JPH0597728A - クロロペンタフルオロエタンの水素化分解によるペンタフルオロエタンの製造 - Google Patents
クロロペンタフルオロエタンの水素化分解によるペンタフルオロエタンの製造Info
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- JPH0597728A JPH0597728A JP4071467A JP7146792A JPH0597728A JP H0597728 A JPH0597728 A JP H0597728A JP 4071467 A JP4071467 A JP 4071467A JP 7146792 A JP7146792 A JP 7146792A JP H0597728 A JPH0597728 A JP H0597728A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 クロロペンタフルオロエタン(F115)を気相で
接触水素化して、ペンタフルオロエタン(F125)を製造す
る。 【構成】 上記接触水素化において、アルミナ、フッ素
化アルミナ又はフッ化アルミニウム支持体上に沈着した
パラジウムをベースとする触媒を使用する。 【効果】 F125への優れた選択性が得られ、1,1,1
−トリフルオロエタン(F143a) の生成を避けることがで
きる。
接触水素化して、ペンタフルオロエタン(F125)を製造す
る。 【構成】 上記接触水素化において、アルミナ、フッ素
化アルミナ又はフッ化アルミニウム支持体上に沈着した
パラジウムをベースとする触媒を使用する。 【効果】 F125への優れた選択性が得られ、1,1,1
−トリフルオロエタン(F143a) の生成を避けることがで
きる。
Description
【0001】本発明はフルオロ炭化水素の分野に関する
ものであり、その要旨とするところは、更に、特にクロ
ロペンタフルオロエタンCF3 −CF2 Cl(以下F115
と略記する)の気相での接触水素化によりペンタフルオ
ロエタンCF3 −CF2 H(以下、F125と略記する)を
製造する方法にある。
ものであり、その要旨とするところは、更に、特にクロ
ロペンタフルオロエタンCF3 −CF2 Cl(以下F115
と略記する)の気相での接触水素化によりペンタフルオ
ロエタンCF3 −CF2 H(以下、F125と略記する)を
製造する方法にある。
【0002】F115の接触水素化は公知である。例えば、
1959年発行のJ. D. Park及びJ. R.Lacherによる最終研
究報告、Air Force Office of Scientific Research
(no.TR 5899 )及びArmed Services Technical Inform
ations Agency(no. AD 162198 )の資金援助による研
究を引用することができ、ここには木炭に担持したパラ
ジウム触媒上、 250℃でF115をF125に水素化分解するこ
とが記載され、反応生成物を同定する手段として使用さ
れる赤外吸収スペクトルは、F125に加えてフッ化水素酸
がかなり生成していることを示している。更に最近、日
本特許出願No.85,177/88に、該反応の場合、支持体上に
沈着した(deposited) 、白金族の元素、鉄族の元素及び
レニウムから選択される1種以上の金属を含有する触媒
の使用が記載されているが、実施したすべての実施例で
使用される支持体は活性炭である。
1959年発行のJ. D. Park及びJ. R.Lacherによる最終研
究報告、Air Force Office of Scientific Research
(no.TR 5899 )及びArmed Services Technical Inform
ations Agency(no. AD 162198 )の資金援助による研
究を引用することができ、ここには木炭に担持したパラ
ジウム触媒上、 250℃でF115をF125に水素化分解するこ
とが記載され、反応生成物を同定する手段として使用さ
れる赤外吸収スペクトルは、F125に加えてフッ化水素酸
がかなり生成していることを示している。更に最近、日
本特許出願No.85,177/88に、該反応の場合、支持体上に
沈着した(deposited) 、白金族の元素、鉄族の元素及び
レニウムから選択される1種以上の金属を含有する触媒
の使用が記載されているが、実施したすべての実施例で
使用される支持体は活性炭である。
【0003】更に(EP特許349,115 及び379,793 )、ア
ルミナ、フッ素化アルミナ又はフッ化アルミニウム上の
パラジウムを含む水素化触媒が、1−クロロ−1,2,
2,2−テトラフルオロエタン(F124a )を1,1,
1,2−テトラフルオロエタン(F134a )に水素化分解
する際に使用されている。
ルミナ、フッ素化アルミナ又はフッ化アルミニウム上の
パラジウムを含む水素化触媒が、1−クロロ−1,2,
2,2−テトラフルオロエタン(F124a )を1,1,
1,2−テトラフルオロエタン(F134a )に水素化分解
する際に使用されている。
【0004】F115の接触水素化の際、C−F結合の水素
化分解が、腐食性のフッ化水素酸(HF)、及び所望の
F125から蒸留によって分離することが非常に困難な低沸
点生成物を生成する原因となるので、C−Cl結合の水
素化分解の選択性は非常に重要である。
化分解が、腐食性のフッ化水素酸(HF)、及び所望の
F125から蒸留によって分離することが非常に困難な低沸
点生成物を生成する原因となるので、C−Cl結合の水
素化分解の選択性は非常に重要である。
【0005】
【表1】
【0006】この選択性を得るのは明白ではなく;多く
の特許(例えば特許GB1,578,933及び日本特許出願28
