JPH0598002A - 低誘電性ポリイミドおよびその製造方法 - Google Patents

低誘電性ポリイミドおよびその製造方法

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JPH0598002A
JPH0598002A JP26007791A JP26007791A JPH0598002A JP H0598002 A JPH0598002 A JP H0598002A JP 26007791 A JP26007791 A JP 26007791A JP 26007791 A JP26007791 A JP 26007791A JP H0598002 A JPH0598002 A JP H0598002A
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JP
Japan
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formula
polyimide
aromatic
group
low dielectric
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Application number
JP26007791A
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English (en)
Inventor
Wataru Yamashita
渉 山下
Hideaki Oikawa
英明 及川
Masaji Tamai
正司 玉井
Teruhiro Yamaguchi
彰宏 山口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Publication date
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  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 【構成】 下記式(1) (Xは、少なくとも1つ以上のエーテル又はチオエーテ
ル結合を含有する芳香族基を示し、Rは種々の脂肪族基
又は芳香族基を示す。)で表わされる繰り返し単位構造
を有する低誘電性ポリイミド。 【効果】 この重合体は、優れた低誘電性を示し、しか
も、従来の耐熱性や良好な加工性を有するポリイミドで
ある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、低誘電性ポリイミドに
関する。更に詳しくは、低誘電性に優れた熱可塑性ポリ
イミドおよびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、ポリイミドはその優れた耐熱
性に加え、機械物性、耐薬品性、難燃性、電気特性等の
点において優れた特性を有しているために、成形材料、
複合材料、電気・電子部品等の分野において幅広く用い
られている。近年の電気・電子部品分野においては、マ
イクロエレクトロニクス化の発達が著しい。特に、大型
コンピュータでは多層回路基板の採用等により信号の高
速伝送が不可欠となるが、基板材料の誘電率が大きいと
信号の伝送に遅延が生じ高速化の障害となる。ポリイミ
ドは多層配線構造の層間絶縁膜に用いられるが、これら
の理由から従来ポリイミドが有していた優れた絶縁性に
加えて低誘電率化の必要性がクローズアップされてきて
いる。低誘電率の樹脂としては、古くからテフロン樹脂
が知られており、フロオロ基をポリイミド構造中に導入
することにより、誘電率を低下させることができること
は、 A.K. St.Clair et al Polymeric Materials Scien
ce and Engineering, 59, 28〜32 (1988)や EP 029986
5 により既に報告されている。しかしながら、フツ素を
多量に含有する従来のポリイミドは、十分に高分子量の
ポリマーが得られず(例えば、T.Ichino et al;J.Poly
m.Sci.,Part A,Polym.Chem.,28,323(1990)や特開平01-1
82324)、さらに価格の面でも非常の高価なものにな
り、工業的レベルでの生産は困難である。またテフロン
樹脂に代表されるように、フツ素を多量に含有すると接
着性が低下することから多層回路基板の層間接着が予想
される等の多くの問題点があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ポリ
イミドが本来有する優れた特性に加えて、低誘電性でし
かも成形加工性良好な熱可塑性ポリイミドを提供するこ
とである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決するために鋭意検討を重ねた結果、特定構造の芳
香族ジアミンと酸無水物をモノマー成分として用いるポ
リイミドが、ポリイミド固有の諸物性を損なうことな
く、優れた低誘電性を有する熱可塑性ポリイミドである
ことを見出し、本発明を完成した。すなわち、本発明は
一般式(1)(化12)
【0005】
【化12】 (式中、Xは少なくとも1つ以上のエーテル又はチオエ
ーテル結合を含有する炭素数12〜27の縮合多環式芳
香族基、芳香族基が直接又は架橋員により相互に連結さ
れた非縮合多環式芳香族基からなる群より選ばれた2価
の基を示し、Rは炭素数2〜27の脂肪族基、環式脂肪
族基、単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、芳香族基
が直接又は、架橋員により相互に連結された非縮合多環
式芳香族基からなる群より選ばれた4価の基を示す。)
で表わされる繰り返し構造単位を有する低誘電性ポリイ
ミド、その製造方法、およびこの繰り返し構造単位を有
するポリマー分子の末端が本質的に置換基を有しない
か、あるいはアミンまたはジカルボン酸無水物と反応性
を有しない基で置換された芳香族環である低誘電性ポリ
イミドであり、本ポリイミドの前駆体であるポリアミド
酸をジメチルアセトアミドに0.5g/dlの濃度で溶
解した後、35℃における対数粘度の値が0.01〜
3.0dl/gであるポリイミドおよび本ポリイミド粉
を9重量部のp−クロロフェノールと1重量部のフェノ
ールの混合溶媒に、0.5g/dlの濃度で加熱溶解し
た後、35℃において測定した対数粘度の値が0.01
〜3.0dl/gであるポリイミド、更にはそれらの製
造方法である。より詳細には、本発明は一般式(1)
(化13)
【0006】
【化13】 (式中、Xは少なくとも1つ以上のエーテル又はチオエ
ーテル結合を含有する炭素数12〜27の縮合多環式芳
香族基、芳香族基が直接又は架橋員により相互に連結さ
れた非縮合多環式芳香族基からなる群より選ばれた2価
の基を示し、Rは炭素数2〜27の脂肪族基、環式脂肪
族基、単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、芳香族基
が直接又は、架橋員により相互に連結された非縮合多環
式芳香族基からなる群より選ばれた4価の基を示す。)
で表わされる繰り返し構造単位を有するポリイミド、こ
のポリイミドを式(5) H2 N−X−NH2 (5) (式中Xは前記の通りである)で表わされる芳香族ジア
ミンと、主として一般式(6)(化14)
【0007】
【化14】 (式中Rは前記の通りである)で表わされるテトラカル
ボン酸二無水物を反応させ、得られるポリアミド酸を熱
的または化学的にイミド化して製造する方法、また、前
記一般式(1)で表わされる繰り返し構造単位の末端が
本質的に置換基を有しないか、あるいはアミンまたはジ
カルボン酸無水物と反応性を有しない基で置換された芳
香族環であるポリイミド、更には、これらのポリイミド
を前記式(5)で表わされる芳香族ジアミンと、主とし
て前記式(6)で表わされるテトラカルボン酸二無水物
を式(7)(化15)
【0008】
【化15】 (式中Z1 は、炭素数6〜15の単環式芳香族基、縮合
多環式芳香族基、芳香族基が直接又は架橋員により相互
に連結された非縮合多環式芳香族基からなる群より選ば
れた2価の基を示す)で表わされる芳香族ジカルボン酸
無水物または式(8) Z2 −NH2 (8) (式中Z2 は、炭素数6〜15の単環式芳香族基、縮合
多環式芳香族基、芳香族基が直接又は架橋員により相互
に連結された非縮合多環式芳香族基から選ばれた2価の
基を示す)で表わされる芳香族モノアミンの存在下に反
応させ、得られたポリアミド酸を熱的または化学的にイ
ミド化することを特徴とするポリイミドの製造方法であ
る。本発明のポリイミドは、一般式(1)(化16)
【0009】
【化16】 (式中、XおよびRは前記の通りである)で表わされる
繰り返し構造単位を有するポリイミドであり、またこの
ポリイミドの末端が芳香族基であるポリイミドまたはこ
のポリイミドの末端が本質的に置換基を有しないか、あ
るいはアミンまたはジカルボン酸無水物と反応性を有し
ない芳香族基であるポリイミドである。この繰り返し構
