状は同一である。そして、第２の領域Ｓ2 に形成され
るハーフエッチ部の深さは、第１０図の場合が時間Ａ2
に対応してｄ1 であり、第１１図の場合が時間Ｂ2 に対
応してｄ2 （＜ｄ1 ）である。この様に、第１次エッチ
ング時間と第２次エッチング時間との合計を一定に維持
しつつ第２次エッチング時間を適正に選択することによ
り、貫通部を所望の寸法形状となし且つハーフエッチ部
を所望の深さとなすことができ、双方の精度を十分高め
ることができる。
で、第２次エッチング時間がＡ2 である場合を示す。ま
た、図１１は、第１次エッチング時間がＢ1 （＞Ａ1 ）
で、第２次エッチング時間がＢ2 （＜Ａ2 ）である場合
を示す。ここで、（Ａ1 ＋Ａ2）＝（Ｂ1 ＋Ｂ2 ）であ
り、図１０と図１１とで合計エッチング時間は同一であ
る。従って、第１の領域Ｓ1 に形成される貫通部の寸法
形状は同一である。そして、第２の領域Ｓ2 に形成され
るハーフエッチ部の深さは、第１０図の場合が時間Ａ2
に対応してｄ1 であり、第１１図の場合が時間Ｂ2 に対
応してｄ2 （＜ｄ1 ）である。この様に、第１次エッチ
ング時間と第２次エッチング時間との合計を一定に維持
しつつ第２次エッチング時間を適正に選択することによ
り、貫通部を所望の寸法形状となし且つハーフエッチ部
を所望の深さとなすことができ、双方の精度を十分高め
ることができる。
【００２２】本発明において、第２次エッチングのため
の防食被覆の微小網目パターンは、所望深さのハーフエ
ッチ部を形成できる程度に巨視的にみて均一性を有する
パターンであればよく、その微視的形状は問わない。
の防食被覆の微小網目パターンは、所望深さのハーフエ
ッチ部を形成できる程度に巨視的にみて均一性を有する
パターンであればよく、その微視的形状は問わない。
【００２３】そして、この編目パターンの粗さに応じて
エッチング除去量が変化するので、第１次エッチングに
より第１の領域に形成された穴または貫通孔の形状に応
じて微小網目パターンの粗さを適宜設定することによ
り、ハーフエッチ部の深さを所望値に制御することもで
きる。
エッチング除去量が変化するので、第１次エッチングに
より第１の領域に形成された穴または貫通孔の形状に応
じて微小網目パターンの粗さを適宜設定することによ
り、ハーフエッチ部の深さを所望値に制御することもで
きる。
【００２４】
【発明の効果】以上の様に、本発明によれば、第１次エ
ッチングにより第１の領域に目的形状に到達する前の穴
または貫通孔を形成し、次いで第２の領域の表面の防食
被覆を微小網目パターン状に除去して第２次エッチング
を行うことにより、第２の領域に目的深さのハーフエッ
チ部を正確に形成するとともに第１の領域に目的形状の
貫通部を正確に形成することができる。
ッチングにより第１の領域に目的形状に到達する前の穴
または貫通孔を形成し、次いで第２の領域の表面の防食
被覆を微小網目パターン状に除去して第２次エッチング
を行うことにより、第２の領域に目的深さのハーフエッ
チ部を正確に形成するとともに第１の領域に目的形状の
貫通部を正確に形成することができる。
【図１】本発明の各工程の概略を示す模式的断面図であ
る。
る。
【図２】本発明の各工程の概略を示す模式的断面図であ
る。
る。
【図３】本発明の各工程の概略を示す模式的断面図であ
る。
る。
【図４】本発明の各工程の概略を示す模式的断面図であ
る。
る。
【図５】本発明の各工程の概略を示す模式的断面図であ
る。
る。
【図６】本発明の各工程の概略を示す模式的断面図であ
る。
る。
【図７】本発明の各工程の概略を示す模式的断面図であ
る。
る。
【図８】本発明の各工程の概略を示す模式的断面図であ
る。
る。
【図９】本発明の各工程の概略を示す模式的断面図であ
る。
る。
【図１０】本発明によりハーフエッチ部の深さ制御が可
能であることを説明するための模式的断面図である。
能であることを説明するための模式的断面図である。
【図１１】本発明によりハーフエッチ部の深さ制御が可
能であることを説明するための模式的断面図である。
能であることを説明するための模式的断面図である。
２ 金属板
２ａ 穴
２ａ’貫通部
２ｂ ハーフエッチ部
４ フォトレジスト
４ａ 開口領域
４ｂ 開口
６ 露光マスク
６ａ 光通過部
８ 露光マスク
８ｂ 光通過部
Ｓ1 第１の領域
Ｓ2 第２の領域
Claims (3)
- 【請求項１】 板状素材の第１の領域に貫通部を形成す
るとともに該板状素材の第２の領域の表面にハーフエッ
チ部を形成するエッチング方法であって、 上記板状素材の第１の領域以外の領域の両面に防食被覆
を形成して第１次エッチングを行い、上記第１の領域に
目的形状に到達する前の穴または貫通孔を形成し、 次に上記第２の領域の表面の防食被覆を微小網目パター
ン状に除去して第２次エッチングを行い、上記第２の領
域に目的深さのハーフエッチ部を形成するとともに上記
第１の領域に目的形状の貫通部を形成し、 しかる後に上記防食被覆を除去する、 ことを特徴とする、エッチング方法。 - 【請求項２】 上記防食被覆がポジ型フォトレジストで
ある、請求項１に記載のエッチング方法。 - 【請求項３】 上記第１次エッチングにより第１の領域
に形成された穴または貫通孔の形状に応じて上記第２の
領域で除去される防食被覆の微小網目パターンの粗さを
設定する、請求項１に記載のエッチング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03189421A JP3077918B2 (ja) | 1991-07-04 | 1991-07-04 | エッチング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03189421A JP3077918B2 (ja) | 1991-07-04 | 1991-07-04 | エッチング方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH059756A true JPH059756A (ja) | 1993-01-19 |
| JP3077918B2 JP3077918B2 (ja) | 2000-08-21 |
Family
ID=16240978
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03189421A Expired - Lifetime JP3077918B2 (ja) | 1991-07-04 | 1991-07-04 | エッチング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3077918B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06240472A (ja) * | 1993-02-16 | 1994-08-30 | G T C:Kk | 微細パターンの形成方法 |
| USRE40203E1 (en) | 1992-10-07 | 2008-04-01 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetic head suspension assembly fabricated with integral load beam and flexure |
| JP2010010634A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Shinko Electric Ind Co Ltd | リードフレーム及び半導体装置の製造方法 |
| JP2016105432A (ja) * | 2014-12-01 | 2016-06-09 | Ｓｈマテリアル株式会社 | リードフレームの製造方法 |
-
1991
- 1991-07-04 JP JP03189421A patent/JP3077918B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USRE40203E1 (en) | 1992-10-07 | 2008-04-01 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetic head suspension assembly fabricated with integral load beam and flexure |
| JPH06240472A (ja) * | 1993-02-16 | 1994-08-30 | G T C:Kk | 微細パターンの形成方法 |
| JP2010010634A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Shinko Electric Ind Co Ltd | リードフレーム及び半導体装置の製造方法 |
| JP2016105432A (ja) * | 2014-12-01 | 2016-06-09 | Ｓｈマテリアル株式会社 | リードフレームの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3077918B2 (ja) | 2000-08-21 |
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