5,428/87, 288,451/87, 327,395/87, 67,145/88 及び15
2,278/88参照)は事実、水素化分解でF134a を生じ得る
原料物質としてF115に言及している。最大の妨害生成物
であって、その生成を避けるのが特に困難なものがF143
a (CF3 −CH3 )である。
の特許(例えば特許GB1,578,933及び日本特許出願28
5,428/87, 288,451/87, 327,395/87, 67,145/88 及び15
2,278/88参照)は事実、水素化分解でF134a を生じ得る
原料物質としてF115に言及している。最大の妨害生成物
であって、その生成を避けるのが特に困難なものがF143
a (CF3 −CH3 )である。
【0007】この度、F125へのすぐれた選択性を得るこ
とができ、F143a の生成を避けることができるという知
見を得た。本発明によるクロロペンタフルオロエタンの
気相接触水素化によるペンタフルオロエタンの製造方法
は、アルミナ、フッ素化アルミナ又はフッ化アルミニウ
ム支持体上に沈着させたパラジウムをベースとする触媒
を使用することを特徴とするものである。
とができ、F143a の生成を避けることができるという知
見を得た。本発明によるクロロペンタフルオロエタンの
気相接触水素化によるペンタフルオロエタンの製造方法
は、アルミナ、フッ素化アルミナ又はフッ化アルミニウ
ム支持体上に沈着させたパラジウムをベースとする触媒
を使用することを特徴とするものである。
【0008】本発明で使用する触媒において、パラジウ
ム含有量は 0.1〜10重量%の範囲で良いが好ましいのは
0.1〜5%である。
ム含有量は 0.1〜10重量%の範囲で良いが好ましいのは
0.1〜5%である。
【0009】支持体としてはアルミナを用い得るが、部
分的にフッ素化したアルミナ又はフッ化アルミニウムを
使用するのが好ましい。部分的にフッ素化したアルミナ
は、AlF3 含有量が少なくとも70重量%であるフッ化
アルミニウムとアルミナとの混合物を意味するものであ
る。好ましい支持体は、比表面積1〜300m2 /g(好まし
くは5〜100m2 /g)、高多孔度( 0.1〜1cm3 /g)、及
び固定床触媒として適切な粒径範囲(1〜10mm)を有す
る固体である。これらの製品は市販されているか又はア
ルミナをフッ化水素酸でフッ素化することによって製造
される。これらの成形(ビーズ、押出し成形品、タブレ
ット、粉砕製品、等)は、フッ素化の前あるいは後に一
般的な技術を用いて実施し得る。
分的にフッ素化したアルミナ又はフッ化アルミニウムを
使用するのが好ましい。部分的にフッ素化したアルミナ
は、AlF3 含有量が少なくとも70重量%であるフッ化
アルミニウムとアルミナとの混合物を意味するものであ
る。好ましい支持体は、比表面積1〜300m2 /g(好まし
くは5〜100m2 /g)、高多孔度( 0.1〜1cm3 /g)、及
び固定床触媒として適切な粒径範囲(1〜10mm)を有す
る固体である。これらの製品は市販されているか又はア
ルミナをフッ化水素酸でフッ素化することによって製造
される。これらの成形(ビーズ、押出し成形品、タブレ
ット、粉砕製品、等)は、フッ素化の前あるいは後に一
般的な技術を用いて実施し得る。
【0010】本発明で使用される触媒は、パラジウム誘
導体の水溶液又は有機溶液を用いて支持体を浸漬する一
般的な技術により製造し得る。触媒活性相の支持体上で
の分布は、浸漬の方法、金属前駆物質の性質、使用する
溶液の性質、量、及びpHによって調節し得ることは公
知である、従って、支持体中への活性相の浸透を、かな
り広い範囲から限定した範囲にまで調節できる。“エッ
グシェル”浸漬として当業者に公知の支持体粒子の外側
に限られた浸漬は、ある場合には、反応の活性及び選択
性を向上し得る。
導体の水溶液又は有機溶液を用いて支持体を浸漬する一
般的な技術により製造し得る。触媒活性相の支持体上で
の分布は、浸漬の方法、金属前駆物質の性質、使用する
溶液の性質、量、及びpHによって調節し得ることは公
知である、従って、支持体中への活性相の浸透を、かな
り広い範囲から限定した範囲にまで調節できる。“エッ
グシェル”浸漬として当業者に公知の支持体粒子の外側
に限られた浸漬は、ある場合には、反応の活性及び選択
性を向上し得る。
【0011】浸漬後、水又は有機溶媒を蒸発により除去
し、得られた固体を、水素及び/又は窒素気流下で 100
〜500 ℃(好ましくは 200〜350 ℃)の温度で熱処理し
てパラジウムを遊離させ得る。パラジウム誘導体の種類
は余り重要ではないが、例えば塩化物、アセテート、ア
セチルアセトネート、硝酸塩又は塩化物の有機金属錯化
合物であり得る。溶媒は水又は有機化合物であり得る。
使用される有機溶媒は、メタン又はエタンの塩素化誘導
体(例えばクロロホルム、メチレンクロリド及び四塩化
炭素)、芳香族溶媒(例えばベンゼン、トルエン、及び
クロロベンゼン)又はアミンもしくはアルカノールアミ
ン(例えばピリジン及びエタノールアミン)である得
る。
し、得られた固体を、水素及び/又は窒素気流下で 100
〜500 ℃(好ましくは 200〜350 ℃)の温度で熱処理し
てパラジウムを遊離させ得る。パラジウム誘導体の種類
は余り重要ではないが、例えば塩化物、アセテート、ア
セチルアセトネート、硝酸塩又は塩化物の有機金属錯化
合物であり得る。溶媒は水又は有機化合物であり得る。
使用される有機溶媒は、メタン又はエタンの塩素化誘導
体(例えばクロロホルム、メチレンクロリド及び四塩化
炭素)、芳香族溶媒(例えばベンゼン、トルエン、及び
クロロベンゼン)又はアミンもしくはアルカノールアミ
ン(例えばピリジン及びエタノールアミン)である得
る。
【0012】本発明によるF115の接触水素化は 100〜40