造単位を有するポリイミドの原料ジアミンは、前記式
(5) H2N−X−NH2 (5) で表わされる芳香族ジアミンを使用し、同式中のXは、
式(2)(化17)
【0010】
【化17】 又は、式(3)(化18)
【0011】
【化18】 で表わされる少なくとも1つ以上のエーテル又はチオエ
ーテル結合を含有する炭素数12〜27の縮合多環式芳
香族基、芳香族基が直接又は架橋員により相互に連結さ
れた非縮合多環式芳香族基からなる群より選ばれた2価
の基を示す。)で表される芳香族ジアミンが使用され
る。具体的には、3,3’−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,4’−ジアミノジフエニルエーテル、4,4’
−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジ
フェニルスルフィド、3,4’−ジアミノジフエニルス
ルフィド、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、
1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,
4−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−
ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス
(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3
−アミノフエニルチオ)ベンゼン、1,4−ビス(3−
アミノフェニルチオ)ベンゼン、1,3−ビス(4−ア
ミノフェニルチオ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミ
ノフェニルチオ)ベンゼン、2,7−ビス(3−アミノ
フェノキシ)ナフタレン、2,7−ビス(4−アミノフ
ェノキシ)ナフタレン、2,6−ビス(3−アミノフェ
ノキシ)ナフタレン、2,6−ビス(4−アミノフェノ
キシ)ナフタレン、2,7−ビス(3−アミノフェニル
チオ)ナフタレン、2,7−ビス(4−アミノフェニル
チオ)ナフタレン、2,6−ビス(3−アミノフェニル
チオ)ナフタレン、2,6−ビス(4−アミノフェニル
チオ)ナフタレン、4,4’−ビス(3−アミノフェノ
キシ)ビフェニル、4,4’−ビス(4−アミノフェノ
キシ)ビフェニル、3,3’−ビス(3−アミノフェノ
キシ)ジフェニルエーテル、3,3’−ビス(4−アミ
ノフェノキシ)ジフェニルエーテル、4,4’−ビス
(3−アミノフェノキシ)ジフェニルエーテル、4,
4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ジフェニルエーテ
ル、3,3’−ビス(3−アミノフェノキシ)ジフェニ
ルスルフィド、3,3’−ビス(4−アミノフェノキ
シ)ジフェニルスルフィド、4,4’−ビス(3−アミ
ノフェノキシ)ジフェニルスルフィド、4,4’−ビス
(4−アミノフェノキシ)ジフェニルスルフィド、ビス
〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕メタン、ビ
ス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕メタン、
2,2−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノ
キシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(3−
アミノフェノキシ)フェニル〕1,1,1,3,3,3
−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス〔4−(4−
アミノフェノキシ)フェニル〕1,1,1,3,3,3
−ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ビス(3−アミ
ノフェノキシ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(4−
アミノフェノキシ)ベンゾフェノン、ビス〔4−(3−
アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホンである。
【0012】本発明のポリイミドは、前記の芳香族ジア
ミンを必須モノマー原料として用いるが。このポリイミ
ドの良好な物性を損なわない範囲で他の芳香族ジアミン
を混合して使用することができる。混合して使用できる
ジアミンとしては、例えばm−フェニレンジアミン、o
−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、m−
アミノベンジルアミン、p−アミノベンジルアミン、ビ
ス(3−アミノフェニル)スルホキシド、(3−アミノ
フェニル)(4−アミノフェニル)スルホキシド、(3
−アミノフェニル)スルホン、(3−アミノフェニル)
(4−アミノフェニル)スルホン、ビス(4−アミノフ
ェニル)スルホン、3,3’−ジアミノベンゾフェノ
ン、3,4’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジ
アミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノジフェニル
メタン、3,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,
4’−ジアミノジフェニルメタン、1,1−ビス〔4−
(3−アミノフェノキシ)フェニル〕エタン、1,1−
ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕エタ
ン、1,2−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェ
ニル〕エタン、1,2−ビス〔4−(4−アミノフェノ
キシ)フェニル〕エタン、2,2−ビス〔4−(3−ア
ミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス
〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、
2,2−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕ブタン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェ
ニル〕ケトン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル〕ケトン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)
フェニル〕スルフィド、ビス〔4−(3−アミノフェノ
キシ)フェニル〕スルホキシド、ビス〔4−(アミノフ
ェノキシ)フェニル〕スルホキシド、ビス〔4−(3−
アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、1,4
−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル〕ベ
ンゼン、1,3−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)
ベンゾイル〕ベンゼン、4,4’−ビス〔3−(4−ア
ミノフェノキシ)ベンゾイル〕ジフェニルエーテル、
4,4’−ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)ベンゾ
イル〕ジフェニルエーテル、4,4’−ビス〔4−(4
−アミノ−α,α−ジメチルベンジル)フェノキシ〕ベ
ンゾフェノン、4,4’−ビス〔4−(4−アミノ−
α,α−ジメチルベンジル)フェノキシ〕ジフェニルス
ルホン、4,4’−ビス〔4−{4−(アミノフェノキ
シ)フェノキシ}フェニル〕スルホン、1,4−ビス
〔4−(4−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベ
ンジル〕ベンゼン、1,3−ビス〔4−(4−アミノフ
ェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン、
3,3’−ジアミノ−4,4’−ジフロロベンゾフェノ
ン等が挙げられ、また、これらは単独または2種以上を
混合して使用される。また、芳香族テトラカルボン酸二
無水物としては、一般式(6)(化19)
【0013】
【化19】 で表わされるテトラカルボン酸二無水物を用いる。一般
式(6)においてRは、炭素数2〜27の脂肪族基、環
式脂肪族基、単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、芳
香族基が直接または架橋員により相互に連結された非縮
合多環式芳香族基からなる群より選ばれた4価の基を示
し、具体的には一般式(6)のRが炭素数2〜10の脂