0℃(好ましくは 200〜350 ℃)の温度、水素/F115の
モル比 0.5〜4(好ましくは1〜2)、圧力1〜50バー
ル及び単位時間あたりの流量が触媒1リットル当りF115
0.5〜12モルで実施される。
0℃(好ましくは 200〜350 ℃)の温度、水素/F115の
モル比 0.5〜4(好ましくは1〜2)、圧力1〜50バー
ル及び単位時間あたりの流量が触媒1リットル当りF115
0.5〜12モルで実施される。
【0013】
【実施例】次の実施例は本発明を制限することなく説明
するものである。結果はF115の転化率(DCG )及び反
応生成物の選択率(S)で表示し、: DCG = 100×転化したF115のモル数/導入したF115の
モル数 S= 100×生成した生成物のモル数/転化したF115のモ
ル数 相当する流量測定装置が付随している反応器の入口及び
出口(水で洗浄後)におけるライン中での分析により得
られる。反応での主な副生物は、再生利用し得るF134a
(CF3 −CFH2 )及び、反応器出口でのライン中で
の分析で検出される限度が0.05%であるF143a (CF3
−CH3 )である。
するものである。結果はF115の転化率(DCG )及び反
応生成物の選択率(S)で表示し、: DCG = 100×転化したF115のモル数/導入したF115の
モル数 S= 100×生成した生成物のモル数/転化したF115のモ
ル数 相当する流量測定装置が付随している反応器の入口及び
出口(水で洗浄後)におけるライン中での分析により得
られる。反応での主な副生物は、再生利用し得るF134a
(CF3 −CFH2 )及び、反応器出口でのライン中で
の分析で検出される限度が0.05%であるF143a (CF3
−CH3 )である。
【0014】実施例1 (a) 触媒の調製 AlF3 77重量%を含み、多孔度0.77cm3 /g及び比表面
積 67m2 /gを有し、直径が 1.5〜2mmのビーズ状のフッ
素化アルミナ50ml(28g )を回転蒸発器に入れる。減圧
下(1kPa )、100 ℃で3時間気体を除去した後、Pd
0.28gを含む酢酸パラジウムのトルエン溶液50mlを導入
し、次に溶媒を減圧下(26kPa )蒸発除去し、残渣を80
℃で乾燥する。次に窒素気流下(5Nl/h)、 250℃で2
時間処理し、このようにして“エッグシェル”として沈
着したPd1%を含む触媒を得る(触媒A)。
積 67m2 /gを有し、直径が 1.5〜2mmのビーズ状のフッ
素化アルミナ50ml(28g )を回転蒸発器に入れる。減圧
下(1kPa )、100 ℃で3時間気体を除去した後、Pd
0.28gを含む酢酸パラジウムのトルエン溶液50mlを導入
し、次に溶媒を減圧下(26kPa )蒸発除去し、残渣を80
℃で乾燥する。次に窒素気流下(5Nl/h)、 250℃で2
時間処理し、このようにして“エッグシェル”として沈
着したPd1%を含む触媒を得る(触媒A)。
【0015】(b) F115の水素化 上記で得た触媒A50mlを長さ45cm、内径2.72cmのIncone
l 管に導入し、電気的に加熱し、次に水素及びF115の混
合物を大気圧下、下記表1に示すモル比、流速及び温度
で通過させ、その最後に得られた結果を参照記載する。
反応器出口におけるライン中での分析で、F143a の存在
は検出されない。
l 管に導入し、電気的に加熱し、次に水素及びF115の混
合物を大気圧下、下記表1に示すモル比、流速及び温度
で通過させ、その最後に得られた結果を参照記載する。
反応器出口におけるライン中での分析で、F143a の存在
は検出されない。
【0016】
【表2】
【0017】実施例2 (a) 触媒の調製 AlF3 97重量%を含有し、多孔度0.42cm3 /g及び比表
面積110m2 /gを有し、直径5mm及び厚さ3mmのタブレッ
ト状のフッ素化アルミナ50ml(36g )を回転蒸発器に入
れる。減圧下(1kPa )、 100℃で3時間気体を除去し
た後、Pd 1.9g を含有する酢酸パラジウムのトルエン
溶液50mlを導入し、次に溶媒を減圧下(26kPa )留去さ
せて、残渣を80℃で乾燥する。次に窒素気流下(5Nl/
h)、 250℃で2時間処理し、このようにして“エッグ
シェル”として沈着したPd5%を含む触媒を得る(触
媒B)。
面積110m2 /gを有し、直径5mm及び厚さ3mmのタブレッ
ト状のフッ素化アルミナ50ml(36g )を回転蒸発器に入
れる。減圧下(1kPa )、 100℃で3時間気体を除去し
た後、Pd 1.9g を含有する酢酸パラジウムのトルエン
溶液50mlを導入し、次に溶媒を減圧下(26kPa )留去さ
せて、残渣を80℃で乾燥する。次に窒素気流下(5Nl/
h)、 250℃で2時間処理し、このようにして“エッグ
シェル”として沈着したPd5%を含む触媒を得る(触
媒B)。
【0018】(b) F115の水素化 触媒Bを仕込量50mlで実施例1−bと同様の装置に導入
し、この仕込みにおいて大気圧下クロロペンタフルオロ
エタンの水素化の種々のテストを連続的に実施する。
し、この仕込みにおいて大気圧下クロロペンタフルオロ
エタンの水素化の種々のテストを連続的に実施する。
【0019】このテストの操作条件及び得られた結果を
下記表2に参照記載する。反応器出口におけるライン中
での分析で、F143a の存在は検出されない。
下記表2に参照記載する。反応器出口におけるライン中
での分析で、F143a の存在は検出されない。
【0020】
【表3】
【0021】実施例3 (a) 触媒の調製 AlF3 82重量%を含有し、多孔度0.74cm3 /g及び比表
面積 67m2 /gを有し、直径 1.5〜2mmのビーズ状のフッ
素化アルミナ50ml(28g )を回転蒸発器に仕込む。減圧
下(1kPa ) 100℃で3時間気体を除去した後、Pd1.
5gを含む酢酸パラジウムの塩化メチレン溶液25mlを導入
し、次に溶媒を減圧下(26kPa )蒸発除去して、残渣を
80℃で乾燥する。次に水素気流下(5Nl/h)、 300℃で
2時間処理し、このようにして均一に沈着したPd5%
を含む触媒を得る(触媒C)。
面積 67m2 /gを有し、直径 1.5〜2mmのビーズ状のフッ
素化アルミナ50ml(28g )を回転蒸発器に仕込む。減圧
下(1kPa ) 100℃で3時間気体を除去した後、Pd1.
5gを含む酢酸パラジウムの塩化メチレン溶液25mlを導入
し、次に溶媒を減圧下(26kPa )蒸発除去して、残渣を
80℃で乾燥する。次に水素気流下(5Nl/h)、 300℃で
2時間処理し、このようにして均一に沈着したPd5%
を含む触媒を得る(触媒C)。
【0022】(b) F115の水素化 触媒Cを仕込量50mlで実施例1−bにおけると同様の装
置に導入し、この仕込みにおいて大気圧下クロロペンタ
フルオロエタンの水素化の種々のテストを連続的に実施
する。
置に導入し、この仕込みにおいて大気圧下クロロペンタ
フルオロエタンの水素化の種々のテストを連続的に実施
する。
【0023】テストの操作条件及び得られた結果を下記
表3に参照記載する。反応器出口でのライン中での分析
で、F143a の存在は検知されない。
表3に参照記載する。反応器出口でのライン中での分析
で、F143a の存在は検知されない。
【0024】
【表4】
【0025】実施例4 (a) 触媒の調製 AlF3 77重量%を含有し、多孔度0.72cm3 /g及び比表
面積 67m2 /gを有し、直径 1.5〜2mmのビーズ状のフッ
素化アルミナ50ml(28g )を回転蒸発器に仕込む。減圧
下(1kPa )、 100℃で3時間気体除去後、Pd 1.45g
を含む塩化パラジウムの水溶液50mlを導入し、次に水を
減圧下(1kPa )蒸発除去し、残渣を 100℃で乾燥す
る。次に水素気流下(5Nl/h)、 400℃で2時間処理し
て、均一に含浸されたPd5%を含む触媒を得た(触媒
D)。
面積 67m2 /gを有し、直径 1.5〜2mmのビーズ状のフッ
素化アルミナ50ml(28g )を回転蒸発器に仕込む。減圧
下(1kPa )、 100℃で3時間気体除去後、Pd 1.45g
を含む塩化パラジウムの水溶液50mlを導入し、次に水を
減圧下(1kPa )蒸発除去し、残渣を 100℃で乾燥す
る。次に水素気流下(5Nl/h)、 400℃で2時間処理し
て、均一に含浸されたPd5%を含む触媒を得た(触媒
D)。
【0026】(b) F115の水素化 触媒Dを仕込量50mlで実施例1−bにおけると同様の装
置に導入し、この仕込みにおいてクロロペンタルフルオ
ロエタンの水素化の種々のテスト(テスト41〜44)を連
続的に実施する。同じ操作を触媒D10mlを仕込んで実施
する(テスト41* 〜46* )。
置に導入し、この仕込みにおいてクロロペンタルフルオ
ロエタンの水素化の種々のテスト(テスト41〜44)を連
続的に実施する。同じ操作を触媒D10mlを仕込んで実施
する(テスト41* 〜46* )。
【0027】テストの操作条件及び得られた結果を下記
表4に参照記載する。反応器出口でのライン中での分析
で、F143a の存在は検知されない。
表4に参照記載する。反応器出口でのライン中での分析
で、F143a の存在は検知されない。
【0028】
【表5】
【0029】実施例5 触媒の調製 AlF3 82%を含有し、多孔度0.74cm3 /g及び比表面積
62m2 /gを有し、直径1.5〜2mmのビーズ状のフッ素化
アルミナ50ml(28g )を回転蒸発器に仕込む。減圧下
(1kPa) 100℃で3時間気体除去後、Pd 0.14gを含む
塩化パラジウムの水溶液50mlを導入し、次に水を減圧下
(1kPa)留去させて、残渣を 100℃で乾燥する。次に水
素気流下(5Nl/h)、 360℃で2時間処理し、このよう
にして均一に含浸されたPd 0.5%を含む触媒を得る
(触媒E)。
62m2 /gを有し、直径1.5〜2mmのビーズ状のフッ素化
アルミナ50ml(28g )を回転蒸発器に仕込む。減圧下
(1kPa) 100℃で3時間気体除去後、Pd 0.14gを含む
塩化パラジウムの水溶液50mlを導入し、次に水を減圧下
(1kPa)留去させて、残渣を 100℃で乾燥する。次に水
素気流下(5Nl/h)、 360℃で2時間処理し、このよう
にして均一に含浸されたPd 0.5%を含む触媒を得る
(触媒E)。
【0030】AlF3 82重量%を含有し、多孔度0.74cm
3 /g及び比表面積 67m2 /gを有する直径 1.5〜2mmのビ
ーズ状フッ素化アルミナ50ml(28g )を回転蒸発器に仕
込む。減圧下(1kPa)、 100℃で3時間気体除去後、P
d 0.14gを含む酢酸パラジウムのトルエン溶液50mlを導
入し、次に溶媒を減圧下(26kPa)蒸発除去し、残渣を80
℃で乾燥する。次に、水素気流下(5Nl/h)、 360℃で
2時間処理し、このようにして“エッグシェル”として