肪族基、炭素数4〜10の環式脂肪族基、式(a)(化
20)
【0014】
【化20】 で表わされる単環式芳香族基、式(b)(化21)
【0015】
【化21】 で表わされる縮合多環式芳香族基、および式(c)(化
22)
【0016】
【化22】 で表わされる芳香族基が直接または架橋員により相互に
連結された非縮合多環式芳香族基からなる群より選ばれ
た4価の基であるテトラカルボン酸二無水物が使用され
る。具体的には、例えば、エチレンテトラカルボン酸二
無水物、シクロペンタンカルボン酸二無水物、ピロメリ
ット酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノン
テトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,
4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,
2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物、2,2−ビス(3,4’−ジカルボキシフェニル)
プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキ
シフェニル)プロパン二無水物、ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス(3,4−ジ
カルボキシフェニル)スルホン二無水物、1,1−ビス
(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビ
ス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水
物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−
1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無
水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)
−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二
無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸
二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン
酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボ
ン酸二無水物、1,2,3,4−ベンゼンテトラカルボ
ン酸二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカル
ボン酸二無水物、2,3,6,7−アントラセンテトラ
カルボン酸二無水物、1,2,7,8−フェナントレン
テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。これらは単
独あるいは2種を混合して用いられる。これらの芳香族
ジアミン成分と芳香族テトラカルボン酸二無水物をモノ
マー成分として得られる本発明のポリイミドは、主とし
て一般式(1)の繰り返し構造単位を有するポリイミド
であり、また主として一般式(1)の繰り返し構造単位
を有するポリイミドが、そのポリマー分子末端が置換基
を有しないか、あるいはアミンまたはジカルボン酸無水
物と反応性を有しない基で置換された芳香族環を有する
ポリイミドも含まれ、また本発明は本質的にこれらのポ
リイミドからなるポリイミドフィルムまたはこれらのポ
リイミドを含有する組成物も含まれる。この末端に置換
基を有しないか、あるいはアミンまたはジカルボン酸無
水物と反応性を有しない基で置換された芳香族環を有す
るポリイミドは、前記式(5)の芳香族ジアミンと、主
として前記一般式(6)で表わされるテトラカルボン酸
二無水物化合物を、式(7)(化23)
【0017】
【化23】 (式中、Z1 は炭素数6〜15の単環式芳香族基、縮合
多環式芳香族基、芳香族基が直接または架橋員により相
互に連結された非縮合多環式芳香族基からなる群より選
ばれた2価の基を示す)で表わされる芳香族ジカルボン
酸無水物または式(8) Z2 −NH2 (8) (式中、Z2 は炭素数6〜15の単環式芳香族基、縮合
多環式芳香族基、芳香族基が直接または架橋員により相
互に連結された非縮合多環式芳香族基からなる群より選
ばれた2価の基を示す)で表わされる芳香族モノアミン
の存在下に反応させ、得られるポリアミド酸を熱的また
は化学的にイミド化することによりえられる。
【0018】また、式(7)、式(8)中のZ1 および
2 は、一般式で表わすと前記の式(1)で表わされる
ポリイミドの式中のRと同じ定義のものが含まれ、具体
的には、これらの方法で使用されるジカルボン酸無水物
として、2,3−ベンゾフェノンジカルボン酸無水物、
3,4−ベンゾフェノンジカルボン酸無水物、2,3−
ジカルボキシフェニルフェニルエーテル無水物、3,4
−ジカルボキシフェニルフェニルエーテル無水物、2,
3−ビフェニルジカルボン酸無水物、3,4−ビフェニ
ルジカルボン酸無水物、2,3−ジカルボキシフェニル
フェニルスルホン無水物、3,4−ジカルボキシフェニ
ルフェニルスルホン無水物、2,3−ジカルボキシフェ
ニルフェニルスルフィド無水物、3,4−ジカルボキシ
フェニルフェニルスルフィド無水物、1,2−ナフタレ
ンジカルボン酸無水物、2,3−ナフタレンジカルボン
酸無水物、1,8−ナフタレンジカルボン酸、1,2−
アントラセンジカルボン酸無水物、2,3−アントラセ
ンジカルボン酸無水物、1,9−アントラセンジカルボ
ン酸無水物等が挙げられる。これらのジカルボン酸無水
物はアミンまたはジカルボン酸無水物と反応性を有しな
い基で置換されていても差し支えない。これらのジカル
ボン酸無水物の中で、無水フタル酸が得られるポリイミ
ドの性能面および実用面から最も好ましい。すなわち、
高温成形時における成形安定性の優れたポリイミドであ
り、優れた耐薬品性を有しており、前記の優れた加工性
を考え合わせると、宇宙・航空機用機材、電気・電子部
品用基材として極めて有用なポリイミドである。
【0019】また、無水フタル酸を使用する場合、その
一部をポリイミドの良好な物性を損なわない範囲で、他
のジカルボン酸無水物で代替して用いることは何ら差し
支えない。用いられるジカルボン酸無水物の量は、式
(5)で表わされる芳香族ジアミン1モル当たり、0.
001〜1.0モル比である。0.001モル未満で
は、高温時に粘度の上昇が見られ成形加工性低下の原因
となる。また1.0モルを越えると機械的特性が低下す
る。好ましい使用量は、0.001〜0.5モルの割合
である。また、芳香族モノアミンを使用する場合、芳香
族モノアミンとしては、例えばアニリン、o−トルイジ
ン、m−トルイジン、p−トルイジン、2,3−キシリ
ジン、2,6−キシリジン、3,4−キシリジン、3,
5−キシリジン、o−クロロアニリン、m−クロロアニ
リン、p−クロロアニリン、o−ブロモアニリン、m−
ブロモアニリン、p−ブロモアニリン、o−ニトロアニ
リン、m−ニトロアニリン、p−ニトロアニリン、o−
アミノフェノール、m−アミノフェノール、p−アミノ
フェノール、o−アニシジン、m−アニシジン、p−ア
ニシジン、o−フエネジン、m−フエネジン、p−フエ
ネジン、o−アミノベンツアルデヒド、m−アミノベン
ツアルデヒド、p−アミノベンツアルデヒド、o−アミ
ノベンゾニトリル、m−アミノベンゾニトリル、p−ア
ミノベンゾニトリル、2−アミノビフェニル、3−アミ
ノビフェニル、4−アミノビフェニル、2−アミノフェ
ニルフェニルエーテル、3−アミノフェニルフェニルエ
ーテル、4−アミノフェニルフェニルエーテル、2−ア
ミノベンゾフェノン、3−アミノベンゾフェノン、4−
アミノベンゾフェノン、2−アミノフェニルフェニルス
ルフィド、3−アミノフェニルフェニルスルフィド、4
−アミノフェニルフェニルスルフィド、2−アミノフェ
ニルフェニルスルホン、3−アミノフェニルフェニルス
ルホン、4−アミノフェニルフェニルスルホン、α−ナ
フチルアミン、β−ナフチルアミン、1−アミノ−2−
ナフトヘル、2−アミノ−1−ナフトール、4−アミノ
−1−ナフトール、5−アミノ−1−ナフトール、5−
アミノ−2−ナフトール、7−アミノ−2−ナフトー
ル、8−アミノ−1−ナフトール、8−アミノ−2−ナ
フトール、1−アミノアントラセン、2−アミノアント
ラセン、9−アミノアントラセン等が挙げられる。これ
らの芳香族モノアミンは、アミンまたはジカルボン酸無
水物と反応性を有しない基で置換されていても差し支え
ない。
【0020】用いられる芳香族モノアミンの量は、一般
式(6)で表わされるテトラカルボン酸二無水物1モル
当たり0.001〜0.1モル比である。0.001モ
ル未満では、高温成形時に粘度の上昇が見られ成形加工
性低下の原因となる。また1.0モルを越えると機械的
特性が低下する。好ましい使用量は、0.001〜0.