沈着したPd 0.5%を含む触媒を得る(触媒F)。
3 /g及び比表面積 67m2 /gを有する直径 1.5〜2mmのビ
ーズ状フッ素化アルミナ50ml(28g )を回転蒸発器に仕
込む。減圧下(1kPa)、 100℃で3時間気体除去後、P
d 0.14gを含む酢酸パラジウムのトルエン溶液50mlを導
入し、次に溶媒を減圧下(26kPa)蒸発除去し、残渣を80
℃で乾燥する。次に、水素気流下(5Nl/h)、 360℃で
2時間処理し、このようにして“エッグシェル”として
沈着したPd 0.5%を含む触媒を得る(触媒F)。
【0031】(b) F115の水素化 Pd 0.5%を含む触媒E又はFを仕込み量50mlで実施例
1−bにおけると同様の装置に導入し、この触媒上で大
気圧下、クロロペンタフルオロエタンの水素化の種々の
テストを実施する。
1−bにおけると同様の装置に導入し、この触媒上で大
気圧下、クロロペンタフルオロエタンの水素化の種々の
テストを実施する。
【0032】テストの操作条件及び得られた結果を、下
記表5に参照記載する。反応器出口でのライン中での分
析で、F143a の存在は検知されない。“エッグシェル”
様に含浸された触媒(触媒F)は、均一に含浸された触
媒(触媒E)より優れていることが分る。
記表5に参照記載する。反応器出口でのライン中での分
析で、F143a の存在は検知されない。“エッグシェル”
様に含浸された触媒(触媒F)は、均一に含浸された触
媒(触媒E)より優れていることが分る。
【0033】
【表6】
【0034】実施例6 (a) 触媒の調製 多孔度1cm3 /g、比表面積280m2 /gを有する直径 1.4〜
1.7mm ビーズ状のアルミナ50ml(20g )を回転蒸発器に
仕込む。減圧下(1kPa) 100℃で3時間気体除去後、P
d 0.2g を含有する酢酸パラジウムのトルエン溶液50ml
を導入し、次に溶媒を減圧下(26kPa) 蒸発除去し、残渣
を80℃で乾燥する。次に窒素気流下(3Nl/h)、 250℃
で2時間処理し、“エッグシェル”として沈着したPd
1%を含有する触媒を得る(触媒G)。
1.7mm ビーズ状のアルミナ50ml(20g )を回転蒸発器に
仕込む。減圧下(1kPa) 100℃で3時間気体除去後、P
d 0.2g を含有する酢酸パラジウムのトルエン溶液50ml
を導入し、次に溶媒を減圧下(26kPa) 蒸発除去し、残渣
を80℃で乾燥する。次に窒素気流下(3Nl/h)、 250℃
で2時間処理し、“エッグシェル”として沈着したPd
1%を含有する触媒を得る(触媒G)。
【0035】(b) F115の水素化 触媒Gを仕込量50mlで実施例1−bにおけると同様の装
置に導入し、この仕込みで、クロロペンタフルオロエタ
ンの水素化を次の条件で実施する: −大気圧、 −温度: 300℃、 −H2 /C2 F5 Clモル比:1.9 -C2 F5 Cl流速: 0.045モル/時間 C2 F5 ClのDCG は49%であり、C2 F5 Hへの選
択率は92%に達する。反応器出口でのライン中での分析
で、F143a の存在は検知されない。
置に導入し、この仕込みで、クロロペンタフルオロエタ
ンの水素化を次の条件で実施する: −大気圧、 −温度: 300℃、 −H2 /C2 F5 Clモル比:1.9 -C2 F5 Cl流速: 0.045モル/時間 C2 F5 ClのDCG は49%であり、C2 F5 Hへの選
択率は92%に達する。反応器出口でのライン中での分析
で、F143a の存在は検知されない。
【0036】実施例7 (a) 触媒の調製 AlF3 82重量%を含有し、多孔度0.74cm3 /g及び比表
面積 67m2 /gを有する直径1.5 〜2mmのビーズ状のフッ
素化アルミナ50ml(25g )を回転蒸発器に仕込む。減圧
下(1kPa)、 100℃で3時間気体除去後、Pd0.25g を
含有する塩化パラジウムの水溶液50mlを導入し、次に減
圧下(1kPa)に水を蒸発除去し、残渣を100℃で乾燥す
る。次に水素気流下(5Nl/h)、 300℃で2時間処理
し、このようにして均一に沈着したPd1%を含む触媒
を得る(触媒H)。
面積 67m2 /gを有する直径1.5 〜2mmのビーズ状のフッ
素化アルミナ50ml(25g )を回転蒸発器に仕込む。減圧
下(1kPa)、 100℃で3時間気体除去後、Pd0.25g を
含有する塩化パラジウムの水溶液50mlを導入し、次に減
圧下(1kPa)に水を蒸発除去し、残渣を100℃で乾燥す
る。次に水素気流下(5Nl/h)、 300℃で2時間処理
し、このようにして均一に沈着したPd1%を含む触媒
を得る(触媒H)。
【0037】(b) F115の水素化 触媒Hを仕込み量50mlで実施例1−bにおけると同様の
装置に導入し、この仕込みで、大気圧下、クロロペンタ
フルオロエタンの水素化の種々のテストを実施する。
装置に導入し、この仕込みで、大気圧下、クロロペンタ
フルオロエタンの水素化の種々のテストを実施する。
【0038】テストの操作条件及び得られた結果を下記
表6に参照記載する。反応器出口でのライン中での分析
で、F143a の存在は検知されない。
表6に参照記載する。反応器出口でのライン中での分析
で、F143a の存在は検知されない。
【0039】
【表7】
【0040】実施例8(比較)a) 本発明以外のPd/C触媒の調製 多孔度0.6cm 3 /g、比表面積950m2 /gを有し、直径1.8m
m の押出成形品状の活性炭60ml(28g )を回転蒸発器に
仕込む。減圧下(1kPa)、 100℃で3時間、気体除去
後、Pd 1.5g を含む塩化パラジウムの水溶液70mlを導
入し、水を減圧下(1kPa)で蒸発除去し、残渣を 100℃
で乾燥する。次に水素気流下(10Nl/h)、 400℃で2時間
処理し、このようにして、活性炭上にPd5%を含有す
る触媒を得る。
m の押出成形品状の活性炭60ml(28g )を回転蒸発器に
仕込む。減圧下(1kPa)、 100℃で3時間、気体除去
後、Pd 1.5g を含む塩化パラジウムの水溶液70mlを導
入し、水を減圧下(1kPa)で蒸発除去し、残渣を 100℃
で乾燥する。次に水素気流下(10Nl/h)、 400℃で2時間
処理し、このようにして、活性炭上にPd5%を含有す
る触媒を得る。
【0041】(b) F115の水素化 上記で調製したPd/C触媒25mlを実施例1−bにおけ
ると同様の装置に導入し、その上で、大気圧下クロロペ
ンタフルオロエタンの水素化の種々のテストを実施す
る。
ると同様の装置に導入し、その上で、大気圧下クロロペ
ンタフルオロエタンの水素化の種々のテストを実施す
る。
【0042】テストの操作条件及び得られた結果を以下
の表7に参照記載する。F143a のかなりの生成が認めら
れる。
の表7に参照記載する。F143a のかなりの生成が認めら
れる。
【0043】
【表8】
【0044】実施例9(比較例)(a) 本発明以外のPt/フッ素化アルミナ触媒の調整 AlF3 82重量%を含有し、多孔度0.74cm3 /g及び比表
面積67m 2 /gを有する直径1.5 〜2mmのビーズ状フッ素
化アルミナ50ml(28g )を回転蒸発器に仕込む。減圧下
(1kPa)、 100℃で3時間、気体除去後、Pt 0.3g を
含むヘキサクロロ白金酸の水溶液50mlを導入し、次に減
圧下(1kPa)に水を蒸発除去し、残渣を100℃で乾燥す
る。次に水素気流下(5Nl/h)、 400℃で2時間処理
し、このようにして支持体に均一に沈着したPt1%を
含有する触媒を得る。
面積67m 2 /gを有する直径1.5 〜2mmのビーズ状フッ素
化アルミナ50ml(28g )を回転蒸発器に仕込む。減圧下
(1kPa)、 100℃で3時間、気体除去後、Pt 0.3g を
含むヘキサクロロ白金酸の水溶液50mlを導入し、次に減
圧下(1kPa)に水を蒸発除去し、残渣を100℃で乾燥す
る。次に水素気流下(5Nl/h)、 400℃で2時間処理
し、このようにして支持体に均一に沈着したPt1%を
含有する触媒を得る。
【0045】(b) F115の水素化 上記白金触媒50mlを実施例1−bにおけると同様の装置
に導入し、そこで大気圧下、クロロペンタフルオロエタ
ンの水素化の種々のテストを実施する。
に導入し、そこで大気圧下、クロロペンタフルオロエタ
ンの水素化の種々のテストを実施する。
【0046】テストの操作条件及び得られる結果を下記
表8に参照記載する。反応器出口でのライン中での分析
で、F143a の生成は全く見られないが、触媒の活性は非
常に低い。
表8に参照記載する。反応器出口でのライン中での分析
で、F143a の生成は全く見られないが、触媒の活性は非
常に低い。
【0047】
【表9】
【0048】実施例10 (a) 触媒の調製 AlF3 84重量%を含有し、多孔度 0.4cm3 /g及び比表
面積 12m2 /gを有する直径 1.5〜1.6mm のビーズ状フッ
化アルミナ50ml(39g )を回転蒸発器に仕込む。減圧下
100℃で3時間気体除去後、Pd 0.195gを含む硝酸パ
ラジウムの水溶液20mlを導入し、次に減圧下(1kPa)に
水を蒸発除去して残渣を 100℃で乾燥する。次に窒素気
流下(2Nl/h) 250℃で2時間処理し、このようにして
“エッグシェル”として沈着したPd 0.5%を含有する
触媒を得る(触媒I)。
面積 12m2 /gを有する直径 1.5〜1.6mm のビーズ状フッ
化アルミナ50ml(39g )を回転蒸発器に仕込む。減圧下
100℃で3時間気体除去後、Pd 0.195gを含む硝酸パ
ラジウムの水溶液20mlを導入し、次に減圧下(1kPa)に
水を蒸発除去して残渣を 100℃で乾燥する。次に窒素気
流下(2Nl/h) 250℃で2時間処理し、このようにして
“エッグシェル”として沈着したPd 0.5%を含有する
触媒を得る(触媒I)。
【0049】(b) F115の水素化 触媒I50mlを実施例1−bにおけると同様の装置に導入
し、この仕込みで大気圧下、クロロペンタフルオロエタ
ンの水素化の種々のテストを連続的に実施する。
し、この仕込みで大気圧下、クロロペンタフルオロエタ
ンの水素化の種々のテストを連続的に実施する。