5モルの割合である。従って、このように本発明のポリ
イミドの末端が置換基を有しないか、あるいはアミンま
たはジカルボン酸無水物と反応性を有しない基で置換さ
れた置換芳香環であるポリイミドを製造する場合は、テ
トラカルボン酸二無水物、芳香族ジアミン、およびジカ
ルボン酸無水物または芳香族モノアミンのモル比は、テ
トラカルボン酸二無水物1モル当たり、芳香族ジアミン
は0.9〜1.0モル、ジカルボン酸無水物または芳香
族モノアミンは0.001〜1.0モルである。ポリイ
ミドの製造にあたって、生成ポリイミドの分子量を調節
するために、テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミ
ンの量比を調節することは通常行われている。本発明の
方法においては、溶融流動性の良好なポリイミドを得る
ために適切なテトラカルボン酸二無水物に対する芳香族
ジアミンのモル比は0.9〜1.0の範囲である。
【0021】本発明のポリイミドの製造方法としては、
ポリイミドを製造可能な方法が公知方法を含め全て適用
できるが、中でも有機溶媒中で反応を行うのが特に好ま
しい方法である。このような反応に用いられる有機溶剤
としては、好ましくはN,N−ジメチルアセトアミドで
あるが、その他に使用できる溶剤としては例えば、N,
N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルアセトア
ミド、N,N−ジメチルメトキシアセトアミド、N−メ
チル−2−ピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダ
ゾリジノン、N−メチルカプラクタム、1,2−ジメト
キシエタン、ビス(2−メトキシエチル)エーテル、
1,2−ビス(2−メトキシエトキシ)エタン、ビス
{2−(2−メトキシエトキシ)エチル}エーテル、テ
トラドロフラン、1,3−ジオキサン、1,4−ジオキ
サン、ピリジン、ピコリン、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルスルホン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホス
ホルアミド、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾ
ール、p−クレゾール、m−クレゾール酸、p−クロフ
ェノール、アニソール等が挙げられる。また、これらの
有機溶媒は単独でもまたは2種以上混合して用いても差
し支えない。
【0022】本発明の方法で有機溶媒に芳香族ジアミ
ン、テトラカルボン酸二無水物、芳香族ジカルボン酸無
水物または芳香族モノアミンを添加反応させる方法とし
ては、(イ)テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミ
ンを反応させた後に、芳香族ジカルボン酸無水物または
芳香族モノアミンを添加して反応を続ける方法、(ロ)
芳香族ジアミンに芳香族ジカルボン酸無水物を加えて反
応させた後、テトラカルボン酸二無水物を添加し、更に
反応を続ける方法、(ハ)テトラカルボン酸二無水物に
芳香族モノアミンを加えて反応させた後、芳香族ジアミ
ンを添加し、更に反応を続ける方法、(ニ)テトラカル
ボン酸二無水物、芳香族ジアミン、芳香族ジカルボン酸
無水物または芳香族モノアミンを同時に添加し、反応さ
せる方法等が挙げられ、いづれの添加方法をとっても差
し支えない。反応温度は通常250℃以下、好ましくは
50℃以下である。反応圧力は特に限定されず、常圧で
十分実施できる。反応時間はテトラカルボン酸二無水物
の種類、溶剤の種類および反応時間により異なり、通常
4〜24時間で十分である。更に得られたポリアミド酸
を100〜400℃に加熱してイミド化するか、また無
水酢酸等のイミド化剤を用いて化学イミド化することに
より、ポリアミド酸に対応する繰り返し単位を有するポ
リイミドが得られる。
【0023】本ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸
を、0.5g/dlの濃度でジメチルアセトアミドに溶
解した後、35℃で測定した対数粘度の値は0.001
〜3.dl/gであり、更に本ポリイミド粉を9重量部
のp−クロロフェノールと1重量部のフェノールの混合
溶媒に0.5g/dlの濃度で加熱溶解した後、35℃
において測定した対数粘度値は0.01〜3.0dl/
gである。
【0024】また、芳香族ジアミンとテトラカルボン酸
二無水物、さらにはポリイミドの末端を芳香環とする場
合は芳香族ジカルボン酸無水物または芳香族モノアミン
とを、有機溶媒中に懸濁または溶解させた後加熱し、ポ
リイミドの前駆体であるポリアミド酸の生成と、同時に
イミド化を行うことにより目的のポリイミドを得ること
も可能である。
【0025】更に、本特許におけるポリイミドフィルム
の製造方法としては、本ポリイミドの前駆体であるポリ
アミド酸のワニスをガラスプレート上に塗布した後、加
熱してイミド化する手法、あるいは直接ポリイミド粉を
加熱することによりフィルム状にする手法が可能であ
る。すなわち、従来公知の手法を用いて、フィルム状も
しくは粉末状のポリイミドを得ることができる。
【0026】また、本発明のポリイミドは、溶融成形に
供する場合、本発明の目的を損なわない範囲で他の熱可
塑性樹脂、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
カーボネート、ポリアリレート、ポリアミド、ポリスル
ホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポ
リフェニレンスルフィド、ポリアミドイミド、ポリエー
テルイミド、変性ポリフェニレンオキシド等を目的に応
じて適当量を配合することも可能である。また、更に通
常の樹脂組成物に使用する次のような充填剤等を、発明
の目的を損なわない程度で用いてもよい。すなわち、グ
ラファイト、カーボランダム、ケイ石粉、二硫化モリブ
デン、フッ素樹脂等の耐摩耗性向上剤、ガラス繊維、カ
ーボン繊維等の補強材、三硫化アンチモン、炭酸マグネ
シウム、炭酸カルシウム等の難燃性向上剤、クレー、マ
イカ等の電気的特性向上剤、アスベスト、シリカ、グラ
ファイト等の耐トラッキング向上剤、硫化バリウム、シ
リカ、メタケイ酸カルシウム等の耐酸性向上剤、鉄粉、
亜鉛粉、アルミニウム粉、銅粉等の熱伝導度向上剤、そ
の他ガラスーズ、ガラス球、タルク、ケイ藻土、アルミ
ナ、シラスバルン、水和アルミナ、金属酸化物、着色料
等である。
【0027】
【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明す
る。尚、実施例中のポリイミドの物性は以下の方法によ
り測定した。 Tg,Tc,Tm;DSC(島津DT−40シリーズ、
DSC−41M)により測定。 5%重量減少温度;空気中にてDTG(島津DT−40
シリーズ、DTG−40M)により測定。 溶融粘度;島津高化式フローテスター(CFT500
A)により荷重100kgで測定。 誘電率;ASTM D150−87に準じて測定した。 対数粘度(ポリアミド酸);ポリアミド酸をN,N−ジ
メチルアセトアミドに0.5g/100mlの濃度で溶
解し、35℃で測定した。 対数粘度(ポリイミド);ポリイミド粉0.50gをp
−クロロフェノール/フェノール(重量比(9/1))
混合溶媒100mlに加熱溶解した後、35℃において
測定した。
【0028】実施例1 攪拌機、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器に、
1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン29.