【0050】テストの操作条件及び得られた結果を以下
の表9に参照記載する。反応器出口でのライン中の分析
で、F143a の存在は検知されない。
の表9に参照記載する。反応器出口でのライン中の分析
で、F143a の存在は検知されない。
【0051】
【表10】
【0052】実施例11 (a) 触媒の調製 多孔度0.25cm3 /g及び比表面積 10m2 /gを有する直径
1.8〜2mmのビーズ状フッ化アルミニウムAlF3 50ml
(51g )を回転蒸発器に仕込む。減圧下(1kPa)、 100
℃で3時間気体除去後、Pd0.25g を含む硝酸パラジウ
ムの水溶液20mlを導入し、次に水を減圧下(1kPa)に蒸
発除去し、残渣を 100℃で乾燥する。次に窒素気流下
(2Nl/h)、 250℃で2時間処理し、このようにして
“エッグシェル”として沈着したPd 0.5%を含有する
触媒を得る(触媒J)。
1.8〜2mmのビーズ状フッ化アルミニウムAlF3 50ml
(51g )を回転蒸発器に仕込む。減圧下(1kPa)、 100
℃で3時間気体除去後、Pd0.25g を含む硝酸パラジウ
ムの水溶液20mlを導入し、次に水を減圧下(1kPa)に蒸
発除去し、残渣を 100℃で乾燥する。次に窒素気流下
(2Nl/h)、 250℃で2時間処理し、このようにして
“エッグシェル”として沈着したPd 0.5%を含有する
触媒を得る(触媒J)。
【0053】(b) F115の水素化 触媒Jを仕込量50mlで実施例1−bにおけると同様の装
置に導入し、この仕込みにおいて大気圧でクロロペンタ
フルオロエタンの水素化の種々のテストを連続的に実施
する。
置に導入し、この仕込みにおいて大気圧でクロロペンタ
フルオロエタンの水素化の種々のテストを連続的に実施
する。
【0054】テストの操作条件及び得られた結果を下記
表10に参照記載する。反応器出口でのライン中の分析
で、F143a の存在は検知されない。
表10に参照記載する。反応器出口でのライン中の分析
で、F143a の存在は検知されない。
【0055】
【表11】
【0056】実施例12 (a) 触媒の調製 AlF3 75重量%を含有し、多孔度0.72cm3 /g及び比表
面積 71m2 /gを有する直径 1.5〜1.6mm のビーズ状フッ
化アルミナ50ml(30g )を回転蒸発器に仕込む。減圧下
(1kPa)、 100℃で3時間気体除去後、Pd 0.30gを含
有する硝酸パラジウムの水溶液23mlを導入し、次に減圧
下(1kPa)に水を蒸発除去し、残渣を 100℃で乾燥す
る。次に窒素気流下(2Nl/h)、 250℃で2時間処理
し、このようにして“エッグシェル”として沈着したP
d 0.5%を含有する触媒を得る(触媒K)。
面積 71m2 /gを有する直径 1.5〜1.6mm のビーズ状フッ
化アルミナ50ml(30g )を回転蒸発器に仕込む。減圧下
(1kPa)、 100℃で3時間気体除去後、Pd 0.30gを含
有する硝酸パラジウムの水溶液23mlを導入し、次に減圧
下(1kPa)に水を蒸発除去し、残渣を 100℃で乾燥す
る。次に窒素気流下(2Nl/h)、 250℃で2時間処理
し、このようにして“エッグシェル”として沈着したP
d 0.5%を含有する触媒を得る(触媒K)。
【0057】(b) F115の水素化 触媒Kを仕込み量50mlで実施例1−bにおけると同様の
装置に導入し、この仕込みにおいて、大気圧下クロロペ
ンタフルオロエタンの水素化の種々のテストを連続的に
実施する。
装置に導入し、この仕込みにおいて、大気圧下クロロペ
ンタフルオロエタンの水素化の種々のテストを連続的に
実施する。
【0058】テストの操作条件及び得られた結果を下記
表11に参照記載する。反応器出口でのライン中の分析
で、F143a の存在は検知されない。
表11に参照記載する。反応器出口でのライン中の分析
で、F143a の存在は検知されない。
【0059】
【表12】
フロントページの続き (72)発明者 ドミニツク・ギユイエ フランス国、69230・サン・ジエニ−ラバ ル、ルート・ドウ・ブルルス、2、バテイ マン・ベー
Claims (9)
- 【請求項1】 アルミナ、フッ素化アルミナ又はフッ化
アルミニウム支持体上に沈着したパラジウムをベースと
する触媒を使用することを特徴とするクロロペンタフル
オロエタンの気相接触水素化によるペンタフルオロエタ
ンの製造法。 - 【請求項2】 触媒のパラジウム含有量が、 0.1〜10重
量%、好ましくは0.1 〜5%である請求項1に記載の方
法。 - 【請求項3】 支持体の比表面積が1〜300m2 /g、好ま
しくは5〜100m2 /gであり、その多孔度が 0.1〜1cm3
/gであり、その粒子の大きさが1〜10mmである請求項1
又は2に記載の方法。 - 【請求項4】 パラジウム誘導体の水溶液又は有機溶液
を用いて支持体の含浸を行い、次に蒸発により水又は有
機溶媒を除去し、最後に水素及び/又は窒素気流下に10
0 〜500 ℃の温度で熱処理することにより触媒を製造す