24g(0.1モル)、N,N−ジメチルアセトアミド
140.61gを装入し、窒素雰囲気下において3,
3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸
二無水物31.02g(0.1モル)を溶液温度の上昇
に注意しながら分割して加え、室温で約30時間かきま
ぜた。かくして得られたポリアミド酸の対数粘度は0.
85dl/gであった。このポリアミド酸溶液の一部を
取りガラス板上にキャストした後、100℃、200
℃、300℃で各々1時間加熱して厚さ約50μmのポ
リイミドフィルムを得た。このポリイミドフィルムのガ
ラス転移温度(Tg)は175℃、空気中の5%重量減
少温度は543℃であった。また、フィルムの引張り強
さは15.6kg/mm2 、引張弾性率は319kg/
mm2 、伸び率は8.2%であった(測定方法はAST
M D−822に基づく)。このポリイミドフィルムを
用いて、誘電率を測定したところ、周波数60Hzで
3.15、1KHzで3.13、1MHzで3.06で
あった。
【0029】実施例2 攪拌機、還流冷却器、水分離器および窒素導入管を備え
た容器に、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベン
ゼン29.24g(0.1モル)、3,3’,4,4’
−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物30.
40g(0.098モル)、無水フタル酸0.592g
(4×10-3モル)、γ−ピコリン140g、m−クレ
ゾール238.6gを装入し、窒素雰囲気下において攪
拌しながら150℃まで加熱昇温した。この間約3.5
mlの水の留出が確認された。その後室温まで冷却し、
約1.5lのメチルエチルケトンに排出した後、濾別し
た。このポリイミド粉をメチルエチルケトンで洗浄した
後、空気中50℃で24時間、窒素中180℃で4時間
減圧乾燥して55.94g(収率98.8%)のポリイ
ミド粉を得た。かくして得られたポリイミド粉の対数粘
度は0.55dl/gであった。また、このポリイミド
粉のガラス転移温度(Tg)は172℃であった。さら
にこのポリイミド粉を、圧力300psi、温度300
℃の条件下で加圧・加熱プレスすることにより厚さ約5
0μmのポリイミドフィルムとした。このポリイミドフ
ィルムを用いて誘電率を測定したところ、周波数60H
zで3.18、1KHzで3.15、1MHzで3.1
0であった。また、このポリイミド粉の赤外吸収スペク
トル図を図1に示す。このスペクトル図からイミド特性
吸収帯である1780cm-1と1720cm-1付近の吸
収が顕著に認められた。
【0030】なお、得られたポリイミド粉の元素分析値
は以下の通りである。 元素分析結果 C H N 計算値(%) 72.08 3.21 4.95 測定値(%) 71.98 3.24 4.91 さらに、このポリイミドの成形安定性を高化式フローテ
スターを使用し、100kgの荷重、および直径0.1
cmのオリフィスを用いて測定した。350℃において
シリンダー内滞留時間を変えて測定した結果を図2に示
す。シリンダー内での滞留時間が長くなっても溶融粘度
はほとんど変化せず、熱安定性の良好なことがわかる。
【0031】比較例1 無水フタル酸を使用しないこと以外は実施例2と全く同
様にしてポリイミド粉55.48g(収率98.0%)
を得た。かくして得られたポリイミド粉の対数粘度は
0.60dl/g、ガラス転移温度(Tg)は176℃
であった。このポリイミドの成形安定性をフローテスタ
ーを用いて実施例2と同様に測定した。結果を実施例2
の結果と併せて図2に示す。本比較例で得られたポリイ
ミドは、シリンダー内滞留時間が長くなるに従い溶融粘
度が増加し、実施例2で得られたポリイミドに比較して
成形安定性の劣ることがわかる。
【0032】実施例3 実施例1における1,3−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン29.24g(0.1モル)を4,4’−
ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル36.85g
(0.1モル)に変えた以外は実施例1と同様に行って
ポリアミド酸を得た。かくして得られたポリアミド酸の
対数粘度は1.23dl/gであった。このポリアミド
酸を用いて実施例1と全く同様にして厚さ50μmのポ
リイミドフィルムを得た。このポリイミドフィルムのガ
ラス転移温度(Tg)は208℃であった。さらに、こ
のポリイミドフィルムを用いて誘電率を測定したとこ
ろ、周波数60Hzで3.12、1KHzで3.10、
1MHzで3.03であった。
【0033】実施例4 実施例2における1,3−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン29.24g(0.1モル)を4,4’−
ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル36.85g
(0.1モル)に変えた以外は実施例2と同様にしてポ
リイミド粉63.62g(収率99.0%)を得た。か
くして得られたポリイミド粉の対数粘度は0.59dl
/g、ガラス転移温度(Tg)は205℃であった。こ
のポリイミド粉を用いて実施例2と全く同様にして厚さ
50μmのポリイミドフィルムを作成し、誘電率を測定
したところ、周波数60Hzで3.15、3KHzで
3.10、1MHzで3.05であった。
【0034】実施例5 実施例1における1,3−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン29.24g(0.1モル)を2,2−ビ
ス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕1,1,
1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン51.85g
(0.1モル)に変えた以外は実施例1と同様に行って
ポリアミド酸を得た。かくして得られたポリアミド酸の
対数粘度は1.39dl/gであった。このポリアミド
酸を用いて実施例1と全く同様にして厚さ50μmのポ
リイミドフィルムを得た。このポリイミドフィルムのガ
ラス転移温度(Tg)は200℃、空気中での5%重量
減少温度は508℃であった。また、フィルムの引張り
強度は14.6kg/mm2 、引張弾性率は309kg
/mm2 、伸び率は9.1%であった。さらに、このポ
リイミドフィルムを用いて誘電率を測定したところ、周
波数60Hzで2.94、3KHzで2.92、1MH
zで2.89であった。
【0035】実施例6 実施例2における1,3−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン29.24g(0.1モル)を2,2−ビ
ス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕1,1,
1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン51.85g
(0.1モル)に変えた以外は実施例2と同様にしてポ
リイミド粉75.93g(収率95.8%)を得た。か
くして得られたポリイミド粉の対数粘度は0.45dl
/g、ガラス転移温度(Tg)は196℃であった。こ
のポリイミド粉を用いて実施例2と全く同様にして厚さ
50μmのポリイミドフィルムを作成し、誘電率を測定
したところ、周波数60Hzで2.99、3KHzで
2.95、1MHzで2.93であった。
【0036】実施例7 実施例1における1,3−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン29.24g(0.1モル)を4,4’−
(3−アミノフェノキシ)ビフェニル36.85g
(0.1モル)に3,3’,4,4’−ジフェニルエー
テルテトラカルボン酸二無水物31.02g(0.1モ
ル)を2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)
−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二
無水物44.43g(0.1モル)に変えた以外は実施
例1と同様に行ってポリアミド酸を得た。かくして得ら
れたポリアミド酸の対数粘度は1.20dl/gであっ
た。このポリアミド酸を用いて実施例1と全く同様にし
て厚さ50μmのポリイミドフィルムを得た。このポリ
イミドフィルムのガラス転移温度(Tg)は240℃、
空気中での5%重量減少温度は518℃であった。ま
た、フィルムの引張り強度は14.8kg/mm2 、引
張弾性率は290kg/mm2 、伸び率は9.9%であ
った。さらに、このポリイミドフィルムを用いて誘電率
を測定したところ、周波数60Hzで2.89、3KH
zで2.88、1MHzで2.84であった。
【0037】実施例8 実施例2における1,3−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン29.24g(0.1モル)を4,4’−
ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル36.85g
(0.1モル)に3,3’,4,4’−ジフェニルエー
テルテトラカルボン酸二無水物30.40g(0.09
8モル)を2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパ
ン二無水物43.54g(0.098モル)に変えた以
外は実施例2と同様にしてポリイミド粉73.25g
(収率94.7%)を得た。かくして得られたポリイミ
ド粉の対数粘度は0.51dl/g、ガラス転移温度
(Tg)は238℃であった。このポリイミド粉を用い
て実施例2と全く同様にして厚さ50μmのポリイミド
フィルムを作成し、誘電率を測定したところ、周波数6
0Hzで2.90、3KHzで2.88、1MHzで
2.85であった。
【0038】実施例9 実施例2における1,3−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン29.24g(0.1モル)を2,2−ビ
ス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕1,1,
1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン51.85g
(0.1モル)に3,3’,4,4’−ジフェニルエー
テルテトラカルボン酸二無水物30.40g(0.09
8モル)を2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパ
ン二無水物43.54g(0.098モル)に変えた以
外は実施例2と同様にしてポリイミド粉85.00g
(収率92.1%)を得た。かくして得られたポリイミ
ド粉の対数粘度は0.46dl/g、ガラス転移温度
(Tg)は221℃、空気中での5%重量減少温度は5
11℃であった。このポリイミド粉を用いて実施例2と
全く同様にして厚さ50μmのポリイミドフィルムを作
成し、誘電率を測定したところ、周波数60Hzで2.
79、3KHzで2.76、1MHzで2.73であっ
た。
【0039】実施例10 実施例2における3,3’,4,4’−ジフェニルエー
テルテトラカルボン酸二無水物30.40g(0.09
8モル)を2,2−ビス(3,4−ジカルボキシルフェ
ニル)1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパ
ン二無水物43.54g(0.098モル)に変えた以
外は実施例2と同様にしてポリイミド粉66.21g
(収率94.9%)を得た。かくして得られたポリイミ
ド粉の対数粘度は0.58dl/g、ガラス転移温度
(Tg)は186℃であった。このポリイミド粉を用い
て実施例2と全く同様にして厚さ50μmのポリイミド
フィルムを作成し、誘電率を測定したところ、周波数6
0Hzで2.93、3KHzで2.90、1MHzで
2.87であった。
【0040】実施例11 実施例2における1,3−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン29.24g(0.1モル)を3,3’−
ジアミノジフェニルエーテル20.03g(0.1モ
ル)に3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラ
カルボン酸二無水物30.40g(0.098モル)を
2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)1,
1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物
43.54gに変えた以外は実施例2と同様にしてポリ
イミド粉60.01g(収率96.4%)を得た。かく
して得られたポリイミドの対数粘度は0.51dl/
g、ガラス転移温度は215℃であった。このポリイミ
ド粉を用いて実施例2と全く同様にして厚さ50μmの
ポリイミドフィルムを作成し、誘電率を測定したところ
周波数60Hzで329.3kHzで3.26、1MH
zで3.18であった。
【0041】実施例12 実施例1における1,3−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン29.24g(0.1モル)を2,7−ビ
ス(3−アミノフェノキシ)ナフタレン34.24g
(0.1モル)に変えた以外は実施例1と同様に行って
ポリアミド酸を得た。かくして得られたポリアミド酸の
対数粘度は1.56dl/gであった。このポリアミド
酸を用いて実施例1と全く同様にして厚さ50μmのポ
リイミドフィルムを得た。このポリイミドフィルムのガ
ラス転移温度は256℃、空気中での5%重量減少温度
は548℃であった。また、フィルムの引張り強度は1
4.4kg/mm2 、引張り弾性率300kg/m
2 、伸び率35%であった。さらに、このポリイミド
フィルムを用いて誘電率を測定したところ周波数60H
zで335.3kHzで3.26、1MHzで3.26
であった。
【0042】実施例13 実施例2における1,3−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン29.24g(0.1モル)を2,7−ビ
ス(3−アミノフェノキシ)ナフタレン34.24g
(0.1モル)に変えた以外は実施例2と同様にしてポ
リイミド粉57.21g(収率98.0%)を得た。か
くして得られたポリイミド粉の対数粘度は0.73dl
/g、ガラス転移温度(Tg)は248℃であった。こ
のポリイミド粉を用いて実施例2と全く同様にして厚さ
50μmのポリイミドフィルムを作成し、誘電率を測定
したところ周波数60Hzで335.3kHzで3.3
0、1MHzで3.29であった。
【0043】実施例14 実施例1における1,3−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン29.24g(0.1モル)を2,7−ビ
ス(3−アミノフェノキシ)ナフタレン34.24g
(0.1モル)に、3,3’,4,4’−ジフェニルエ
ーテルテトラカルボン酸二無水物31.02g(0.1
モル)を2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン
二無水物44.43g(0.1モル)に変えた以外は実
施例1と全く同様に行ってポリアミド酸を得た。かくし
て得られたポリアミド酸の対数粘度は1.31dl/g
であった。このポリアミド酸を用いて実施例1と全く同
様にして厚さ50μmのポリイミドフィルムを得た。こ