る請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項5】 含浸が支持体粒子の外側に限られる請求
項4に記載の方法。 - 【請求項6】 クロロペンタフルオロエタンの水素化
を、 100〜400 ℃、好ましくは 200〜350 ℃の温度で実
施する請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項7】 クロロペンタフルオロエタンの水素化
を、1〜50バールの圧力下で実施する請求項6に記載の
方法。 - 【請求項8】 水素/クロロペンタフルオロエタンのモ
ル比が 0.5〜4、好ましくは1〜2である請求項6又は
7に記載の方法。 - 【請求項9】 クロロペンタフルオロエタンの単位時間
当りの流量が、触媒1リットル当り 0.5〜12モルである
請求項6〜8のいずれか1項に記載の方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9103704A FR2674521B1 (fr) | 1991-03-27 | 1991-03-27 | Preparation du pentafluoroethane par hydrogenolyse du chloropentafluoroethane. |
| FR9103704 | 1991-03-27 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0597728A true JPH0597728A (ja) | 1993-04-20 |
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ID=9411179
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0506525B1 (ja) |
| JP (1) | JP2540409B2 (ja) |
| KR (1) | KR950008884B1 (ja) |
| AT (1) | ATE128448T1 (ja) |
| AU (1) | AU647901B2 (ja) |
| CA (1) | CA2064139C (ja) |
| DE (1) | DE69205039T2 (ja) |
| ES (1) | ES2077366T3 (ja) |
| FI (1) | FI921330L (ja) |
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| IE (1) | IE920875A1 (ja) |
| MX (1) | MX9201284A (ja) |
| NO (1) | NO920902L (ja) |
| TW (1) | TW206925B (ja) |
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| EP0687660B2 (en) * | 1993-03-05 | 2006-05-17 | Daikin Industries, Limited | Process for producing 1,1,1,2,2-pentafluoroethane, process for producing 2,2-dichloro-1,1,1-trifluoroethane, and method of purifying 1,1,1,2,2-pentafluoroethane |
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| FR2733976B1 (fr) * | 1995-05-10 | 1997-06-20 | Atochem Elf Sa | Purification du pentafluoroethane |
| FR2754815B1 (fr) * | 1996-10-18 | 1998-12-04 | Atochem Elf Sa | Purification du pentafluoroethane |
| FR2764883B1 (fr) * | 1997-06-18 | 1999-07-16 | Atochem Elf Sa | Procede de fabrication d'hydrofluoroalcanes |
| KR100918104B1 (ko) * | 2008-03-27 | 2009-09-22 | 한국화학연구원 | 온건한 수소화 분해 반응을 위한 팔라듐/알루미나 제어로젤촉매, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 하이브리드피셔-트롭시 합성법에 의한 중간 증류액의 제조 방법 |
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- 1992-03-06 NO NO92920902A patent/NO920902L/no unknown
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