のポリイミドフィルムのガラス転移温度(Tg)は26
2℃、空気中での5%重量減少温度は528℃であっ
た。またフィルムの引張り強度は13.2kg/m
2 、引張り弾性率は286kg/mm2 、伸び率は2
4.2%であった。さらに、このポリイミドフィルムを
用いて誘電率を測定したところ周波数60Hzで31
4.3kHzで3.11、1MHzで3.06であっ
た。
【0044】実施例15 実施例2における1,3−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン29.24g(0.1モル)を2,7−ビ
ス(3−アミノフェノキシ)ナフタレン34.24g
(0.1モル)に、3,3’,4,4’−ジフェニルエ
ーテルテトラカルボン酸二無水物30.40g(0.0
98モル)を2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェ
ニル)1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパ
ン二無水物43.54g(0.098モル)に変えた以
外は実施例2と同様にしてポリイミド粉74.98g
(収率98.0%)を得た。かくして得られたポリイミ
ド粉の対数粘度は0.62dl/g、ガラス転移温度
(Tg)は254℃であった。このポリイミド粉を用い
て実施例2と全く同様にして厚さ50μmのポリイミド
フィルムを作成し、誘電率を測定したところ周波数60
Hzで316.3kHzで3.11、1MHzで3.0
8であった。
【0045】実施例16 実施例1における1,3−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン29.24g(0.1モル)を4,4’−
ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゾフェノン39.6
5g(0.1モル)に、3,3’,4,4’−ジフェニ
ルエーテルテトラカルボン酸二無水物31.02g
(0.1モル)を2,2−ビス(3,4−ジカルボキシ
フェニル)1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプ
ロパン二無水物44.43g(0.1モル)に変えた以
外は実施例1と全く同様にしてポリアミド酸を得た。か
くして得られたポリアミド酸の対数粘度は1.03dl
/gであった。、このポリアミド酸を用いて実施例1と
全く同様にして厚さ50μmのポリイミドフィルムを得
た。このポリイミドフィルムのガラス転移温度(Tg)
は205℃、空気中での5%重量減少温度は518℃で
あった。また、フィルムの引張り強度は11.3kg/
mm2 、引張弾性率は266kg/mm2 、伸び率は
9.6%であった。さらに、このポリイミドフィルムを
を用いて誘電率を測定したところ周波数60Hzで34
4.3kHzで3.41、1MHzで3.32であっ
た。
【0046】実施例17 実施例2における1,3−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン29.24g(0.1モル)を4,4’−
ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゾフェノン39.6
5g(0.1モル)に、3,3’,4,4’−ジフェニ
ルエーテルテトラカルボン酸二無水物30.40g
(0.098モル)を2,2’−ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)1,1,1,3,3,3−ヘキサフル
オロプロパン二無水物43.54g(0.098モル)
に変えた以外は実施例2と同様にしてポリイミド粉7
8.11g(収率97.4%)を得た。かくして得られ
たポリイミド粉の対数粘度は0.58dl/g、ガラス
転移温度(Tg)は202℃であった。このポリイミド
粉を用いて実施例2と全く同様にして厚さ50μmのポ
リイミドフィルムを作成し、誘電率を測定したところ周
波数60Hzで346.3kHzで3.42、1MHz
で3.36であった。
【0047】比較例2 実施例1における1,3−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン29.24g(0.1モル)を1,3−ビ
ス(3−アミノベンゾイル)ベンゼン31.64g
(0.1モル)に3,3’,4,4’−ジフェニルエー
テルテトラカルボン酸二無水物31.02g(0.1モ
ル)をピロメリット酸二無水物21.81g(0.1モ
ル)に変えた以外は実施例1と同様に行ってポリアミド
酸を得た。かくして得られたポリアミド酸の対数粘度は
1.79dl/gであった。このポリアミド酸を用いて
実施例1と全く同様にして厚さ50μmのポリイミドフ
ィルムを得た。このポリイミドフィルムを用いて誘電率
を測定したところ、周波数60Hzで4.64、3KH
zで4.58、1MHzで4.43であった。
【0048】比較例3 実施例2における1,3ビス(3−アミノフェノキシ)
ベンゼン29.24g(0.1モル)を1,3−ビス
(3−アミノベンゾイル)ベンゼン31.64g(0.
1モル)に3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテ
トラカルボン酸二無水物30.40g(0.098モ
ル)をピロメリット酸二無水物21.37g(0.09
8モル)に変えた以外は実施例2と同様に行ってポリイ
ミド粉49.23g(収率98.5%)を得た。かくし
て得られたポリイミド粉の対数粘度は0.45dl/g
であった。このポリイミド粉を用いて実施例2と全く同
様にして厚さ50μmのポリイミドフィルムを作成し、
誘電率を測定したところ、周波数60Hzで4.60、
3KHzで4.57、1MHzで4.46であった。
【0049】比較例4 実施例1における1,3−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン29.24g(0.1モル)を1,3−ビ
ス(3−アミノベンゾイル)ベンゼン31.64g
(0.1モル)に3,3’,4,4’−ジフェニルエー
テルテトラカルボン酸二無水物31.02g(0.1モ
ル)を3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸二無水物32.22g(0.1モル)に変えた以
外は実施例1と同様に行ってポリアミド酸を得た。かく
して得られたポリアミド酸の対数粘度は2.01dl/
gであった。このポリアミド酸を用いて実施例1と全く
同様にして厚さ50μmのポリイミドフィルムを得た。
このポリイミドフィルムを用いて誘電率を測定したとこ
ろ、周波数60Hzで3.95、3KHzで3.91、
1MHzで3.78であった。
【0050】比較例5 実施例2における1,3ビス(3−アミノフェノキシ)
ベンゼン29.24g(0.1モル)を1,3−ビス
(3−アミノベンゾイル)ベンゼン31.64g(0.
1モル)に3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテ
トラカルボン酸二無水物30.40g(0.098モ
ル)を3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸二無水物31.58g(0.098モル)に変え
た以外は実施例2と同様に行ってポリイミド粉59.0
6g(収率98.1%)を得た。かくして得られたポリ
イミド粉の対数粘度は0.52dl/gであった。この
ポリイミド粉を用いて実施例2と全く同様にして厚さ5
0μmのポリイミドフィルムを作成し、誘電率を測定し
たところ、周波数60Hzで3.96、3KHzで3.
92、1MHzで3.78であった。
【0051】比較例6 実施例2における1,3ビス(3−アミノフェノキシ)
ベンゼン29.24g(0.1モル)を1,3−ビス
(3−アミノベンゾイル)ベンゼン31.64g(0.
1モル)に3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテ
トラカルボン酸二無水物30.40g(0.098モ
ル)を2,2−ビス(3,4−ジカルボキシルフェニ
ル)1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン
二無水物43.54g(0.098モル)に変えた以外
は実施例2と同様に行ってポリイミド粉73.62g
(収率97.2%)を得た。かくして得られたポリイミ
ド粉の対数粘度は0.47dl/gであった。このポリ
イミド粉を用いて実施例2と全く同様にして厚さ50μ
mのポリイミドフィルムを作成し、誘電率を測定したと
ころ、周波数60Hzで3.41、3KHzで3.2
3、1MHzで3.17であった。
【0052】実施例1〜17、比較例2〜6において測
定したポリイミドフィルムの誘電率およびガラス転移温
度を表−1(表1〜表3)にまとめてに示す。
【0053】
【表1】
【0054】
【表2】
【0055】
【表3】
【0056】
【発明の効果】本発明のポリイミドは、式(1)で示さ
れる基本骨格を有することを特徴とし、優れた低誘電
性、加工性、耐熱性等を有するポリイミドである。この
ポリイミドは、従来のポリイミドと同様な耐熱性を有し
ながら優れた低誘電性を示し、しかも熱可塑性であるた
め成形加工性も良好であり、産業上特に電気・電子産業
分野においてその利用が大きく期待できるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による実施例2で得られたポリイミド粉
の赤外吸収スペクトルの図である。
【図2】実施例2で得られたポリイミドおよび比較例1
で得られたポリイミドのフローテスターのシレンダー内
滞留時間と溶融粘度変化の関係を測定した結果である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山口 彰宏 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(1)(化1) 【化1】 (式中、Xは少なくとも1つ以上のエーテル又はチオエ
    ーテル結合を含有する炭素数12〜27の縮合多環式芳
    香族基、芳香族基が直接又は架橋員により相互に連結さ
    れた非縮合多環式芳香族基からなる群より選ばれた2価
    の基を示し、Rは炭素数2〜27の脂肪族基、環式脂肪
    族基、単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、芳香族基
    が直接又は、架橋員により相互に連結された非縮合多環
    式芳香族基からなる群より選ばれた4価の基を示す。)
    で表わされる繰り返し構造単位を有する低誘電性ポリイ
    ミド。
  2. 【請求項2】 一般式(1)(化2) 【化2】 (式中、XおよびRは前記の通りである)で表わされる
    繰り返し構造単位を有し、そのポリマーの分子末端が本
    質的に置換基を有しないか、あるいはアミン又はジカル
    ボン酸無水物と反応性を有しない基で置換された芳香族
    環からなる低誘電性ポリイミド。
  3. 【請求項3】 式(1)で表される繰り返し構造単位を
    有するポリイミドの式中のXが、式(2)(化3) 【化3】 又は、式(3)(化4) 【化4】 で表わされる2価の基であることを特徴とする請求項1
    記載の低誘電性ポリイミド。
  4. 【請求項4】 式(1)で表される繰り返し構造単位を
    有するポリイミドの式中のXが、式(2)(化5) 【化5】 (式中、Yは前記の通りである)又は、式(3)(化
    6) 【化6】 (式中、Zは前記の通りである)で表わされる繰り返し
    構造単位を有し、そのポリマーの分子末端が本質的に未
    置換あるいは、アミン又はジカルボン酸無水物と反応性
    を有しない基で置換された芳香族環からなることを特徴
    とする請求項2記載の低誘電性ポリイミド。
  5. 【請求項5】 式(1)で表わされる繰り返し構造単位
    を有するポリイミドの前駆体である下式(4)(化7) 【化7】 (式中X、Rは、前記に同じ)で表わされるポリアミド
    酸をジメチルアセトアミドに0.5g/dlの濃度で溶
    解した後、35℃において測定した対数粘度の値が0.
    01〜3.0dl/gであることを特徴とする請求項1
    または2記載の低誘電性ポリイミド。
  6. 【請求項6】 式(1)で表わされる繰り返し構造単位
    を有するポリイミド粉を9重量部のp−クロロフェノー
    ルと1重量部のフェノールの混合溶媒に、0.5g/d
    lの濃度で加熱溶解した後、35℃において測定した対
    数粘度の値が0.01〜3.0dl/gであることを特
    徴とする請求項1または2記載の低誘電性ポリイミド。
  7. 【請求項7】 式(5) H2 N−X−NH2 (5) (式中Xは、前記に同じ。)で表わされる芳香族ジアミ
    ン化合物と、主として式(6)(化8) 【化8】 (式中Rは、前記に同じ。)で表わされるテトラカルボ
    ン酸二無水物を、有機溶媒中で反応させた後、得られる
    ポリアミド酸を熱的又は化学的にイミド化することを特
    徴とする請求項1記載の低誘電性ポリイミドの製造方
    法。
  8. 【請求項8】 式(7)(化9) 【化9】 (式中Z1 は、炭素数6〜15の単環式芳香族基、縮合
    多環式芳香族基、芳香族基が直接又は架橋員により相互
    に連結された非縮合多環式芳香族基からなる群より選ば
    れた2価の基を示す)で表わされる芳香族ジカルボン酸
    無水物の存在下に、 式(5) H2 N−X−NH2 (5) (式中Xは、前記の通りである)で表わされる芳香族ジ
    アミンと、式(6)(化10) 【化10】 (式中Rは、前記の通りである)で表わされるテトラカ
    ルボン酸二無水物を有機溶媒中で反応させた後、得られ
    るポリアミド酸を熱的又は化学的にイミド化することを
    特徴とする請求項2記載の低誘電性ポリイミドの製造方
    法。
  9. 【請求項9】 式(8) Z2 −NH2 (8) (式中Z2 は、炭素数6〜15の単環式芳香族基、縮合
    多環式芳香族基、芳香族基が直接又は架橋員により相互
    に連結された非縮合多環式芳香族基から選ばれた2価の
    基を示す)で表わされる芳香族モノアミンの存在下に、
    式(5) H2 N−X−NH2 (5) (式中Xは、前記の通りである)で表わされる芳香族ジ
    アミンと、式(6)(化11) 【化11】 (式中Rは、前記の通りである)で表わされるテトラカ
    ルボン酸二無水物を有機溶媒中で反応させた後、得られ
    るポリアミド酸を熱的又は化学的にイミド化することを
    特徴とする請求項2記載の低誘電性ポリイミドの製造方
    法。
  10. 【請求項10】 有機溶媒が、非プロトン性極性溶剤ま
    たはフェノール系溶剤であることを特徴とする請求項
    7、8または9記載の低誘電性ポリイミドの製造方法。
  11. 【請求項11】 芳香族ジカルボン酸無水物が無水フタ
    ル酸である請求項8記載の低誘電性ポリイミドの製造方
    法。
  12. 【請求項12】 芳香族ジカルボン酸無水物の使用量
    が、芳香族ジアミン1モルに対して0.001〜1.0
    モルの割合である請求項8記載の低誘電性ポリイミドの
    製造方法。
  13. 【請求項13】 芳香族モノアミンがアニリンである請
    求項9記載の低誘電性ポリイミドの製造方法。
  14. 【請求項14】 芳香族モノアミンの使用量が、テトラ
    カルボン酸二無水物1モルに対して0.001〜1.0
    モルの割合である請求項9記載の低誘電性ポリイミドの
    製造方法。
  15. 【請求項15】 本質的に、請求項1又は、2記載のポ
    リイミドからなる低誘電性ポリイミドフィルム。
  16. 【請求項16】 請求項1又は、2記載のポリイミドを
    含有するポリイミド系樹脂組成物。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2026070637A1 (ja) * 2024-09-26 2026-04-02 富士フイルム株式会社 樹脂組成物、硬化物、積層体、硬化物の製造方法、積層体の製造方法、半導体デバイスの製造方法、半導体デバイス、及び、ポリイミド

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WO2026070637A1 (ja) * 2024-09-26 2026-04-02 富士フイルム株式会社 樹脂組成物、硬化物、積層体、硬化物の製造方法、積層体の製造方法、半導体デバイスの製造方法、半導体デバイス、及び、ポリイミド

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